| Tên thương hiệu: | Hoan |
| Số mô hình: | HACC221S30V500 |
| MOQ: | 10 miếng |
| Điều khoản thanh toán: | L/C,D/A,D/P,T/T |
Tóm tắt về thực thể.HACC221S30V500 là một tụ điện MOS một lớp 220pF ± 10% trong loạt Hoan HACC, được đánh giá ở 30V DC.Nó được xây dựng trên nền silicon vùng nổi với một dielectric oxit phát triển nhiệt và một bộ đống kim loại mỏng có thể tùy chỉnhNó được thiết kế cho các ứng dụng RF chính xác, nơi mộtđáp ứng điện dung tuyến tính so với điện áp và các giá trị điện dung kim loại hóa hoặc cắt giảm do khách hàng chỉ định là cần thiết.
Hệ thống kim loại hóa và giá trị điện dung cuối cùng đều có thể được đặt ở mức wafer để phù hợp với quy trình của khách hàng.
| Parameter | Giá trị | Điều kiện |
| Khả năng | 220pF ± 10% (± 5% tùy chọn cắt) | 1MHz, 1,0Vrms |
| Điện áp định số DC | 30V | Hoạt động liên tục |
| Dòng điện đệm chịu điện áp | > 100V DC | 1 phút, 25°C |
| C-V Linearity (Đồng số điện áp) | < 10 ppm/V | 0V đến 30V DC |
| Thấm điện dielektrik | < 0,1% | Thông thường |
| Chip nội tại ESL | < 0,05nH | Không được nhúng từ các thông số S |
| Nguyên nhân phân tán | ≤2,5% | 1kHz, 1Vrms |
| Q Factor @ 1MHz | >2000 | Thông thường |
| Q Factor @ 1GHz | > 300 | Thông thường |
| Kháng cách nhiệt | ≥ 1 × 104MΩ | Ở điện áp định số DC |
| Dòng rò rỉ | < 10nA | 30V DC, 25°C |
| TCC | +35ppm/°C | -55°C đến +125°C |
| Đèn điện đệm | Ôxit nhiệt (độ điện) | ️ |
| Substrate | Vùng nổi Si, > 1000Ω·cm | ️ |
| Kích thước chip | 0.50 × 0,50 × 0,15mm | AR tùy chỉnh lên đến 4:1 có sẵn |
| Than hóa trên cùng | TiW + Au, 1,0-4,0μm (cách tùy chỉnh) | Độ dày theo thông số kỹ thuật của khách hàng |
| Sự kim loại hóa phía sau | TiW-Pt-Au, Au ≥ 1,0μm | Rào cản Pt, tương thích với Ag-epoxy |
| Nhiệt độ hoạt động | -55°C đến +125°C | ️ |
| Nhiệt độ lưu trữ | -65°C đến +150°C | ️ |
| RoHS | Phù hợp | EU 2015/863 |
![]()