| ชื่อแบรนด์: | Hoan |
| หมายเลขรุ่น: | HACC102S30V470 |
| ขั้นต่ำ: | 10 ชิ้น |
| เงื่อนไขการชำระเงิน: | L/C,D/A,D/P,T/T |
สรุป:HACC102S30V470 เป็น 470 pF ± 10%, 30 V DC เครื่องประกอบ MOS แบบชั้นเดียว พร้อมกับหลุมจับระดับลึก Si/SiO2อินเตอร์เฟซ. มันถูกกําหนดสําหรับ RF matching, การกรองและวงจรแบบแอนาล็อกความแม่นยําที่ความหนาแน่นของกรงกรงกั้น, C-V hysteresis และการจับค่าระยะยาวส่งผลต่อความมั่นคง
HACC102S30V470 ถูกสร้างขึ้นบนพื้นฐานซิลิคอนโซนลอย (มากกว่า 1000 Ω · cm) ด้วยความร้อน 300 nm SiO2ชิปมีขนาด 0.50 × 0.50 × 0.15 มิลลิเมตรที่มีการผสมทองคําขั้นต่ํา 2.5 μm. มันรองรับการผูกสายไฟและยูเทคติก die attach
| ปริมาตร | มูลค่า | สภาพการทดสอบ |
|---|---|---|
| ความจุ | 470 pF ± 10% | 1 MHz 1.0 Vrms |
| ตัวเลือกความละเอียดความสามารถ | ± 10% (K), ± 5% (J) | รางวัล |
| ความดันแบบเรียงลําดับ DC | 30 วอล | การทํางานต่อเนื่อง |
| ความแข็งแรงแบบดียิเลคทริก | กว่า 100 V DC | 1 นาที 25°C |
| ความหนาแน่นของ Interface Trap (D)มัน) | ต่ํากว่า 5 × 1010cm-2eV-1 | ปัจจัยปกติหลังการ passivation |
| ไฮสเตเรซิส C-V | ต่ํากว่า 10 mV | การสกัดความคัดค้านขึ้น/ลง |
| คออฟเซนต์ความคัดค้าน DC | ต่ํากว่า 10 ppm/V | 0-30 V |
| TCC | +35 ppm/°C | -55°C ถึง +125°C |
| Q Factor ที่ 1 MHz | >2000 | แบบปกติ |
| กระแสรั่ว | ต่ํากว่า 10 nA | 30 V DC 25°C |
| ไดเอเลคทริก | SiO ความร้อน2, 300 นม | อินเตอร์เฟซ passivated |
| ขนาดชิป | 0.50 × 0.50 × 0.15 มิลลิเมตร | ± 0.025 มม. |
| อุณหภูมิการทํางาน | -55°C ถึง +125°C | รางวัล |
![]()