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MOSキャパシタ
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優れた耐電圧 1000pF 100V MOSコンデンサ 安定誘電体 ワイヤボンディング可能共晶チップ

優れた耐電圧 1000pF 100V MOSコンデンサ 安定誘電体 ワイヤボンディング可能共晶チップ

ブランド名: Hoan
モデル番号: HACC102S100V500
MOQ: 10個
支払い条件: L/C、D/A、D/P、T/T
詳細情報
起源の場所:
陝西省、中国
証明:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
取付タイプ:
ワイヤーボンディング可能/共晶ダイアタッチ (AuSn)
ワイヤーボンドの引っ張り強度:
>6 gf(25 um Au ワイヤの場合)
動作温度:
-55℃~+125℃
ESDの評価:
クラス 0 (HBM) JESD22-A114 に準拠
カスタマイズ:
静電容量 10 pF ~ 1000 pF、電圧 6.3 V ~ 200 V、ダイ形状およびメタライゼーションが利用可能
包装:
ESD 対応の導電性ワッフル パックまたはゲルパック、窒素ドライパック輸出用カートン
証明:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
ハイライト:

1000pF MOSキャパシタ 安定誘電体

,

100V MOSキャパシタ ワイヤボンディング可能

,

共晶チップ MOSキャパシタ

製品の説明

超高圧分解 1000 pF 100 V MOS コンデンサータ (HACC102S100V500) 安定したダイレクトリック,ワイヤル結合可能なユーテキス式ダイアタッチチップ


概要:ハーンHACC102S100V5001000 pF ±10%の単層MOSコンデンサで,100VDCで,ダイエレクトリック抵抗電圧 250 V DC (250% 定数電圧) 以上,a安定した 0 ± 30 ppm/°C ダイレクトリック-55°Cから+125°C以上,金属化システムで,金線結合そしてユーテキック・ダイ・アタッチ.


単層MOS コンデンサータとは?

A についてMOS コンデンサ(Metal_Oxide_Semiconductor) は,熱栽培された二酸化シリコン (SiO) を使用する単層コンデンサターです.2) 高抵抗性シリコン基板上に金属電極を上と下に置く.内部電極スタックがない場合,電流は垂直的に1つの電解層を通過します.固有等価系列誘導力 (ESL) がゼロに近い多層セラミックコンデンサター (MLCC) と比べると高い自己共鳴周波数 (SRF) と予測可能な温度動作.


主要なパフォーマンスメリット

  • 超電圧分解◎ 250 V DC (250% の 100 V の連続電圧) を超えた電圧耐圧,部品1個につき 100% の生産量で試験.
  • ダイレクトリック安定性熱性SiOのCOG/NPO等価 Iクラス2温度系数 0 ± 30 ppm/°Cから -55°Cから +125°C,DCバイアス系数 (<10 ppm/V) はほとんどなく,鉄電気老化がない.
  • ワイヤル-ボンドブル & ユーテキストック・ダイ・アタッチ 準備│上部TiW-Auスタック (≥2.5μmAu) は, >6gfの引き力で25μmの金線結合をサポートする.裏側TiW-Pt-Auはプラチナの拡散障壁で,信頼性の高いAuSn (80/20) ユーテクトスと伝導性エポキシ型ダイア付着を可能にします..
  • 漏れが少ない定位電圧で25°Cで<10nA,125°Cで<100nA
  • ESRが低い効率的なRFバイパスのために,1GHzで通常<0.1 Ω.


優れた耐電圧 1000pF 100V MOSコンデンサ 安定誘電体 ワイヤボンディング可能共晶チップ

電気仕様 (T = 25°C 記載がない限り)

パラメータ 価値 条件
容量 1000 pF ±10% (±5%利用可能) 1MHz,1.0Vrms
定数電圧 (DC) 100V 連続
ダイレクトリック 抵抗電圧 >250V DC (250%名乗) 5 秒間,100%テスト
TCCについて 0 ± 30 ppm/°C -55°Cから+125°C
消耗因子 ≤0.15% 1kHz,1.0 Vrms
流出電流 <10 nA @ 25°C / <100 nA @ 125°C 定位電圧で
断熱抵抗 ≥104 MΩ 定位電圧で 25°C
ESR @ 1 GHz <0.1 Ω 典型的な
内在チップESL <0.05 nH 組み込まれてない
自動共鳴周波数 >1.5 GHzチップレベル, >600 MHz 0.5mmのボンドワイヤ 典型的な
ダイレクトリック吸収 <0.1% 1kHz
チップの寸法 0.50 × 0.50 × 0.15 mm ±25 μm
トップ金属化 TiW-Au, ≥2.5 μm Au ワイヤリング
裏側金属化 TiW-Pt-Au, ≥1.0 μm Au (Ptバリア) AuSn / エポキシ準備
ワイヤー・ボンド引力 25 μm オウワイヤのgf > 6 MIL-STD-883 メソッド 20117
ESD評価 JESD22-A114 による0級 (HBM) -