รายละเอียดสินค้า

Created with Pixso. บ้าน Created with Pixso. สินค้า Created with Pixso.
เครื่องปรับความแรง MOS
Created with Pixso.

ตัวเก็บประจุ MOS แบบพาสซิเวตระดับลึก HACC102S30V470 470pF 30V Zero C-V Hysteresis SLC

ตัวเก็บประจุ MOS แบบพาสซิเวตระดับลึก HACC102S30V470 470pF 30V Zero C-V Hysteresis SLC

ชื่อแบรนด์: Hoan
หมายเลขรุ่น: HACC102S30V470
ขั้นต่ำ: 10 ชิ้น
เงื่อนไขการชำระเงิน: L/C,D/A,D/P,T/T
ข้อมูลรายละเอียด
สถานที่กำเนิด:
มณฑลส่านซีประเทศจีน
ได้รับการรับรอง:
ISO 9001:2015, RoHS
ขนาดชิป:
0.50 x 0.50 x 0.15 มม
การทำให้เป็นโลหะด้านบน:
Au, 2.5 หนอ นาที
การทำให้เป็นโลหะด้านหลัง:
Au, 1.0 หนอ นาที
อุณหภูมิในการทำงาน:
-55°ซ ถึง +125°ซ
เป็นไปตามมาตรฐาน RoHS:
สอดคล้องกับสหภาพยุโรป 2015/863
คลาส ESD:
คลาส 0 (HBM)
ประเภทการติดตั้ง:
ลวดยึดติดแบบติดได้ / ยูเทคติก
เน้น:

ตัวเก็บประจุ MOS แบบพาสซิเวตด้วยดีพเลเวลแทรป

,

ตัวเก็บประจุ MOS 470pF 30V

,

ตัวเก็บประจุ SLC แบบ Zero C-V Hysteresis

คําอธิบายสินค้า

เครื่องปรับความแรง MOS ที่ปรับความแรง HACC102S30V470 470pF


สรุป:HACC102S30V470 เป็น 470 pF ± 10%, 30 V DC เครื่องประกอบ MOS แบบชั้นเดียว พร้อมกับหลุมจับระดับลึก Si/SiO2อินเตอร์เฟซ. มันถูกกําหนดสําหรับ RF matching, การกรองและวงจรแบบแอนาล็อกความแม่นยําที่ความหนาแน่นของกรงกรงกั้น, C-V hysteresis และการจับค่าระยะยาวส่งผลต่อความมั่นคง

ภาพรวม

HACC102S30V470 ถูกสร้างขึ้นบนพื้นฐานซิลิคอนโซนลอย (มากกว่า 1000 Ω · cm) ด้วยความร้อน 300 nm SiO2ชิปมีขนาด 0.50 × 0.50 × 0.15 มิลลิเมตรที่มีการผสมทองคําขั้นต่ํา 2.5 μm. มันรองรับการผูกสายไฟและยูเทคติก die attach


ลักษณะสําคัญ

  • การลดลมในระดับลึก:มันปกติต่ํากว่า 5 × 1010cm-2eV-1.
  • ไฮสเตเรซิส C-V 0: ต่ํากว่า 10 mV ระหว่างการกวาดขึ้นและลง
  • การกําจัดหลุมไฟ: การดูดซึมไฟฟ้าแบบลดและไม่มีการลดความคัดค้าน DC
  • 470 pF ± 10% ที่ 30 V DC กับ TCC ใกล้เส้นตรงที่ +35 ppm/°C
  • การสร้างชั้นเดียวที่มี ESL ภายในต่ํากว่า 0.05 nH
  • ISO 9001:2015 และ RoHS ตรงกัน, โลหะโลหะทองที่สามารถเชื่อมต่อกับสายไฟ
  • ค่าความจุที่กําหนดเองที่มีอยู่บนแพลตฟอร์ม 0.50 มมเดียวกัน

รายละเอียดไฟฟ้า (T = 25°C เว้นแต่ระบุไว้)

ปริมาตร มูลค่า สภาพการทดสอบ
ความจุ 470 pF ± 10% 1 MHz 1.0 Vrms
ตัวเลือกความละเอียดความสามารถ ± 10% (K), ± 5% (J) รางวัล
ความดันแบบเรียงลําดับ DC 30 วอล การทํางานต่อเนื่อง
ความแข็งแรงแบบดียิเลคทริก กว่า 100 V DC 1 นาที 25°C
ความหนาแน่นของ Interface Trap (D)มัน) ต่ํากว่า 5 × 1010cm-2eV-1 ปัจจัยปกติหลังการ passivation
ไฮสเตเรซิส C-V ต่ํากว่า 10 mV การสกัดความคัดค้านขึ้น/ลง
คออฟเซนต์ความคัดค้าน DC ต่ํากว่า 10 ppm/V 0-30 V
TCC +35 ppm/°C -55°C ถึง +125°C
Q Factor ที่ 1 MHz >2000 แบบปกติ
กระแสรั่ว ต่ํากว่า 10 nA 30 V DC 25°C
ไดเอเลคทริก SiO ความร้อน2, 300 นม อินเตอร์เฟซ passivated
ขนาดชิป 0.50 × 0.50 × 0.15 มิลลิเมตร ± 0.025 มม.
อุณหภูมิการทํางาน -55°C ถึง +125°C รางวัล


การใช้งานทั่วไป


  • เครือข่ายจับคู่และกรองอัดอัดอัด RF ความแม่นยํา
  • การปิด DC ที่มั่นคงในด้านหน้าของสัญญาณแบบแอนาล็อกและสัญญาณผสม
  • VCO และวงจรอ้างอิงที่ต้องการการปรับที่ไม่มี hysteresis
  • ขั้นตอนการเก็บตัวอย่างและการเก็บตัวอย่าง และการบูรณาการความแม่นยํา
  • รวมอุตสาหกรรมและอุปกรณ์ประกอบเครื่องมือความน่าเชื่อถือสูง


ตัวเก็บประจุ MOS แบบพาสซิเวตระดับลึก HACC102S30V470 470pF 30V Zero C-V Hysteresis SLC