Подробная информация о продукции

Created with Pixso. Дом Created with Pixso. Продукты Created with Pixso.
Конденсаторы MOS
Created with Pixso.

?

?

Название бренда: Hoan
Номер модели: ХАСС102С100В500
минимальный заказ: 10 шт.
Условия оплаты: Л/К, Д/А, Д/П, Т/Т
Детальная информация
Место происхождения:
Шэньси, Китай
Сертификация:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Тип монтажа:
Склеивание проволокой/эвтектическое крепление матрицы (AuSn)
Прочность натяжения проволочной связки:
>6 гс для проволоки Au 25 мкм
Рабочая температура:
от -55 С до +125 С
Оценка ESD:
Класс 0 (HBM) согласно JESD22-A114
Кастомизация:
Емкость 10 пФ-1000 пФ, напряжение 6,3 В-200 В, геометрия кристалла и металлизация доступны.
Упаковка:
ESD-безопасная проводящая вафельная упаковка или гель-пак, экспортная коробка в сухой азотной упаков
Сертификация:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Выделить:

1000pF MOS конденсатор стабильный диэлектрик

,

Конденсатор MOS мощностью 100 В

,

конденсатор MOS с эвтектическим чипом

Характер продукции

Превосходный пробой напряжения 1000 пФ 100 В МОП-конденсатор (HACC102S100V500) — Стабильный диэлектрик, пригодный для пайки эвтектическим припоем с использованием проволочных выводов


Резюме: Hoan HACC102S100V500 представляет собой однослойный МОП-конденсатор емкостью 1000 пФ ±10% с номинальным напряжением 100 В постоянного тока, с напряжением пробоя диэлектрика более 250 В постоянного тока (250% от номинального напряжения), стабильным диэлектриком 0 ±30 ppm/°C в диапазоне от -55°C до +125°C и системой металлизации, готовой как для проволочной сварки золотом, так и для эвтектической пайки кристалла AuSn.


Что такое однослойный МОП-конденсатор?

МОП-конденсатор (металл-полупроводник-оксид) — это однослойный конденсатор, в котором используется термически выращенный диэлектрик из диоксида кремния (SiO2 класса I, эквивалентный COG/NPO, с температурным коэффициентом 0 ±30 ppm/°C в диапазоне от -55°C до +125°C, пренебрежимо малым коэффициентом смещения постоянного тока (Ключевые преимущества в производительности


Превосходный пробой напряжения

  • — напряжение пробоя диэлектрика более 250 В постоянного тока (250% от непрерывного номинального напряжения 100 В), 100% производственное тестирование каждого изделия.Стабильность диэлектрика
  • — диэлектрик SiO2 класса I, эквивалентный COG/NPO, с температурным коэффициентом 0 ±30 ppm/°C в диапазоне от -55°C до +125°C, пренебрежимо малым коэффициентом смещения постоянного тока (<10 ppm/В) и отсутствием ферроэлектрического старения.Готовность к проволочной сварке и эвтектической пайке
  • — верхний слой TiW-Au (≥2,5 мкм Au) поддерживает проволочную сварку золотом диаметром 25 мкм с прочностью на разрыв >6 гс; нижний слой TiW-Pt-Au с платиновым диффузионным барьером обеспечивает надежную эвтектическую пайку AuSn (80/20) и пайку проводящим эпоксидным компаундом.Низкая утечка
  • — <10 нА при 25°C и <100 нА при 125°C при номинальном напряжении.Низкое ESR
  • — обычно <0,1 Ом при 1 ГГц для эффективного RF-байпаса.Электрические характеристики (T = 25°C, если не указано иное)


?

Параметр

Сопротивление изоляции
Значение Условие Емкость
1000 пФ ±10% (доступно ±5%) 1 МГц, 1,0 В среднеквадр. Номинальное напряжение (постоянный ток)
100 В Непрерывное Напряжение пробоя диэлектрика
>250 В постоянного тока (250% номинального) Выдержка 5 с, 100% тестирование ТКЦ
0 ±30 ppm/°C -55°C до +125°C Коэффициент рассеяния
≤0,15% 1 кГц, 1,0 В среднеквадр. Ток утечки
При номинальном напряжении <10 nA @ 25°C>
≥10⁴ МОм При номинальном напряжении, 25°C ESR @ 1 ГГц
<0,1 Ом Типичное Диэлектрическая абсорбция
<0,05 нГн Де-эмбеддированная Собственная резонансная частота
>1,5 ГГц на уровне кристалла; >600 МГц с проволочным выводом 0,5 мм Типичное Диэлектрическая абсорбция
<0,1% 1 кГц Размеры кристалла
0,50 × 0,50 × 0,15 мм ±25 мкм Верхняя металлизация
TiW-Au, ≥2,5 мкм Au Для проволочной сварки Нижняя металлизация
TiW-Pt-Au, ≥1,0 мкм Au (Pt барьер) Готовность к AuSn / эпоксидной пайке Прочность проволочного вывода на разрыв
>6 гс для золотой проволоки 25 мкм MIL-STD-883 Метод 2011.7 Рейтинг ESD
Класс 0 (HBM) по JESD22-A114 -