szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Do domu Created with Pixso. Produkty Created with Pixso.
Kondensatory MOS
Created with Pixso.

Ultra-kompaktowy 100 pF jednowarstwowy kondensator MOS 0,25 mm obudowa 50V do integracji systemów o wysokiej gęstości

Ultra-kompaktowy 100 pF jednowarstwowy kondensator MOS 0,25 mm obudowa 50V do integracji systemów o wysokiej gęstości

Nazwa marki: Hoan
Numer modelu: HACC101S50V250
MOQ: 10 sztuk
Warunki płatności: T/T, L/C, D/A, D/P
Informacje szczegółowe
Miejsce pochodzenia:
Shaanxi, Chiny
Orzecznictwo:
ISO 9001:2015
Zakres pojemności:
10 pF do 1000 pF na tej platformie
Napięcie znamionowe:
50 V prądu stałego
Wymiary chipa:
0,25 x 0,25 x 0,10 mm (±20 µm)
Typ mocowania:
Łączenie drutem / przewodząca żywica epoksydowa lub matryca eutektyczna AuSn
Ocena ESD:
Klasa 0 (HBM) zgodnie z JESD22-A114
Wrażliwość na wilgoć:
MSL 1 według J-STD-020
Podkreślić:

Czip kondensatora MOS 100 pF

,

kondensator MOS o obudowie 0

,

25 mm

Opis produktu

HACC101S50V250 Ultra-kompaktowy 100 pF 50V jednowarstwowy kondensator MOS

Krótka odpowiedź:HACC101S50V250 to jednowarstwowy kondensator MOS o pojemności 100 pF ± 10% i nominalnej mocy prądu stałego 50 V, zbudowany na krzemu w strefie pływającej o temperaturze SiO 300 nm2jest umieszczany przez przymocowanie i połączony przez wiązanie drutu i jest stosowany, gdy powierzchnia płyty lub podłoża jest ograniczającym ograniczeniem projektowym.napięcie nominalne, geometria chipów, typ dielektryczny i metalizacja są dostosowywalne.


Specyfikacje na pierwszy rzut oka

Parametry Wartość
Pojemność 100 pF ±10% (±5% dostępne)
Narysowane napięcie prądu stałego 50 V
Elektryczne SiO cieplny2, 300 nm
Wielkość chipa 00,25 x 0,25 x 0,10 mm
Czynnik Q > 2000 przy 1 MHz, > 200 przy 1 GHz
ESR w 1 GHz < 0,1 Ω
ESL wewnętrzny < 0,05 nH
TCC 0 ± 30 ppm/°C
Wyciek < 10 nA w temperaturze 25°C
Elektroda górna TiW-Pt-Au, ≥2,5 μm Au, wiązane z drutem
Temperatura pracy -55°C do +125°C
MSL MSL 1 na J-STD-020


Czystość półprzewodnikowa i niskie emisje gazu do zastosowań ultraczystych

Dielektryczny jest hodowany w fabryce płytek na krzemowym pływającym, zamiast być odkładany z ceramicznego nawozu, więc gotowy układ nie zawiera żadnego wiążącego, pomocnika do spiekania ani pozostałego nośnika organicznego.Całkowita utrata masy jest mniejsza niż 10,0% i zebranych lotnych materiałów kondensacyjnych poniżej 0,10%, w granicach granic przesiewowych ASTM E595, stosowanych do sprzętu narażonego na próżnię.To ma znaczenie, gdy skondensowany film może zagłuszyć powierzchnię optyczną lub skazić detektor.Na przykład komory przyrządów próżniowych, kolumny wiązki elektronów i jonów, optyka spektrometru masy i zamknięte opakowania czujników.


Wyższa kompatybilność z wiązaniem drutu do montażu o wysokiej wydajności

Górna elektroda to rozpylanie TiW-Pt-Au z co najmniej 2,5 μm złota, które rozprzestrzenia 40-100 mW energii ultradźwiękowej przez podłogę zamiast napędzać ją do dielektryku.który jest zwykłą przyczyną kraterów i wiązania na częściach o cienkiej warstwieTypowa siła przyciągania wynosi ponad 6 gf dla drutu złota o długości 25 μm.Okno procesu obejmuje 18-25 μm Au termozonowe wiązanie kulkowe w temperaturze 120-150 °C i 25 μm Al ultradźwiękowe wiązanie klinowe w temperaturze pokojowej, a bariera Pt zapobiega wydalania złota podczas euektyki.


Typowe zastosowania

  • Połączenie i obejście modułu nadawcowo-odbiorczego w fazowym układzie
  • Zwiększacz mocy GaN i GaAs blokujący prąd stały i odłączający odchylenie drenażu
  • Sieci dopasowujące ładunek użytkowy satelitarny w paśmie L do paśmie Ka
  • Moduły przednie radarowe i V2X (76-81 GHz)
  • Przyrządy próżniowe, optyka jonowa i widma masowego
  • Bloki stałego prądu nadajnika optycznego (100G/400G QSFP-DD, OSFP)
  • Podsystemy RF medyczne, takie jak elektronika magnetyczna


Ultra-kompaktowy 100 pF jednowarstwowy kondensator MOS 0,25 mm obudowa 50V do integracji systemów o wysokiej gęstości