dettagli dei prodotti

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Condensatori MOS
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Capacitori MOS con chip RF personalizzati

Capacitori MOS con chip RF personalizzati

Marchio: Hoan
Numero di modello: HACC100S10V101
MOQ: 10 pezzi
Termini di pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T,
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shanxi, Cina
Certificazione:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH, ESA ESCC
spessore dell'ossido:
Tipicamente 5-100 nm
Gamma di capacità:
Da pochi pF a diversi nF
Risposta in frequenza:
Fino a GHz di portata
Costante dielettrica:
3,9 per SiO2, maggiore per materiali ad alto contenuto di k
Struttura:
Semiconduttore di ossido di metallo
Materiale del cancello in metallo:
Alluminio, polisilicio o leghe metalliche
Materiale dell'ossido:
Biossido di silicio (SiO2) o dielettrici ad alto valore k
Applicazione:
Utilizzato nella caratterizzazione dei dispositivi a semiconduttore e nei dispositivi di memoria
Evidenziare:

Condensatori MOS induriti a radiazioni

,

Capacitori MOS con chip RF personalizzati

,

Capacitori MOS Q spaziali piatti

Descrizione di prodotto

Capacitore MOS personalizzato Rad Hard Radiation Hardened Space Flat Q Response Digital Wafer Map Sorting automatico


HACC101S10V500: condensatore MOS resistente alle radiazioni per lo spazio con mappa digitale dei wafer e risposta Flat-Q

Formulazioni per lo spazio resistenti alle radiazioni

L'HACC101S10V500 è specificamente progettato e qualificato per ambienti spaziali in cui le radiazioni a dose ionizzante totale (TID) degradano le strutture MOS standard.L'ossido di cancello indurito dalle radiazioni utilizzando formulazioni di SiO2 nitride o Al2O3 indurito riduce al minimo la generazione di trappole di interfaccia indotte dalle radiazioni e l'accumulo di carica di ossido fisso, i due meccanismi primari che causano lo spostamento della tensione di soglia e la deriva della capacità nei dispositivi MOS irradiati.

La qualifica secondo ESCC 22900 dimostra una durezza TID > 100 krad ((Si) per la formulazione standard e > 300 krad ((Si) per l'ossido indurito,con un'induttanza-capacità di spostamento mantenuta al di sotto del 5% al massimo TIDSi verifica la stabilità di ricottura dopo irradiazione: < 1% di cambio aggiuntivo dopo 168 ore a 100°C.L'architettura del condensatore MOS è intrinsecamente immune agli effetti di evento singolo (SEE) non esiste alcun percorso di blocco (è un dispositivo passivo a due terminali), non è presente alcun nodo sensibile alla SEU e la rottura della porta a singolo evento è impedita dallo spessore dielettrico.Questa immunità SEE è un vantaggio architettonico fondamentale rispetto ai dispositivi semiconduttori attivi ed è verificata dalla progettazione, non mediante campionamento.

Risposta a frequenza Q piatta progettata

I sottosistemi RF qualificati per il settore spaziale richiedono un'impedenza costante su tutte le frequenze e la radiazione non deve degradare tale coerenza.L'HACC101S10V500 fornisce una risposta Q piatta progettata con Q mantenuto entro il ±5% in tutta la banda specificata dal cliente, e la degradazione Q verificata < 3% dopo esposizione 100 krad TID.le prestazioni della rete o del bias rimangono stabili dalla verifica pre-lancio fino alla fine della vita della missione;.

Fornitura di carte di wafer digitali per la selezione automatica

L'assemblaggio a livello spaziale richiede una tracciabilità completa a livello di stampo e una classificazione automatica per grado elettrico.compatibile con gli strumenti di automazione di fabbrica SECS-II e di layout GDSII. Ogni matricola è classificata in base al valore di capacità, ESR, Q-fattore e univocamente per la variante RH TID test grade dal campione di qualificazione di radiazione a livello di wafer.La mappa dei wafer si integra direttamente con i selezionatori automatici: estrazione per codice cartografico del container, tracciabilità completa per container (KGD) e documentazione a livello di lotto adatta per la presentazione al comitato di revisione dei materiali dell'ESA/NASA (MRB).

Specificità principali

Parametro Valore
Durezza TID > 100 krad (Si) standard, > 300 krad (Si) indurito, ESCC 22900
SEE Immunità Immune
Degradazione post-TID Q < 3% dopo 100 krad
Stabilità post-irradiazione Spostamento < 1% L dopo 168h di ricottura a 100°C
Risposta Q piatta ± 5% di piattezza, radiostabile
Formato della mappa dei wafer XML KRF, GDSII, SECS-II, connessione per C/ESR/Q/TID
Capacità 5pF ¥ 10 000pF
Tipo dielettrico SiO2, al2O3, nitruro rad-duro, indurito
Temperatura di funzionamento -55°C a +125°C, parametri post-radiazione completi
Certificazione ISO 9001:2015, ESA ESCC qualificato, LAT di livello spaziale

Applicazioni

  • LEO/MEO/GEO Distribuzione di potenza del bus satellitare TID dura > 100 krad, SEE immune, durata di missione qualificata di 15 anni
  • Sottosistemi RF della sonda spaziale profonda Ossido rad-duro > 300 krad, radiazione Q piana stabile in diverse missioni decennali
  • Reti di alimentazione in serie in fase basate sullo spazio Mappa digitale dei wafer per la selezione automatica del contenitore TID, piena tracciabilità
  • Amplificatori di carica per strumenti scientifici ¥ SEE immuni, senza blocco, capacità radiostabile

Contattaci con i tuoi requisiti TID, il profilo della missione e la preferenza del formato della mappa dei wafer.Prototipi di condensatori MOS resistenti alle radiazioni qualificati ESA ESCC con cartina a wafer digitale in 7-10 giorni lavorativi.