| 브랜드 이름: | Hoan |
| 모델 번호: | HNM221S30V500 |
| MOQ: | 10개 |
| 지불 조건: | T/T,L/C,D/A,D/P |
요약: HNM221S30V500은 플로트 존 실리콘 기반에 열 산화 실리콘(SiO₂ ) 유전체와 전체 금(TiW-Au) 전극 시스템으로 제작된 단일층 MOS(금속-산화물-반도체) 칩 커패시터로, 220 pF / 30 V DC 정격입니다. 비자성, 온도 안정성이 뛰어나며 0.05 nH 미만의 고유 인덕턴스를 제공하여 자기 간섭, 드리프트 및 ESL이 중요한 광대역 RF 바이패스 및 디커플링을 위한 단일층 MOS 커패시터 옵션입니다. 커패시턴스 값, 칩 형상 및 금속화는 맞춤 설정 가능합니다.
| 매개변수 | 값 | 테스트 조건 |
| 정전 용량 | 220 pF ±10% | 1 MHz, 1.0 Vrms |
| 허용 오차 옵션 | ±10% (K), ±5% (J) | — |
| 정격 DC 전압 | 30 V | 연속 |
| 절연 강도 | >100 V DC | 1분, 25 °C |
| 고유 칩 ESL | <0.05 nH | S-파라미터에서 디임베딩됨 |
| Q 계수 @ 1 MHz / 1 GHz | >2000 / >200 | 일반 |
| ESR @ 1 GHz | <0.1 Ω | 일반 |
| TCC | +35 ppm/°C | −55 °C ~ +125 °C |
| DC 바이어스 계수 | <10 ppm/V | 0 V ~ 정격 |
| 누설 전류 | <10 nA | 30 V DC, 25 °C |
| 유전체 / 기판 | 열 산화 실리콘(SiO₂) 300 nm / 플로트 존 Si >1000 Ω·cm | — |
| 작동 / 보관 | −55 ~ +125 °C / −65 ~ +150 °C | — |
| RoHS | 준수 | EU 2015/863 |
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