รายละเอียดสินค้า

Created with Pixso. บ้าน Created with Pixso. สินค้า Created with Pixso.
เครื่องปรับความแรง MOS
Created with Pixso.

ใกล้ศูนย์ความเคลื่อนไหวทางอุณหภูมิ 1000 pF MOS Capacitor Wafer Probed KGD ชิปชั้นเดียวสําหรับ RF อุณหภูมิสูง

ใกล้ศูนย์ความเคลื่อนไหวทางอุณหภูมิ 1000 pF MOS Capacitor Wafer Probed KGD ชิปชั้นเดียวสําหรับ RF อุณหภูมิสูง

ชื่อแบรนด์: Hoan
หมายเลขรุ่น: HACC102S80V750KGD
ขั้นต่ำ: 10 ชิ้น
เงื่อนไขการชำระเงิน: T/T,L/C,D/A,D/P
ข้อมูลรายละเอียด
สถานที่กำเนิด:
มณฑลส่านซีประเทศจีน
ได้รับการรับรอง:
ISO 9001:2015
ความไวต่อความชื้น:
MSL 1 (อายุพื้นไม่จำกัดต่อ J-STD-020)
ความครอบคลุมการทดสอบระดับเวเฟอร์:
ตรวจสอบความจุ การรั่วไหลและการพังทลาย 100% บนเวเฟอร์
เกรดคุณภาพ:
KGD (Known Good Die) ตรวจสอบและคัดกรองเวเฟอร์ 100%
การใช้งาน:
RF อุณหภูมิสูง เครือข่ายไบแอสของเครื่องขยายเสียง โมดูลโทรคมนาคมและอุตสาหกรรม
เน้น:

ตัวเก็บประจุ MOS 1

,

000 pF

,

เครื่องปรับความร้อน MOS ใกล้ศูนย์

คําอธิบายสินค้า

HACC102S80V750KGD - ตัวเก็บประจุ MOS ที่มีการดริฟท์ความร้อนใกล้ศูนย์ 1000 pF, 80V, Wafer Probed KGD Single Layer Chip

โดยสรุป: HACC102S80V750KGD เป็นตัวเก็บประจุ MOS แบบชั้นเดียวที่สามารถต่อสายได้ มีค่า 1000 pF ±10% ที่ 80V DC พร้อมไดอิเล็กทริก COG/NPO ที่มีการดริฟท์ความร้อนใกล้ศูนย์ ทุกชิปได้รับการทดสอบที่ระดับเวเฟอร์ 100% และจัดส่งเป็น Known Good Die (KGD) เพื่อให้ได้ผลผลิตในการประกอบสูงในวงจร RF, โทรคมนาคม และอุตสาหกรรมที่มีอุณหภูมิสูง


ข้อได้เปรียบด้านประสิทธิภาพหลัก

1. การดริฟท์ความร้อนใกล้ศูนย์ & สัมประสิทธิ์อุณหภูมิสูง

  • ไดอิเล็กทริก Class I COG/NPO ที่มี TCC 0 ±30 ppm/°C ในช่วง -55°C ถึง +125°C ทำให้ค่าความจุเปลี่ยนแปลงน้อยกว่า ±0.3% ในช่วงเต็ม
  • สัมประสิทธิ์ไบแอส DC ใกล้ศูนย์ (<10 ppm/V) ป้องกันการปรับจูนเครือข่ายการจับคู่ภายใต้ไบแอส
  • ไม่มีการเสื่อมสภาพ (Zero aging) ดังนั้นค่าความจุจะคงที่ตลอดอายุการใช้งานของผลิตภัณฑ์
  • เหมาะสำหรับวงจร VCO, ไบแอสที และฟิลเตอร์ความแม่นยำที่ทำงานที่อุณหภูมิสูง

2. การทดสอบที่ระดับเวเฟอร์ 100% & คุณภาพ KGD (Known Good Die)

  • ทุกชิปได้รับการทดสอบทางไฟฟ้าที่ระดับเวเฟอร์สำหรับค่าความจุ, การรั่วไหล และการทนแรงดันก่อนการตัด
  • จัดส่งเป็น Known Good Die เพื่อให้ได้ผลผลิตสูงสุดในการประกอบแบบไฮบริด, MCM และชิปบนบอร์ด
  • แรงดันไฟฟ้าทนไดอิเล็กทริก >200V (>2.5× พิกัด) ทดสอบการผลิต 100%
  • การรั่วไหลต่ำมาก: <10 nA @ 25°C และ <100 nA @ 125°C ที่ไบแอส DC เต็ม 80V
  • การเคลือบโลหะด้านบนแบบต่อสายได้ TaN/TiW/Ni/Au (≥2.5 µm Au) และด้านหลัง TiW-Pt-Au สำหรับการยึดชิปแบบสากล
  • มีการติดตามรุ่นและข้อมูล S-parameter ต่อรุ่นการผลิต


ข้อมูลจำเพาะทั่วไป

พารามิเตอร์ ค่า เงื่อนไขการทดสอบ
ค่าความจุปกติ 1000 pF ±10% 1 MHz, 1.0 Vrms, 25°C
แรงดันไฟฟ้า DC พิกัด 80V ต่อเนื่อง, -55°C ถึง +125°C
แรงดันไฟฟ้าทนไดอิเล็กทริก >200V (>2.5× พิกัด) คงค้าง 5 วินาที, ทดสอบ 100%
TCC 0 ±30 ppm/°C COG/NPO, -55°C ถึง +125°C
กระแสรั่วไหล <10 nA @ 25°C; <100 nA @ 125°C 80V DC
ปัจจัย Q >2000 @ 1 MHz ทั่วไป
ESR @ 1 GHz <0.1 โอห์ม De-embedded
ESL ของชิปภายใน <0.05 nH S-parameter de-embedded
ขนาดชิป 0.75 × 0.75 × 0.20 มม. ±25 µm
อุณหภูมิการทำงาน -55°C ถึง +125°C พารามิเตอร์เต็ม
คุณภาพ ทดสอบที่ระดับเวเฟอร์ 100%, KGD การคัดกรองระดับเวเฟอร์


การใช้งาน

  • วงจร RF และไมโครเวฟอุณหภูมิสูง
  • การแยกวงจรไบแอสของแอมพลิฟายเออร์กำลัง
  • ฟิลเตอร์ความแม่นยำและวงจร VCO tank
  • โมดูลโทรคมนาคม, อุตสาหกรรม และเครื่องมือวัด


ใกล้ศูนย์ความเคลื่อนไหวทางอุณหภูมิ 1000 pF MOS Capacitor Wafer Probed KGD ชิปชั้นเดียวสําหรับ RF อุณหภูมิสูง