| Markenname: | Hoan |
| Modellnummer: | HACC471S30V500 |
| Mindestbestellmenge: | 10 Stück |
| Zahlungsbedingungen: | L/C, D/A, D/P, T/T |
Zusammenfassung der Entität.Der HACC471S30V500 ist ein Einschicht-Metall-Oxid-Halbleiter (MOS)-Kondensator der Hoan HACC-Serie. Er wird auf einem hochohmigen Float-Zone-Siliziumsubstrat mit einer Hoch-K-Oxid-Dielektrikumsschicht gefertigt und liefert 470pF bei einer Gleichspannung von 30V in einem 0,50mm × 0,50mm × 0,15mm Chip. Er ist für RF- und Mikrowellenschaltungen bestimmt, die eine hohe Kapazitätsdichte zusammen mit einer hohen Eigenresonanzfrequenz erfordern.
| Parameter | Wert | Bedingung |
| Kapazität | 470pF ±10% (±5% verfügbar) | 1MHz, 1,0Vrms |
| Nenn-Gleichspannung | 30V | Dauerbetrieb |
| Dielektrische Durchschlagsfestigkeit | >100V DC | 1 Minute, 25°C |
| Kapazitätsdichte | ca. 940nF/mm² | Typisch |
| Eigenresonanzfrequenz | >25GHz | Kurzer Bonddraht |
| Intrinsische Chip-ESL | <0,05nH | Aus S-Parametern de-embedded |
| Verlustfaktor | ≤2,5% | 1kHz, 1Vrms |
| Q-Faktor @ 1MHz | >2000 | Typisch |
| Q-Faktor @ 1GHz | >300 | Typisch |
| Isolationswiderstand | ≥1×104 MΩ | Bei Nennspannung DC |
| Leckstrom | <10nA | 30V DC, 25°C |
| TCC | +35ppm/°C | -55°C bis +125°C |
| Dielektrikum | Hoch-K-Thermisches Oxid | Dicht, geringe Porosität |
| Substrat | Float-Zone Si, >1000Ω·cm | — |
| Chip-Abmessungen | 0,50 × 0,50 × 0,15mm | ±0,025mm |
| Top-Metallisierung | TiW (100nm) + Au (≥2,5µm) | Drahtbond-orientiert |
| Rückseiten-Metallisierung | TiW-Pt-Au, Au ≥1,0µm | Pt-Barriere, Ag-Epoxid-kompatibel |
| Betriebstemperatur | -55°C bis +125°C | — |
| Lagertemperatur | -65°C bis +150°C | — |
| RoHS | Konform | EU 2015/863 |
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