chi tiết sản phẩm

Created with Pixso. Nhà Created with Pixso. Các sản phẩm Created with Pixso.
Capacitor MOS
Created with Pixso.

Tụ MOS Ghép Trở Kháng Gradient 220 pF 30V Chip cho Chuỗi Tín Hiệu RF Siêu Rộng

Tụ MOS Ghép Trở Kháng Gradient 220 pF 30V Chip cho Chuỗi Tín Hiệu RF Siêu Rộng

Tên thương hiệu: Hoan
Số mô hình: HGM221S30V220
MOQ: 10 miếng
Điều khoản thanh toán: L/C,D/A,D/P,T/T
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc:
Thiểm Tây, Trung Quốc
Chứng nhận:
ISO 9001:2015, RoHS
Kích thước chip:
0,50 x 0,50 x 0,15 mm
Nhiệt độ hoạt động:
-55°C đến +125°C
Mức độ nhạy cảm với độ ẩm:
MSL 1 (J-STD-020)
RoHS:
Tuân thủ (EU 2015/863)
Băng thông có thể sử dụng:
DC đến 40 GHz (điển hình)
Tùy chỉnh:
Điện dung tùy chỉnh 10 pF-1000 pF, cấu hình giao diện gradient và hình dạng khuôn
Làm nổi bật:

Tụ điện MOS với trở kháng biến đổi để khớp nối

,

Tụ điện MOS 220 pF 30V

,

Tụ điện MOS RF siêu băng rộng

Mô tả sản phẩm

Tụ điện MOS HGM221S30V220 với trở kháng gradient — 220 pF 30V băng tần siêu rộng


Nói tóm lại: HGM221S30V220 là tụ điện MOS một lớp 220 pF, 30 V được chế tạo trên silicon float-zone có điện trở suất cao với điện môi SiO2 được xử lý nhiệt. Giao diện trở kháng gradient của nó làm mượt quá trình chuyển đổi sang mạch xung quanh để tụ điện duy trì phản hồi nhất quán trên dải băng tần siêu rộng, và nó cũng giữ tính nhất quán pha dưới một độ giữa các phần tử để sử dụng trong mảng. Có sẵn các giá trị điện dung tùy chỉnh và cấu hình giao diện.


Thông tin chính


Mục Giá trị
Thương hiệu Hoan
Mẫu mã HGM221S30V220
Danh mục Tụ điện MOS
Điện dung 220 pF ±5% (±2% theo yêu cầu)
Điện áp DC định mức 30 V
Điện môi SiO2 nhiệt, điện môi thuận (300 nm)
Giao diện Lớp phù hợp trở kháng gradient (xác định trên wafer)
Tính nhất quán pha Dưới một độ, từ phần tử này sang phần tử khác
Băng thông sử dụng được DC đến 40 GHz (điển hình)
Kết nối Dây hàn hoặc vi-bump flip-chip
Kích thước chip 0,50 x 0,50 x 0,15 mm
Nhiệt độ hoạt động -55 °C đến +125 °C
Xuất xứ Thiểm Tây, Trung Quốc
Chứng nhận ISO 9001:2015, RoHS
MOQ 10 chiếc
Thời gian giao hàng 5-7 ngày làm việc cho hàng có sẵn, 3-4 tuần cho sản xuất


Cấu tạo lớp phù hợp trở kháng gradient


Lớp phù hợp được chế tạo như một phần của quy trình wafer, giữa giao diện điện môi và điện cực, sử dụng một chuỗi các lớp được phân cấp. Vì nó được xác định bằng quang khắc, cấu hình có thể được điều chỉnh theo thiết kế để đặt điểm chuyển tiếp ở nơi mạch xung quanh cần. Điều này giữ cho việc phù hợp được tích hợp vào thành phần thay vì yêu cầu các phần tử phù hợp bên ngoài.

  • Lớp phân cấp được xác định bằng quang khắc
  • Cấu hình có thể điều chỉnh theo thiết kế
  • Không yêu cầu các phần tử phù hợp bên ngoài


Tính nhất quán pha dưới một độ cho tạo chùm tia

Ngoài giao diện băng tần rộng, bộ phận này còn giữ tính nhất quán pha dưới một độ giữa các phần tử, do đó có thể được sử dụng trong các kênh mảng mà không cần điều chỉnh pha từng phần tử. Dung sai điện dung là ±5% tiêu chuẩn (±2% theo yêu cầu), đặc tính C-V tuyến tính từ 0 V đến 30 V và điện môi SiO2 vô định hình không bị lão hóa, do đó số hạng pha vẫn ổn định theo nhiệt độ và thời gian.

  • Tính nhất quán pha từ phần tử này sang phần tử khác trong phạm vi dưới một độ
  • Tuyến tính C-V từ 0 V đến 30 V: pha ổn định so với điện áp
  • SiO2 không sắt điện: pha ổn định so với nhiệt độ và thời gian


Ứng dụng

  • Ghép nối RF băng tần siêu rộng và chặn DC
  • Các kênh mảng pha và tạo chùm tia yêu cầu pha phù hợp
  • Bỏ qua băng thông rộng và tách nguồn
  • Các mô-đun front-end 5G và 6G
  • Chuỗi thu và phát thông tin vệ tinh
  • Thiết bị đo lường và kiểm tra cần phản xạ thấp trên dải tần rộng


Tụ MOS Ghép Trở Kháng Gradient 220 pF 30V Chip cho Chuỗi Tín Hiệu RF Siêu Rộng