detalhes dos produtos

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Capacitores MOS
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Capacitores MOS de eletrodo metálico sub-micrônico auto-alinhados HACC106S30V330 330pF chip sem dispersão de 30 V

Capacitores MOS de eletrodo metálico sub-micrônico auto-alinhados HACC106S30V330 330pF chip sem dispersão de 30 V

Marca: Hoan
Número do modelo: HACC106S30V330
Quantidade mínima: 10 peças
Condições de pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T
Informações pormenorizadas
Lugar de origem:
Shanxi, China
Certificação:
ISO 9001:2015, RoHS
Metalização Superior:
Au, 2,5 um min
Metalização traseira:
Au, 1,0 um min
Temperatura operacional:
-55°C a +125°C
RoHS:
Compatível com UE 2015/863
Classe ESD:
Classe 0 (HBM)
Tipo de montagem:
Fixação de matriz eutética/fio ligável
Destacar:

Capacitor MOS auto-alinhado 330pF 30V

,

Capacitor MOS de eletrodo metálico submicrônico

,

Capacitor MOS de chip livre de dispersão

Descrição do produto

Capacitor MOS de submicrão de metal de ponta autoalinhado HACC106S30V330 330pF 30V


Resumo:O HACC106S30V330 é um condensador MOS de camada única de 30 V DC de 330 pF ± 10%, com um eletrodo metálico submicrônico auto-alinhado e uma resposta de RF livre de dispersão.É destinado a circuitos compactos de ondas milimétricas que necessitam de uma geometria de eletrodo fina e de um valor de capacitância estável.

Resumo


O HACC106S30V330 é construído sobre um substrato de silício de zona flutuante (acima de 1000 Ω·cm) com um SiO térmico de 300 nm2O eletrodo superior é definido por um processo de elevação auto-alinhado que produz uma geometria metálica submicrônica,que permite um passo de pad menor e uma menor capacidade parasitária por conexãoO chip mede 0,40 × 0,40 × 0,15 mm com uma metalização de ouro mínima de 2,5 μm.A parte é um condensador MOS single-layer de nível de morte (um condensador bondável por fio) para assembleias híbridas e chip-and-wire., também referido como um chip de capacitor de camada única (SLC).


Características fundamentais


  • Metais auto-alinhados de sub-micrão para uma fina pitch pad e baixa capacitância parasitária.
  • Resposta livre de dispersão com capacitância dentro de ± 1% de 100 Hz a 40 GHz.
  • Matriz compacta de 0,40 × 0,40 × 0,15 mm.
  • 330 pF ± 10% (5% disponíveis) a 30 V DC sem desvio de DC.
  • LSE intrínseca inferior a 0,05 nH; Q > 2000 a 1 MHz.
  • ISO 9001:2015 e RoHS compatível, metalização de ouro ligada a fio.
  • Valores de capacitância personalizados disponíveis na mesma plataforma de matriz.


Especificações elétricas (T = 25°C, salvo indicação)


Parâmetro Valor Condição de ensaio
Capacidade 330 pF ± 10% 1 MHz, 1,0 Vrms
Opções de tolerância ±10% (K), ±5% (J) - Não.
Geometria de Metal Superior Auto-alinhados, largura sub-micrônica Processo de levantamento
Dispersão de capacidade. Dentro de ± 1% 100 Hz a 40 GHz, 25°C.
Tensão nominal de CC 30 V Função contínua
Força dielétrica acima de 100 V DC 1 minuto, 25°C
Chip intrínseco ESL Below 0.05 nH Desintegrado dos parâmetros S
Q Factor a 1 MHz. > 2000 Tipico
Corrente de vazamento Below 10 na. 30 V DC, 25°C.
Dieléctricos SiO térmico2300 nm. Oxidação seca.
Dimensões do chip 0.40 × 0,40 × 0,15 mm ± 0,025 mm
Temperatura de funcionamento -55°C a +125°C - Não.


Aplicações típicas

  • Módulos frontais de ondas milimétricas, com passo de almofada fino
  • Bloqueio de corrente contínua de banda larga e correspondência de impedância
  • Filtros e acopladores de RF compactos
  • Elementos formadores de feixe de matriz de fases
  • Microcircuitos híbridos de alta densidade


Capacitores MOS de eletrodo metálico sub-micrônico auto-alinhados HACC106S30V330 330pF chip sem dispersão de 30 V