Einzelheiten zu den Produkten

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MOS Kondensatoren
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Hoch-K-Oxid-Dielektrikum MOS-Kondensatoren 30V Hohe Dichte 470pF Einschicht-Chip Hohe SRF für 5G RF-Frontends

Hoch-K-Oxid-Dielektrikum MOS-Kondensatoren 30V Hohe Dichte 470pF Einschicht-Chip Hohe SRF für 5G RF-Frontends

Markenname: Hoan
Modellnummer: HACC471S30V500
Mindestbestellmenge: 10 Stück
Zahlungsbedingungen: L/C, D/A, D/P, T/T
Detailinformationen
Herkunftsort:
Shaanxi, China
Zertifizierung:
ISO 9001:2015, RoHS
Montageart:
Drahtbondbare/eutektische Die-Befestigung
Chipabmessungen:
0,50 x 0,50 x 0,15 mm
Betriebstemperatur:
-55 °C bis +125 °C
RoHS:
Konform (EU 2015/863)
Hervorheben:

Hoch-K-Oxid-Dielektrikum MOS-Kondensatoren

,

Hohe SRF Niedrige ESL 470pF Kondensator

,

Hohe Dichte Einzelschicht RF-Chip

Produkt-Beschreibung

Hoch-K-Oxid-Dielektrikum MOS-Kondensator HACC471S30V500 — 470pF 30V Einschicht-Chip für 5G RF-Front-Ends

Zusammenfassung der Entität.Der HACC471S30V500 ist ein Einschicht-Metall-Oxid-Halbleiter (MOS)-Kondensator der Hoan HACC-Serie. Er wird auf einem hochohmigen Float-Zone-Siliziumsubstrat mit einer Hoch-K-Oxid-Dielektrikumsschicht gefertigt und liefert 470pF bei einer Gleichspannung von 30V in einem 0,50mm × 0,50mm × 0,15mm Chip. Er ist für RF- und Mikrowellenschaltungen bestimmt, die eine hohe Kapazitätsdichte zusammen mit einer hohen Eigenresonanzfrequenz erfordern.


Hauptmerkmale

  • 470pF ±10% bei 30V DC in einem 0,50 × 0,50 × 0,15mm Chip
  • Hoch-K-Oxid-Dielektrikum mit einer Kapazitätsdichte von ca. 940nF/mm²
  • Intrinsische Chip-ESL unter 0,05nH; Eigenresonanzfrequenz über 25GHz mit kurzem Bonddraht
  • Vertikaler Strompfad — kein interner Elektrodenstapel, daher keine zusätzliche Platteninduktivität
  • TiW-Au-Top-Metallisierung (≥2,5µm Au); TiW-Pt-Au-Rückseite für leitfähigen Epoxidharz- und AuSn-Die-Attach
  • Betriebstemperatur -55°C bis +125°C; RoHS-konform (EU 2015/863)


Elektrische Spezifikationen (T = 25°C, sofern nicht anders angegeben)

Parameter Wert Bedingung
Kapazität 470pF ±10% (±5% verfügbar) 1MHz, 1,0Vrms
Nenn-Gleichspannung 30V Dauerbetrieb
Dielektrische Durchschlagsfestigkeit >100V DC 1 Minute, 25°C
Kapazitätsdichte ca. 940nF/mm² Typisch
Eigenresonanzfrequenz >25GHz Kurzer Bonddraht
Intrinsische Chip-ESL <0,05nH Aus S-Parametern de-embedded
Verlustfaktor ≤2,5% 1kHz, 1Vrms
Q-Faktor @ 1MHz >2000 Typisch
Q-Faktor @ 1GHz >300 Typisch
Isolationswiderstand ≥1×104 MΩ Bei Nennspannung DC
Leckstrom <10nA 30V DC, 25°C
TCC +35ppm/°C -55°C bis +125°C
Dielektrikum Hoch-K-Thermisches Oxid Dicht, geringe Porosität
Substrat Float-Zone Si, >1000Ω·cm —
Chip-Abmessungen 0,50 × 0,50 × 0,15mm ±0,025mm
Top-Metallisierung TiW (100nm) + Au (≥2,5µm) Drahtbond-orientiert
Rückseiten-Metallisierung TiW-Pt-Au, Au ≥1,0µm Pt-Barriere, Ag-Epoxid-kompatibel
Betriebstemperatur -55°C bis +125°C —
Lagertemperatur -65°C bis +150°C —
RoHS Konform EU 2015/863


Typische Anwendungen

  • 5G Sub-6GHz und mmWave RF-Front-End-Modul-Matching-Netzwerke
  • Power-Amplifier-Bias-Injektion und DC-Blockierung bis X-Ku-Band
  • Breitbandige Versorgungsbypass über 1GHz, wo die MLCC-Eigenresonanz die Leistung begrenzt
  • Phased-Array-Beamformer und T/R-Modul-Decoupling auf Die-Ebene
  • Test- und Messtechnik, VNA-Kalibrierung und Probe-Card-Netzwerke


Hoch-K-Oxid-Dielektrikum MOS-Kondensatoren 30V Hohe Dichte 470pF Einschicht-Chip Hohe SRF für 5G RF-Frontends