dettagli dei prodotti

Created with Pixso. Casa Created with Pixso. Prodotti Created with Pixso.
Condensatori MOS
Created with Pixso.

Capacitori MOS dielettrici ad alta densità di ossido di K 30V 470pF chip a singolo strato SRF elevato per front end 5G RF

Capacitori MOS dielettrici ad alta densità di ossido di K 30V 470pF chip a singolo strato SRF elevato per front end 5G RF

Marchio: Hoan
Numero di modello: HACC471S30V500
MOQ: 10 pezzi
Termini di pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shaanxi, Cina
Certificazione:
ISO 9001:2015, RoHS
Tipo di montaggio:
Fissaggio a filo/matrice eutettica
Dimensioni del chip:
0,50 x 0,50 x 0,15 mm
Temperatura operativa:
da -55°C a +125°C
RoHS:
Conforme (UE 2015/863)
Evidenziare:

Condensatori MOS dielettrici ad ossido di alto K

,

Capacitore ad alta SRF a bassa ESL 470pF

,

Chip RF mono strato ad alta densità

Descrizione di prodotto

Capacitore MOS dielettrico ad alto tenore di ossido di K HACC471S30V500 470pF 30V Single Layer Chip per 5G RF Front End

Riassunto dell'entità.L'HACC471S30V500 è un condensatore a metallo-ossido-semiconduttore (MOS) a strato singolo della serie Hoan HACC.E' fabbricato su un substrato di silicio a zona galleggiante ad alta resistività con un film dielettrico ad alto tenore di ossido di K e fornisce 470 pF a una tensione di lavoro di 30 V di corrente continua in una temperatura di 0 °C..50mm × 0.50mm × 0.15mm chip. È destinato a circuiti RF e a microonde che richiedono una elevata densità di capacità insieme a un'alta frequenza di auto-risonanza.


Caratteristiche chiave

  • 470pF ±10% a 30V DC in un chip da 0,50 × 0,50 × 0,15 mm
  • Dielettrico ad alto tenore di ossido di carbonio con una densità di capacità di circa 940 nF/mm2
  • L'ESL del chip intrinseco inferiore a 0,05nH; frequenza di auto-risonanza superiore a 25 GHz con un filo a legame corto
  • Percorso di corrente verticale singolo non c'è stack di elettrodi interni, quindi non c'è induttanza additiva della piastra
  • Metalizzazione superiore di TiW-Au (≥ 2,5 μm Au); retro di TiW-Pt-Au per l'epossidica conduttiva e l'attaccatura a stampo AuSn
  • Temperatura di funzionamento da -55°C a +125°C; conforme alla direttiva RoHS (UE 2015/863)


Specifiche elettriche (T = 25°C, salvo indicazione)

Parametro Valore Condizione
Capacità 470pF ±10% (±5% disponibile) 1MHz, 1,0Vrms
Voltaggio nominale di corrente continua 30 V Funzionamento continuo
Tensione resistente dielettrica > 100 V di corrente continua 1 minuto, 25°C
Densità di capacità circa 940nF/mm2 Tipico
Frequenza di auto-risonanza > 25 GHz Cavi a legame corto
Chip intrinseco ESL < 0,05nH Disintegrato dai parametri S
Fattore di dissipazione ≤ 2,5% 1kHz, 1Vrms
Fattore Q @ 1MHz > 2000 Tipico
Fattore Q @ 1GHz > 300 Tipico
Resistenza all'isolamento ≥ 1 × 104MΩ A tensione nominale DC
Corrente di perdita < 10nA 30V di corrente continua, 25°C
TCC +35 ppm/°C -55°C a +125°C
diossido di carbonio Ossido termico ad alto contenuto di K Densità, bassa porosità
Substrato Zona di galleggiamento Si, > 1000Ω·cm ️
Dimensioni del chip 00,50 × 0,50 × 0,15 mm ± 0,025 mm
Metalizzazione superiore TiW (100 nm) + Au (≥ 2,5 μm) di larghezza inferiore o uguale a 50 mm
Metalizzazione sul retro TiW-Pt-Au, Au ≥ 1,0 μm Barriera Pt, compatibile con Ag-epoxide
Temperatura di funzionamento -55°C a +125°C ️
Temperatura di conservazione -65°C a +150°C ️
RoHS Conformità Codice di riferimento


Applicazioni tipiche

  • Reti di abbinamento dei moduli front-end 5G sub-6GHz e mmWave RF
  • Iniezione di bias dell'amplificatore di potenza e blocco di corrente continua fino alla banda X-Ku
  • Bypass di alimentazione a banda larga superiore a 1 GHz in cui l'auto-risonanza MLCC limita le prestazioni
  • Disaggregazione a livello di striscio del fased-array beamformer e del modulo T/R
  • Strumentazione di prova e di misurazione, calibrazione VNA e reti di schede sonda


Capacitori MOS dielettrici ad alta densità di ossido di K 30V 470pF chip a singolo strato SRF elevato per front end 5G RF