rincian produk

Created with Pixso. Rumah Created with Pixso. Produk Created with Pixso.
Kondensator MOS
Created with Pixso.

Chip Kapasitor MOS Lapisan Tunggal Ultra-Kompak 100 pF Jejak 0,25 mm 50V untuk Integrasi Sistem Kepadatan Tinggi

Chip Kapasitor MOS Lapisan Tunggal Ultra-Kompak 100 pF Jejak 0,25 mm 50V untuk Integrasi Sistem Kepadatan Tinggi

Nama Merek: Hoan
Nomor Model: HACC101S50V250
MOQ: 10 buah
Ketentuan Pembayaran: T/T,L/C,D/A,D/P
Informasi Rinci
Tempat asal:
Shaanxi, Tiongkok
Sertifikasi:
ISO 9001:2015
Rentang kapasitansi:
10 pF hingga 1000 pF pada platform ini
Tegangan terukur:
50VDC
Dimensi Keping:
0,25 x 0,25 x 0,10 mm (±20 µm)
Tipe Pemasangan:
Kawat Bondable / Konduktif Epoxy atau AuSn Eutectic Die Attach
Peringkat ESD:
Kelas 0 (HBM) per JESD22-A114
Sensitivitas Kelembaban:
MSL 1 per J-STD-020
Menyoroti:

chip kapasitor MOS 100 pF

,

kapasitor MOS jejak 0

,

25 mm

Deskripsi Produk

HACC101S50V250 Ultra-Compact 100 pF 50V Single Layer MOS Capacitor Chip

Jawaban singkat: HACC101S50V250 adalah kapasitor MOS lapisan tunggal dengan kapasitansi 100 pF ±10% & peringkat DC 50V, dibangun di atas silikon float-zone dengan SiO termal 300 nm2 dielektrik dalam chip 0,25 x 0,25 x 0,10 mm. Dipasang dengan die attach dan dihubungkan dengan wire bonding, dan digunakan di mana area papan atau substrat adalah kendala desain yang membatasi. Kapasitansi, peringkat tegangan, geometri chip, jenis dielektrik, dan tumpukan metalisasi semuanya dapat disesuaikan.


Spesifikasi Sekilas

Parameter Nilai
Kapasitansi 100 pF ±10% (±5% tersedia)
Tegangan DC Terukur 50V
Dielektrik SiO Termal2, 300 nm
Ukuran Chip 0,25 x 0,25 x 0,10 mm
Faktor Q >2000 pada 1 MHz, >200 pada 1 GHz
ESR pada 1 GHz <0,1 Ω
ESL Intrinsik <0,05 nH
TCC 0 ±30 ppm/°C
Kebocoran <10 nA pada 25°C
Elektroda Atas TiW-Pt-Au, ≥2,5 µm Au, dapat di-wire bond
Suhu Operasi -55°C hingga +125°C
MSL MSL 1 per J-STD-020


Kemurnian Tingkat Semikonduktor dan Pengeluaran Gas Rendah untuk Aplikasi Ultra-Bersih

Dielektrik ditumbuhkan di pabrik wafer pada silikon float-zone alih-alih dideposisikan dari bubur keramik, sehingga chip jadi tidak mengandung pengikat, bantuan sintering, atau kendaraan organik sisa. Total kehilangan massa kurang dari 1,0% dan bahan terkondensasi yang mudah menguap terkumpul kurang dari 0,10%, di dalam batas penyaringan ASTM E595 yang diterapkan pada perangkat keras yang terpapar vakum. Hal itu penting di mana film terkondensasi akan mengaburkan permukaan optik atau mengkontaminasi detektor, misalnya ruang instrumen vakum, kolom berkas elektron dan ion, optik spektrometer massa, dan paket sensor tertutup. Dokumentasi ketertelusuran lot wafer disertakan dengan setiap pengiriman.


Kompatibilitas Wire-Bonding Unggul untuk Perakitan Hasil Tinggi

Elektroda atas adalah tumpukan TiW-Pt-Au yang disputter dengan setidaknya 2,5 µm emas. Emas yang lentur menyebarkan energi ultrasonik 40-100 mW ke seluruh bantalan alih-alih mendorongnya ke dalam dielektrik, yang merupakan penyebab umum kawah dan tembus pada bagian film tipis. Kekuatan tarik tipikal di atas 6 gf untuk kawat emas 25 µm. Jendela proses mencakup pengikatan bola thermosonik Au 18-25 µm pada suhu tahap 120-150°C dan pengikatan baji ultrasonik Al 25 µm pada suhu kamar, dan penghalang Pt mencegah pelindian emas selama peleburan eutektik.


Aplikasi Khas

  • Penggandengan dan bypass modul pemancar/penerima phased-array
  • Pemblokiran DC dan dekupling bias drain penguat daya GaN dan GaAs
  • Jaringan pencocokan muatan satelit L-band hingga Ka-band
  • Modul depan radar dan V2X (76-81 GHz)
  • Instrumentasi vakum, optik ion, dan ujung depan spektrometer massa
  • Blok DC transceiver optik (100G/400G QSFP-DD, OSFP)
  • Sub-sistem RF medis seperti elektronik koil MRI


Chip Kapasitor MOS Lapisan Tunggal Ultra-Kompak 100 pF Jejak 0,25 mm 50V untuk Integrasi Sistem Kepadatan Tinggi