| Marca: | Hoan |
| Número do modelo: | HFC101S30V100 |
| Quantidade mínima: | 10 peças |
| Condições de pagamento: | L/C,D/A,D/P,T/T |
Em resumo: O HFC101S30V100 é um capacitor MOS de camada única de 100 pF e 30 V construído em silício float-zone de alta resistividade com um dielétrico de SiO2 crescido termicamente. Ele é fornecido com terminação micro-bump (BGA) em nível de wafer para montagem flip-chip, sem bondwire, e sua arquitetura dielétrica de SiO2 amorfo não apresenta fadiga de dipolo. É usado para bloqueio DC, bypass de RF e acoplamento em módulos densos de RF e de potência. Valores de capacitância personalizados, passos de bump e geometrias de chip estão disponíveis.
| Item | Valor |
| Marca | Hoan |
| Modelo | HFC101S30V100 |
| Categoria | Capacitores MOS |
| Capacitância | 100 pF ±10% (personalizado 10 pF-1000 pF) |
| Tensão DC Nominal | 30 V |
| Dielétrico | SiO2 Térmico, paraelétrico (300 nm) |
| Terminação | Micro-bump de pilar de cobre / BGA de solda |
| Tamanho do Chip | 0.50 x 0.50 x 0.15 mm |
| Temperatura de Operação | -55 °C a +125 °C |
| Local de Origem | Shaanxi, China |
| Certificação | ISO 9001:2015, RoHS |
| MOQ | 10 peças |
| Prazo de Entrega | 5-7 dias úteis para estoque, 3-4 semanas para produção |
O dispositivo é entregue com metalização sob o bump (UBM) em nível de wafer e um micro-bump de pilar de cobre com uma capa de solda SnAg, para que possa ser colocado diretamente por bonders flip-chip padrão e processado em linhas de embalagem em nível de wafer (WLP) e reflow BGA. Cada die recebe teste elétrico em nível de wafer, e um mapa digital de wafer está disponível para rastreabilidade.
Como ambos os terminais são colocados em uma face através de metalização de bump simétrica, o capacitor pode ser fixado diretamente em interposers de laminado, cerâmica ou silício sem bondwires de ouro. A remoção de bondwires remove a interconexão que normalmente domina a indutância série, e também remove o modo de falha por fadiga do calcanhar do bondwire. Isso é adequado para projetos que necessitam de caminhos de retorno de RF curtos e repetíveis e uma indutância de interconexão baixa e estável.
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