chi tiết sản phẩm

Created with Pixso. Nhà Created with Pixso. Các sản phẩm Created with Pixso.
Capacitor MOS
Created with Pixso.

Chất điện tử kim loại siêu vi tử tự sắp xếp MOS HACC106S30V330 330pF chip không phân tán 30V

Chất điện tử kim loại siêu vi tử tự sắp xếp MOS HACC106S30V330 330pF chip không phân tán 30V

Tên thương hiệu: Hoan
Số mô hình: HACC106S30V330
MOQ: 10 miếng
Điều khoản thanh toán: L/C,D/A,D/P,T/T
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc:
Thiểm Tây, Trung Quốc
Chứng nhận:
ISO 9001:2015, RoHS
Kim loại hóa hàng đầu:
Au, 2,5 um phút
Kim loại hóa mặt sau:
Au, 1,0 um phút
Nhiệt độ hoạt động:
-55°C đến +125°C
RoHS:
Tuân thủ EU 2015/863
Lớp ESD:
Lớp 0 (HBM)
Kiểu lắp:
Dây có thể liên kết / Đính kèm khuôn Eutectic
Làm nổi bật:

Capacitor MOS tự sắp xếp 330pF 30V

,

Capacitor MOS điện cực kim loại dưới micron

,

Chất tụ MOS không bị phân tán

Mô tả sản phẩm

Capacitor MOS kim loại siêu nhỏ tự sắp xếp HACC106S30V330 330pF 30V


Tóm lại:HACC106S30V330 là một 330 pF ± 10%, 30 V DC MOS đơn lớp tụ với một điện cực kim loại đầu tiên tự sắp xếp dưới micron và phản ứng RF không phân tán.Nó được thiết kế cho các mạch sóng milimet nhỏ gọn cần hình học điện cực mịn và giá trị điện dung ổn định.

Tổng quan


HACC106S30V330 được xây dựng trên nền silicon vùng nổi (cao hơn 1000 Ω · cm) với nhiệt SiO 300 nm2Điện cực trên được xác định bởi một quá trình tự sắp xếp để tạo ra một hình học kim loại dưới micron,cho phép một pitch pad nhỏ hơn và dung lượng ký sinh thấp hơn mỗi kết nốiChip có kích thước 0,40 × 0,40 × 0,15 mm với 2,5 μm kim loại hóa vàng tối thiểu.Phần này là một tụ điện MOS đơn lớp ở cấp độ chết (một tụ điện có thể kết nối dây) cho các tập hợp lai và chip và dây, còn được gọi là chip tụ đơn lớp (SLC).


Các đặc điểm chính


  • Kim loại tự sắp xếp dưới micron để làm mịn và có dung lượng ký sinh trùng thấp.
  • Phản ứng không phân tán với công suất trong phạm vi ± 1% từ 100 Hz đến 40 GHz.
  • Dát nhỏ gọn 0,40 × 0,40 × 0,15 mm.
  • 330 pF ± 10% (5% có sẵn) ở 30 V DC mà không có điều chỉnh thiên vị DC.
  • ESL nội tại dưới 0,05 nH; Q > 2000 ở 1 MHz.
  • ISO 9001: 2015 và tuân thủ RoHS, kim loại hóa vàng có thể liên kết dây.
  • Giá trị điện dung tùy chỉnh có sẵn trên cùng một nền tảng die.


Thông số kỹ thuật điện (T = 25°C trừ khi có ghi chú)


Parameter Giá trị Điều kiện thử nghiệm
Khả năng 330 pF ±10% 1 MHz, 1,0 Vrms
Các tùy chọn dung lượng dung lượng ±10% (K), ±5% (J) ️
Địa hình kim loại hàng đầu Tự sắp xếp, chiều rộng dưới micron Quá trình nâng máy
Phân tán công suất Trong phạm vi ± 1% 100 Hz đến 40 GHz, 25°C
Điện áp định số DC 30 V Hoạt động liên tục
Sức mạnh điện đệm Hơn 100 V DC 1 phút, 25°C
Chip nội tại ESL Dưới 0,05 nH Không được nhúng từ các thông số S
Q Factor ở 1 MHz >2000 Thông thường
Dòng rò rỉ Dưới 10 nA 30V DC, 25°C
Đèn điện đệm SiO nhiệt2, 300 nm Ôxy hóa khô
Kích thước chip 0.40 × 0,40 × 0,15 mm ±0,025 mm
Nhiệt độ hoạt động -55°C đến +125°C ️


Các ứng dụng điển hình

  • Các mô-đun phía trước sóng milimét với độ cao đệm mỏng
  • Chặn DC băng thông rộng và khớp trở
  • Bộ lọc và nối RF nhỏ gọn
  • Các yếu tố tạo hình chùm pha
  • Máy vi mạch lai mật độ cao


Chất điện tử kim loại siêu vi tử tự sắp xếp MOS HACC106S30V330 330pF chip không phân tán 30V