| ชื่อแบรนด์: | Hoan |
| หมายเลขรุ่น: | HACC221S30V500 |
| ขั้นต่ำ: | 10 ชิ้น |
| เงื่อนไขการชำระเงิน: | L/C,D/A,D/P,T/T |
สรุปองค์กรHACC221S30V500 เป็นเครื่องปรับ MOS แบบชั้นเดียว 220pF ± 10% ในซีรีส์ Hoan HACC ที่มีค่า 30V DCมันถูกสร้างขึ้นบนสับสราตซิลิคอนโซนพลอยด้วยดีเอเล็คทริกอ๊อกไซด์ที่เติบโตด้วยอุณหภูมิ และค้อนโลหะแผ่นบางที่สามารถปรับแต่งได้, ในชิป 0.50 มิลลิเมตร × 0.50 มิลลิเมตร × 0.15 มิลลิเมตรต้องการความตอบสนองต่อความแรงต่อความจุเชิงเส้นและค่าการผสมผสานโลหะหรือการตัดความจุที่กําหนดโดยลูกค้า.
ระบบโลหะและมูลค่าความจุสุดท้ายสามารถตั้งค่าได้ทั้งในระดับวอฟเฟอร์เพื่อให้เหมาะกับกระบวนการของลูกค้า
| ปริมาตร | มูลค่า | สภาพ |
| ความจุ | 220pF ± 10% ( ± 5% ปรับปรุงตัวเลือก) | 1MHz 1.0Vrms |
| ความดันแบบเรียงลําดับ DC | 30V | การทํางานต่อเนื่อง |
| ความดันทนทานแบบแบบดียิเลคทริก | > 100V DC | 1 นาที 25°C |
| ความเส้นตรง C-V (ปริมาณความดัน) | < 10 ppm/V | 0V ถึง 30V DC |
| การดึงดูดไฟฟ้า Dielectric | < 0.1% | แบบปกติ |
| ชิปภายใน ESL | < 0.05nH | De-embedded from S-parameters ปริมาตรการของ S-parameters |
| ปัจจัยการระบาย | ≤2.5% | 1kHz, 1Vrms |
| Q Factor @ 1MHz | >2000 | แบบปกติ |
| Q Factor @ 1GHz | > 300 | แบบปกติ |
| ความต้านทานต่อการปิด | ≥ 1 × 104MΩ | ในระดับความดันเฉพาะแบบ DC |
| กระแสรั่ว | < 10nA | 30V DC, 25°C |
| TCC | +35ppm/°C | -55°C ถึง +125°C |
| ไดเอเลคทริก | อ๊อกไซด์ความร้อน (ปาราไฟฟ้า) | รางวัล |
| สับสราต | โซนลอย Si > 1000Ω·cm | รางวัล |
| ขนาดชิป | 0.50 × 0.50 × 0.15 มิลลิเมตร | AR ที่กําหนดเองสูงสุด 4:1 |
| โลหะสูงสุด | TiW + Au, 1.0-4.0μm (ตามสั่ง) | ความหนาตามรายละเอียดของลูกค้า |
| การทําโลหะด้านหลัง | TiW-Pt-Au, Au ≥ 1.0μm | ป้องกัน Pt รองรับ Ag-epoxy |
| อุณหภูมิการทํางาน | -55°C ถึง +125°C | รางวัล |
| อุณหภูมิในการเก็บ | -65°C ถึง +150°C | รางวัล |
| RoHS | สอดคล้อง | ยูโรป 2015/863 |
![]()