Detalles de los productos

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Condensadores MOS
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Capacitadores MOS de película delgada personalizados con valor de recorte 30V 220pF Chip de capa única Ultra-lineal C-V para RF de precisión

Capacitadores MOS de película delgada personalizados con valor de recorte 30V 220pF Chip de capa única Ultra-lineal C-V para RF de precisión

Nombre De La Marca: Hoan
Número De Modelo: HACC221S30V500
Cantidad Mínima De Pedido: 10 piezas
Condiciones De Pago: LC, D/A, D/P, T/T
Información detallada
Lugar de origen:
Shaanxi, China
Certificación:
ISO 9001:2015, RoHS
Factor de disipación:
<=2,5 % a 1 kHz, 1 Vrms
Tensión de resistencia dieléctrica:
>100 VCC
Geometría personalizada:
Estándar cuadrado, rectangular hasta 4:1
Tipo de montaje:
Fijación de matriz eutéctica / adherible con alambre
Temperatura de funcionamiento:
-55°C a +125°C
RoHS:
Cumple (UE 2015/863)
Resaltar:

Capacitores MOS de película delgada de corte de valor personalizado

,

Capacitador ultra-lineal de C-V 220pF

,

Capacitador RF de valor de recorte personalizado

Descripción de producto

Capacitador MOS de película delgada personalizado con valor de recorte HACC221S30V500

Resumen de la entidad.El HACC221S30V500 es un condensador MOS de una sola capa de 220pF ± 10% de la serie Hoan HACC, con una potencia nominal de 30V DC.Está construido sobre un sustrato de silicio de zona flotante con un dieléctrico de óxido cultivado térmicamente y una pila de metalización de película fina personalizable, en un chip de 0,50 mm × 0,50 mm × 0,15 mm. Está destinado a aplicaciones de RF de precisión donde unSe requieren valores de capacidad lineal frente a la respuesta de voltaje y metalización o capacidad recortada especificados por el cliente..


Características clave

  • 220pF ±10% (opción con corte láser ±5%) a 30 V de CC en un chip de 0,50 × 0,50 × 0,15 mm
  • Metalización superior de película delgada personalizada, Au de 1,0 μm a 4,0 μm, para que coincida con la receta de enlace
  • C-V ultralineal: coeficiente de voltaje inferior a 10ppm/V desde 0V hasta 30V
  • Dielectrico paraeléctrico de óxido sin deriva de envejecimiento y sin histeresis ferroeléctrica
  • ESL de chip intrínseco por debajo de 0,05nH; TiW-Pt-Au en la parte posterior para Ag-epoxi y AuSn
  • Temperatura de funcionamiento de -55°C a +125°C; conforme con la Directiva RoHS (UE 2015/863)


Opciones personalizadas de película delgada y valor de recorte

El sistema de metalización y el valor de la capacitancia final se pueden ajustar al nivel de la oblea para adaptarse al proceso del cliente.

  • Metalización de película delgada a medida:la base de adhesión/barrera de TiW y el acabado de unión de oro pueden especificarse por espesor, con Au de 1,0 μm a 4,0 μm para la unión de alambre o cinta.Una barrera Pt opcional en la parte trasera soporta el adhesivo de plata epoxi y AuSn.
  • Opciones de valor de recorte:La capacidad puede ser recortada con láser durante el procesamiento de las obleas para apretar la distribución; se dispone de una tolerancia de ± 5% (J) junto con el estándar de ± 10% (K),y valores no estándar dentro de una ventana de 10pF-1000pF se pueden ordenar en el mismo 0Plataforma de 50 mm.
  • Geometría personalizada:estándar cuadrado, además de relaciones de aspecto rectangulares de hasta 4:1 y un electrodo de borde (margen) opcional para el ensamblaje de epoxi conductor.


Especificaciones eléctricas (T = 25°C a menos que se indique)

Parámetro Valor Condición
Capacidad 220pF ±10% (opción con recorte de ±5%) 1MHz, 1,0Vrms
Voltagem nominal de corriente continua 30 V Funcionamiento continuo
Válvula de resistencia dieléctrica > 100 V de corriente continua 1 minuto, 25 °C
Linealidad C-V (coeficiente de voltaje) Se aplican las siguientes medidas: 0V a 30V de corriente continua
Absorción dieléctrica < 0,1% Típico
Chip intrínseco ESL Se trata de un tipo de producto que se utiliza para la fabricación de productos químicos. Desintegrado de los parámetros S
Factor de disipación ≤ 2,5% 1kHz, 1Vrms
Factor Q @ 1MHz > 2000 Típico
Factor Q @ 1GHz > 300 Típico
Resistencia al aislamiento ≥ 1 × 104MΩ A tensión nominal en CC
Corriente de fuga El valor de las emisiones 30 V de corriente continua, a 25 °C
El TCC +35 ppm/°C -55°C a +125°C
Dieléctrico Oxido térmico (paraeléctrico) ¿Qué quieres decir?
Substrato Zona flotante Si, > 1000Ω·cm ¿Qué quieres decir?
Dimensiones del chip 0.50 × 0,50 × 0,15 mm AR personalizado hasta 4:1 disponible
Metalización superior TiW + Au, 1,0-4,0 μm (por encargo) espesor conforme a las especificaciones del cliente
Metalización en el reverso TiW-Pt-Au, Au ≥ 1,0 μm Barrera Pt, compatible con Ag-epoxi
Temperatura de funcionamiento -55°C a +125°C ¿Qué quieres decir?
Temperatura de almacenamiento -65°C a +150°C ¿Qué quieres decir?
RoHS Conformidad El artículo 4 se modifica como sigue:


Aplicaciones típicas

  • Circuitos de depósito VCO y filtros de bucle PLL que requieren una capacidad estable e independiente de la inclinación
  • Redes y bloques de coincidencia de RF y microondas de precisión
  • Aparición de entrada de LNA y desvío de baja pérdida cuando la estabilidad de sintonización es importante
  • Las fases de muestreo y retención y de integración que se benefician de una baja absorción dieléctrica
  • Conjuntos de chips de valor múltiple en una huella uniforme para el ensamblaje híbrido automatizado


Capacitadores MOS de película delgada personalizados con valor de recorte 30V 220pF Chip de capa única Ultra-lineal C-V para RF de precisión