| Tên thương hiệu: | Hoan |
| Số mô hình: | HACC222S100V1200 |
| MOQ: | 10 miếng |
| Điều khoản thanh toán: | T/T,L/C,D/P,D/A |
Nói ngắn gọn: Hoan HACC222S100V1200 là tụ MOS một lớp có điện dung 2200 pF ±10%, điện áp 100 V DC, được cung cấp dưới dạng chip có thể hàn dây, kích thước 1,20 × 1,20 × 0,20 mm. Nó được thiết kế cho chế độ xả nhanh, với dòng xung đỉnh trên 40 A (10 µs, không lặp lại), tốc độ xả trên 500 V/µs, ESR dưới 5 mOhm ở 1 MHz và ESL nội tại dưới 0,05 nH. Các điện cực đối xứng và không phân cực, và Q vẫn trên 20 ở 10 GHz, vì vậy cùng một bộ phận có thể phục vụ đường dẫn xung và mạng phân cực RF. Điện dung, định mức điện áp, hình dạng chip và kim loại hóa có thể tùy chỉnh.
Đây là tụ MOS một lớp, còn được gọi là SLC (tụ một lớp), tụ chip có thể hàn dây hoặc tụ xung MOS. Một lớp điện môi SiO2 dày 300 nm được hình thành trên silicon vùng nổi có điện trở suất cao (>1000 Ohm·cm), và các điện cực màng mỏng được phún xạ trên cả hai mặt. Vì đường dẫn dòng chạy dọc qua cấu trúc một lớp dày 0,20 mm thay vì qua các điện cực bên trong xếp chồng lên nhau, điện cảm nối tiếp và điện trở nối tiếp vẫn thấp, đây là đặc tính cho phép dòng xả đỉnh cao với cạnh nhanh.
| Thông số | Giá trị tiêu chuẩn | Phạm vi tùy chỉnh |
| Điện dung | 2200 pF ±10% | 100 pF đến 10000 pF một lớp |
| Điện áp định mức | 100 V DC | 6,3 V đến 500 V DC một lớp, lên đến 1000 V xếp chồng |
| Kích thước chip | 1,20 × 1,20 mm | 0,25 × 0,25 mm đến 5,0 × 5,0 mm, hình chữ nhật lên đến 4:1 |
| Độ dày chip | 0,20 mm | 0,10 mm đến 0,30 mm |
| Kim loại hóa mặt trên | TaN/TiW/Ni/Au, 2,5 µm Au | Lên đến 5,0 µm Au cho dây nặng, tùy chọn Al |
| Kim loại hóa mặt sau | TiW-Pt-Au, 1,0 µm Au | Lớp phủ AuSn 3-5 µm, AuGe, bạc thiêu kết |
| Định mức xung | 40 A đỉnh, 10 kHz burst | Dòng đỉnh cao hơn với chip mở rộng và bố cục đa mối hàn |
| Dung sai và khớp nối | ±10% | ±5% hoặc chặt hơn, bộ khớp nối dưới ±1% |
![]()