szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Do domu Created with Pixso. Produkty Created with Pixso.
Kondensatory MOS
Created with Pixso.

Wielkich temperatur 1000 pF jednowarstwowy kondensator MOS o niskiej emisji gazu dla elektroniki obrony lotniczej

Wielkich temperatur 1000 pF jednowarstwowy kondensator MOS o niskiej emisji gazu dla elektroniki obrony lotniczej

Nazwa marki: Hoan
Numer modelu: HACC102S100V500
MOQ: 10 sztuk
Warunki płatności: T/T, L/C, D/A, D/P
Informacje szczegółowe
Miejsce pochodzenia:
Shaanxi, Chiny
Orzecznictwo:
ISO 9001:2015, RoHS 2015/863, ASTM E595 Outgassing Tested
Typ mocowania:
Drut wiążący / eutektyka AuSn, przewodząca żywica epoksydowa lub spiekane srebro
Siła ciągnięcia drutu:
> 6 gf dla drutu Au 25 µm (MIL-STD-883 metoda 2011.7)
Ocena ESD:
Klasa 0 (HBM) zgodnie z JESD22-A114
Wrażliwość na wilgoć:
MSL 1 według J-STD-020
Podkreślić:

1000 pF kondensator MOS lotniczy

,

jednowarstwowy kondensator MOS o niskim wydzielaniu gazu

,

elektronika obronna kondensatorów MOS o dużej temperaturze

Opis produktu

HACC102S100V500 Szerokotemperaturowy Kondensator MOS Jednowarstwowy 1000 pF 100V Chip

Krótka odpowiedź: HACC102S100V500 to jednowarstwowy kondensator MOS o pojemności 1000 pF ±10% i napięciu znamionowym 100V DC, wykonany na krzemie typu float-zone z dielektrykiem SiO₂ o grubości 300 nm, termicznie narastającym, w chipie o wymiarach 0,50 x 0,50 x 0,15 mm. Jest przeznaczony do montażu w szerokim zakresie temperatur, o niskiej emisji gazów, z mocowaniem na płytce i połączeniami drutowymi. Pojemność, napięcie znamionowe, geometria chipa, rodzaj dielektryka i układ metalizacji są konfigurowalne.Czystość klasy półprzewodnikowej i niska emisja gazów dla zastosowań ultra-czystych dielektryku w chipie o wymiarach 0,50 x 0,50 x 0,15 mm. Jest przeznaczony do montażu w szerokim zakresie temperatur, o niskiej emisji gazów, z mocowaniem na płytce i połączeniami drutowymi. Pojemność, napięcie znamionowe, geometria chipa, rodzaj dielektryka i układ metalizacji są konfigurowalne.


Specyfikacje w skrócie

Parametr Wartość
Pojemność 1000 pF ±10% (dostępne ±5%)
Znamionowe napięcie DC 100V
Dielektryk jest paraelektrykiem, więc pojemność pozostaje tam, gdzie umieścił ją projektant. Współczynnik temperaturowy wynosi 0 ±30 ppm/°C w zakresie od -55°C do +125°C, współczynnik napięcia DC jest poniżej 10 ppm/V od 0V do pełnego napięcia znamionowego 100V, i nie ma starzenia ferroelektrycznego, więc długa żywotność nie oznacza cichego dryfu wartości. Wersja rozszerzona jest testowana w zakresie od -65°C do +200°C z raportem kwalifikacyjnym na partię na żądanie, a 1000 cykli termicznych między -65°C a +150°C nie powoduje delaminacji elektrody. Typowe zastosowania to awionika, dystrybucja zasilania magistrali satelitarnych, przednie stopnie radarów, wysokotemperaturowe sterowanie przemysłowe i aparatura do zastosowań podziemnych.Czystość klasy półprzewodnikowej i niska emisja gazów dla zastosowań ultra-czystych, 300 nm
Rozmiar chipa 0,50 x 0,50 x 0,15 mm
Współczynnik Q >2000 przy 1 MHz, >200 przy 1 GHz
ESR przy 1 GHz <0,1 Ω
Wewnętrzne ESL <0,05 nH
TCC 0 ±30 ppm/°C
Prąd upływu <10 nA przy 25°C, <100 nA przy 125°C
Emisja gazów TML <0,60%, CVCM <0,05% wg ASTM E595Elektroda górnaTaN/TiW/Ni/Au, ≥2,5 µm Au, możliwość połączeń drutowych
Temperatura pracy Wersja rozszerzona od -65°C do +200°C
MSL MSL 1 wg J-STD-020
Szerokotemperaturowa stabilność dla elektroniki lotniczej i obronnej Termiczny SiO


2

jest paraelektrykiem, więc pojemność pozostaje tam, gdzie umieścił ją projektant. Współczynnik temperaturowy wynosi 0 ±30 ppm/°C w zakresie od -55°C do +125°C, współczynnik napięcia DC jest poniżej 10 ppm/V od 0V do pełnego napięcia znamionowego 100V, i nie ma starzenia ferroelektrycznego, więc długa żywotność nie oznacza cichego dryfu wartości. Wersja rozszerzona jest testowana w zakresie od -65°C do +200°C z raportem kwalifikacyjnym na partię na żądanie, a 1000 cykli termicznych między -65°C a +150°C nie powoduje delaminacji elektrody. Typowe zastosowania to awionika, dystrybucja zasilania magistrali satelitarnych, przednie stopnie radarów, wysokotemperaturowe sterowanie przemysłowe i aparatura do zastosowań podziemnych.Czystość klasy półprzewodnikowej i niska emisja gazów dla zastosowań ultra-czystychPonieważ dielektryk jest termicznie narastający w fabryce płytek, a nie osadzany z zawiesiny ceramicznej, gotowy chip nie zawiera spoiwa, środka spulchniającego ani pozostałego nośnika organicznego. Całkowita utrata masy wynosi poniżej 0,60%, a zebrane skondensowane materiały lotne poniżej 0,05% wg ASTM E595, znacznie poniżej limitów przesiewowych stosowanych do sprzętu wystawionego na działanie próżni. Ma to znaczenie wszędzie tam, gdzie skondensowana warstwa mogłaby zaparować powierzchnię optyczną lub zanieczyścić detektor: komory aparatury próżniowej, kolumny wiązek elektronów i jonów, optyka spektrometrów masowych, zamknięte pakiety czujników i zespoły ładunków satelitarnych. Identyfikowalność partii płytek i, na żądanie, dane analizy gazów resztkowych są dostarczane z każdą partią.


Typowe zastosowania

Dystrybucja zasilania magistrali satelitarnych i blokowanie DC ładunku


Odwzajemnianie zasilania modułów nadawczo-odbiorczych z fazowaną anteną

  • Sieci dopasowujące przednie stopnie radarów od pasma X do Ka
  • Elektronika awioniki i sterowania silnikiem w podwyższonych temperaturach
  • Aparatura próżniowa, optyka jonowa i przednie stopnie spektrometrów masowych
  • Aparatura do zastosowań podziemnych i geotermalnych
  • Odwzajemnianie zasilania drenażu HEMT GaN-on-SiC (zasilanie 28-50V)



Wielkich temperatur 1000 pF jednowarstwowy kondensator MOS o niskiej emisji gazu dla elektroniki obrony lotniczej