รายละเอียดสินค้า

Created with Pixso. บ้าน Created with Pixso. สินค้า Created with Pixso.
เครื่องปรับความแรง MOS
Created with Pixso.

เครื่องปรับความหนา MOS อิเล็กทรอนโลหะใต้ไมครอนที่ปรับตัวเอง HACC106S30V330 330pF 30V ชิปไร้การกระจาย

เครื่องปรับความหนา MOS อิเล็กทรอนโลหะใต้ไมครอนที่ปรับตัวเอง HACC106S30V330 330pF 30V ชิปไร้การกระจาย

ชื่อแบรนด์: Hoan
หมายเลขรุ่น: HACC106S30V330
ขั้นต่ำ: 10 ชิ้น
เงื่อนไขการชำระเงิน: L/C,D/A,D/P,T/T
ข้อมูลรายละเอียด
สถานที่กำเนิด:
มณฑลส่านซีประเทศจีน
ได้รับการรับรอง:
ISO 9001:2015, RoHS
การทำให้เป็นโลหะด้านบน:
Au, 2.5 หนอ นาที
การทำให้เป็นโลหะด้านหลัง:
Au, 1.0 หนอ นาที
อุณหภูมิในการทำงาน:
-55°ซ ถึง +125°ซ
เป็นไปตามมาตรฐาน RoHS:
สอดคล้องกับสหภาพยุโรป 2015/863
คลาส ESD:
คลาส 0 (HBM)
ประเภทการติดตั้ง:
ลวดยึดติดแบบติดได้ / ยูเทคติก
เน้น:

เครื่องปรับอัตโนมัติ MOS 330pF 30V

,

เครื่องปรับความแรง MOS อิเล็กตรอนใต้โลหะ

,

ชิป MOS คอนเดสซิเตอร์ที่ไม่กระจาย

คําอธิบายสินค้า

เครื่องประกอบความเข้มข้น MOS ท็อปโลหะ Sub-Micron ที่ตรงกันเอง HACC106S30V330 330pF 30V


สรุป:HACC106S30V330 เป็น 330 pF ± 10%, 30 V DC MOS capacitor ชั้นเดียวที่มีไฟฟ้าโลหะด้านบน sub-micron ที่สอดคล้องกันเองและการตอบสนอง RF ที่ไม่มีการกระจายสําหรับวงจรคลื่นมิลลิเมตรที่คอมพัคต์ ที่ต้องการจีโอเมตริของอิเล็กทรอนด์ที่ละเอียด และค่าความจุที่มั่นคง.

ภาพรวม


HACC106S30V330 ถูกสร้างขึ้นบนพื้นฐานซิลิคอนโซนลอย (มากกว่า 1000 Ω · cm) ด้วยความร้อน 300 nm SiO2dielectric อิเล็กทรอร์โด้ด้านบนถูกกําหนดโดยกระบวนการยกตัวเองที่ผลิตรูปทรงโลหะขนาดเล็กกว่าไมครอนซึ่งอนุญาตให้มีพัดปิชขนาดเล็กและความจุปรสิตต่ํากว่าต่อต่อต่อชิปมีขนาด 0.40 × 0.40 × 0.15 มม.The part is a die-level single-layer MOS capacitor (a wire bondable capacitor) สําหรับการประกอบแบบไฮบริดและชิปและสาย, also referred to as a single-layer capacitor (SLC) chip ชิปที่สามารถนํามาใช้ได้อย่างง่ายดาย


ลักษณะสําคัญ


  • โลหะชั้นใต้ไมครอนที่ปรับตัวเอง สําหรับพัดพิมพ์ดีและความจุปรสิตต่ํา
  • การตอบสนองที่ไม่มีการกระจายกับความจุภายใน ± 1% จาก 100 Hz ถึง 40 GHz
  • เครื่องพิมพ์ขนาดเล็ก 0.40 × 0.40 × 0.15 มิลลิเมตร
  • 330 pF ± 10% (5% สามารถใช้ได้) ที่ 30 V DC โดยไม่มี DC bias derating
  • ESL ภายในต่ํากว่า 0.05 nH; Q > 2000 ที่ 1 MHz
  • ISO 9001:2015 และ RoHS ตรงกัน, โลหะโลหะทองที่สามารถเชื่อมต่อกับสายไฟ
  • ค่าความจุที่กําหนดเองที่มีอยู่บนแพลตฟอร์ม die เดียวกัน


รายละเอียดไฟฟ้า (T = 25°C เว้นแต่ระบุไว้)


ปริมาตร มูลค่า สภาพการทดสอบ
ความจุ 330 pF ± 10% 1 MHz 1.0 Vrms
ตัวเลือกความละเอียดความสามารถ ± 10% (K), ± 5% (J) รางวัล
เจอเมทรีโลหะสูงสุด อัตโนมัติความกว้างใต้ไมครอน ขั้นตอนการยกขึ้น
Capacitance Dispersion การกระจายความสามารถ ภายใน ± 1% 100 Hz ถึง 40 GHz 25 องศาเซลเซียส
ความดันแบบเรียงลําดับ DC 30 วอล การทํางานต่อเนื่อง
ความแข็งแรงแบบดียิเลคทริก กว่า 100 V DC 1 นาที 25°C
ชิปภายใน ESL ต่ํากว่า 0.05 nH De-embedded from S-parameters ปริมาตรการของ S-parameters
Q Factor ที่ 1 MHz >2000 แบบปกติ
กระแสรั่ว ต่ํากว่า 10 nA 30 V DC 25°C
ไดเอเลคทริก SiO ความร้อน2, 300 นม การออกซิเดนแบบแห้ง
ขนาดชิป 0.40 × 0.40 × 0.15 มิลลิเมตร ± 0.025 มม.
อุณหภูมิการทํางาน -55°C ถึง +125°C รางวัล


การใช้งานทั่วไป

  • โมดูลด้านหน้าคลื่นมิลลิเมตร ที่มีปัดปัดละเอียด
  • การปิดสายพานกลางแบบบร็อดแบนด์ และการจับคู่อุปสรรค
  • เครื่องกรองและเครื่องเชื่อม RF compact
  • อุปกรณ์สร้างรังสีแบบเรียงระยะ
  • วงจรไมโครไฮบริดความหนาแน่นสูง


เครื่องปรับความหนา MOS อิเล็กทรอนโลหะใต้ไมครอนที่ปรับตัวเอง HACC106S30V330 330pF 30V ชิปไร้การกระจาย