| Merknaam: | Hoan |
| Modelnummer: | HNM221S30V500 |
| MOQ: | 10 stuks |
| Betalingsvoorwaarden: | T/T,L/C,D/A,D/P |
SamenvattingDeHNM221S30V500is een enkellagige MOS-chipcapacitor (metal-oxide-halfgeleider) met een nominale 220 pF / 30 V DC, gebouwd op float-zone silicium met een thermische SiO&sub2; dielektrische en een geheel goud (TiW-Au) elektrode systeem.Het is niet-ferromagnetisch, temperatuurstabiel en biedt intrinsieke inductance onder 0,05 nH, waardoor het een enkellagige MOS-capacitoroptie is voor breedband RF-bypassing en ontkoppeling waar magnetische interferentie, drift,en ESL-materiaalDe capaciteitswaarde, de chipgeometrie en de metallisatie zijn aanpasbaar.
| Parameter | Waarde | Testconditie |
| Capaciteit | 220 pF ±10% | 1 MHz, 1,0 Vrms |
| Opties voor tolerantie | ±10% (K), ±5% (J) | — |
| Nominale gelijkstroomspanning | 30 V | Continu |
| Dielectrische sterkte | > 100 V gelijkstroom | 1 minuut, 25 °C |
| Intrinsieke chip ESL | < 0,05 nH | De S-parameters zijn losgemaakt. |
| Q-factor @ 1 MHz / 1 GHz | > 2000 / > 200 | Typisch |
| ESR @ 1 GHz | < 0,1 Ω | Typisch |
| TCC | +35 ppm/°C | -55 °C tot +125 °C |
| DC-biascoëfficiënt | < 10 ppm/V | 0 V naar nominale |
| Leekstroom | < 10 nA | 30 V gelijkstroom, 25 °C |
| Dielectricum/substraat | Thermische SiO&sub2; 300 nm / zwevende zone Si > 1000 Ω·cm | — |
| Bewerking / opslag | -55 tot +125 °C / -65 tot +150 °C | — |
| RoHS | Voldoende | EU 2015/863 |
![]()