超高圧分解 1000 pF 100 V MOS コンデンサータ (HACC102S100V500) 安定したダイレクトリック,ワイヤル結合可能なユーテキス式ダイアタッチチップ
概要:ハーンHACC102S100V5001000 pF ±10%の単層MOSコンデンサで,100VDCで,ダイエレクトリック抵抗電圧 250 V DC (250% 定数電圧) 以上,a安定した 0 ± 30 ppm/°C ダイレクトリック-55°Cから+125°C以上,金属化システムで,金線結合そしてユーテキック・ダイ・アタッチ.
単層MOS コンデンサータとは?
A についてMOS コンデンサ(Metal_Oxide_Semiconductor) は,熱栽培された二酸化シリコン (SiO) を使用する単層コンデンサターです.2) 高抵抗性シリコン基板上に金属電極を上と下に置く.内部電極スタックがない場合,電流は垂直的に1つの電解層を通過します.固有等価系列誘導力 (ESL) がゼロに近い多層セラミックコンデンサター (MLCC) と比べると高い自己共鳴周波数 (SRF) と予測可能な温度動作.
主要なパフォーマンスメリット
- 超電圧分解◎ 250 V DC (250% の 100 V の連続電圧) を超えた電圧耐圧,部品1個につき 100% の生産量で試験.
- ダイレクトリック安定性熱性SiOのCOG/NPO等価 Iクラス2温度系数 0 ± 30 ppm/°Cから -55°Cから +125°C,DCバイアス系数 (<10 ppm/V) はほとんどなく,鉄電気老化がない.
- ワイヤル-ボンドブル & ユーテキストック・ダイ・アタッチ 準備│上部TiW-Auスタック (≥2.5μmAu) は, >6gfの引き力で25μmの金線結合をサポートする.裏側TiW-Pt-Auはプラチナの拡散障壁で,信頼性の高いAuSn (80/20) ユーテクトスと伝導性エポキシ型ダイア付着を可能にします..
- 漏れが少ない定位電圧で25°Cで<10nA,125°Cで<100nA
- ESRが低い効率的なRFバイパスのために,1GHzで通常<0.1 Ω.
![]()
電気仕様 (T = 25°C 記載がない限り)
| パラメータ | 価値 | 条件 |
| 容量 | 1000 pF ±10% (±5%利用可能) | 1MHz,1.0Vrms |
| 定数電圧 (DC) | 100V | 連続 |
| ダイレクトリック 抵抗電圧 | >250V DC (250%名乗) | 5 秒間,100%テスト |
| TCCについて | 0 ± 30 ppm/°C | -55°Cから+125°C |
| 消耗因子 | ≤0.15% | 1kHz,1.0 Vrms |
| 流出電流 | <10 nA @ 25°C / <100 nA @ 125°C | 定位電圧で |
| 断熱抵抗 | ≥104 MΩ | 定位電圧で 25°C |
| ESR @ 1 GHz | <0.1 Ω | 典型的な |
| 内在チップESL | <0.05 nH | 組み込まれてない |
| 自動共鳴周波数 | >1.5 GHzチップレベル, >600 MHz 0.5mmのボンドワイヤ | 典型的な |
| ダイレクトリック吸収 | <0.1% | 1kHz |
| チップの寸法 | 0.50 × 0.50 × 0.15 mm | ±25 μm |
| トップ金属化 | TiW-Au, ≥2.5 μm Au | ワイヤリング |
| 裏側金属化 | TiW-Pt-Au, ≥1.0 μm Au (Ptバリア) | AuSn / エポキシ準備 |
| ワイヤー・ボンド引力 | 25 μm オウワイヤのgf > 6 | MIL-STD-883 メソッド 20117 |
| ESD評価 | JESD22-A114 による0級 (HBM) | - |