szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Do domu Created with Pixso. Produkty Created with Pixso.
Kondensatory MOS
Created with Pixso.

Niestandardowe kondensatory MOS z cienką warstwą do przycinania 30V 220pF Jednowarstwowe chipy Ultra-liniowe C-V do precyzyjnych zastosowań RF

Niestandardowe kondensatory MOS z cienką warstwą do przycinania 30V 220pF Jednowarstwowe chipy Ultra-liniowe C-V do precyzyjnych zastosowań RF

Nazwa marki: Hoan
Numer modelu: HACC221S30V500
MOQ: 10 sztuk
Warunki płatności: L/C, D/A, D/P, T/T
Informacje szczegółowe
Miejsce pochodzenia:
Shaanxi, Chiny
Orzecznictwo:
ISO 9001:2015, RoHS
Współczynnik rozpraszania:
<=2,5% przy 1 kHz, 1 Vrms
Dielektryczne odporne napięcie:
>100 V prądu stałego
Niestandardowa geometria:
Standard kwadratowy, prostokątny do 4:1
Typ mocowania:
Mocowanie drutu / matrycy eutektycznej
Temperatura pracy:
-55°C do +125°C
RoHS:
Zgodny (UE 2015/863)
Podkreślić:

Kondensatory MOS o niestandardowej wartości wycięcia cienkiej folii

,

Ultra-liniowy kondensator C-V 220pF

,

Kondensator RF o niestandardowej wartości obróbki

Opis produktu

Niestandardowa wartość przycinania cienkowarstwowego MOS Capacitor HACC221S30V500 — 220pF 30V Ultra-liniowy C-V Jednowarstwowy Chip

Podsumowanie jednostki. HACC221S30V500 to jednowarstwowy kondensator MOS o pojemności 220pF ±10% z serii Hoan HACC, o napięciu znamionowym 30V DC. Jest zbudowany na podłożu krzemowym typu float-zone z dielektrykiem z tlenku termicznie narastającego i konfigurowalnym stosie metalizacji cienkowarstwowej, w chipie o wymiarach 0,50 mm × 0,50 mm × 0,15 mm. Jest przeznaczony do precyzyjnych zastosowań RF, gdzie wymagana jest przewidywalna, liniowa zależność pojemności od napięcia oraz metalizacja lub przycięte wartości pojemności określone przez klienta.


Kluczowe cechy

  • 220pF ±10% (±5% opcja przycinania laserowego) przy 30V DC w chipie 0,50 × 0,50 × 0,15 mm
  • Niestandardowa cienkowarstwowa metalizacja górna, Au od 1,0 µm do 4,0 µm, dopasowana do receptury bondingu
  • Ultra-liniowy C-V: współczynnik napięciowy poniżej 10ppm/V od 0V do 30V
  • Dielektryk tlenkowy paraelektryczny — brak dryftu starzenia i brak histerezy ferroelektrycznej
  • Wewnętrzna indukcyjność chipa ESL poniżej 0,05nH; TiW-Pt-Au od spodu do przyklejania chipów za pomocą Ag-epoksydu i AuSn
  • Temperatura pracy -55°C do +125°C; zgodność z RoHS (UE 2015/863)


Opcje niestandardowej metalizacji cienkowarstwowej i wartości przycinania

System metalizacji i ostateczna wartość pojemności mogą być ustawione na poziomie wafla, aby dopasować się do procesu klienta.

  • Niestandardowa metalizacja cienkowarstwowa: podstawa adhezji/bariery TiW i wykończenie bondingu złotem mogą być określone przez grubość, z Au od 1,0 µm do 4,0 µm do bondingu drutem lub wstążką. Opcjonalna bariera Pt od spodu obsługuje przyklejanie chipów za pomocą srebra epoksydowego i AuSn.
  • Opcje wartości przycinania: pojemność może być przycinana laserowo podczas przetwarzania wafla w celu zaostrzenia dystrybucji; tolerancja ±5% (J) jest dostępna obok standardowej ±10% (K), a niestandardowe wartości w oknie 10pF-1000pF można zamówić na tej samej platformie 0,50 mm.
  • Niestandardowa geometria: standardowy kwadrat, plus prostokątne proporcje do 4:1 i opcjonalna elektroda z obramowaniem (marginesem) do montażu za pomocą epoksydu przewodzącego.


Specyfikacje elektryczne (T = 25°C, chyba że zaznaczono inaczej)

Parametr Wartość Warunek
Pojemność 220pF ±10% (opcja przycinania ±5%) 1MHz, 1,0Vrms
Napięcie znamionowe DC 30V Ciągła praca
Napięcie przebicia dielektryka >100V DC 1 minuta, 25°C
Liniowość C-V (Współczynnik napięciowy) <10 ppm/V 0V do 30V DC
Absorpcja dielektryczna <0,1% Typowy
Wewnętrzna indukcyjność chipa ESL <0,05nH Wyłączona z parametrów S
Współczynnik strat ≤2,5% 1kHz, 1Vrms
Współczynnik Q @ 1MHz >2000 Typowy
Współczynnik Q @ 1GHz >300 Typowy
Rezystancja izolacji ≥1×104 MΩ Przy znamionowym napięciu DC
Prąd upływu <10nA 30V DC, 25°C
TCC +35ppm/°C -55°C do +125°C
Dielektryk Tlenek termiczny (paraelektryczny) —
Podłoże Krzem float-zone, >1000Ω·cm —
Wymiary chipa 0,50 × 0,50 × 0,15 mm Dostępne niestandardowe AR do 4:1
Metalizacja górna TiW + Au, 1,0-4,0 µm (niestandardowa) Grubość wg specyfikacji klienta
Metalizacja od spodu TiW-Pt-Au, Au ≥1,0 µm Bariera Pt, kompatybilna z Ag-epoksydem
Temperatura pracy -55°C do +125°C —
Temperatura przechowywania -65°C do +150°C —
RoHS Zgodny UE 2015/863


Typowe zastosowania

  • Obwody rezonansowe VCO i filtry pętli PLL wymagające stabilnej, niezależnej od napięcia polaryzacji pojemności
  • Precyzyjne sieci dopasowania RF i mikrofalowego oraz blokady DC
  • Dopasowanie wejściowe LNA i niskostratne obejścia, gdzie stabilność strojenia ma znaczenie
  • Stopnie próbkowania i zatrzymania oraz integratory korzystające z niskiej absorpcji dielektrycznej
  • Zestawy chipów wielowartościowych w jednolitym układzie dla zautomatyzowanego montażu hybrydowego


Niestandardowe kondensatory MOS z cienką warstwą do przycinania 30V 220pF Jednowarstwowe chipy Ultra-liniowe C-V do precyzyjnych zastosowań RF