λεπτομέρειες προϊόντων

Created with Pixso. Σπίτι Created with Pixso. Προϊόντα Created with Pixso.
MOS Capacitors
Created with Pixso.

Πυκνωτές MOS με Προσαρμογή Σύνθετης Αντίστασης Κλίσης 220 pF 30V Chip για Αλυσιδωτά Σήματα RF Υπερ-Ευρέος Φάσματος

Πυκνωτές MOS με Προσαρμογή Σύνθετης Αντίστασης Κλίσης 220 pF 30V Chip για Αλυσιδωτά Σήματα RF Υπερ-Ευρέος Φάσματος

Επωνυμία: Hoan
Αριθμός μοντέλου: HGM221S30V220
MOQ: 10 τεμάχια
Όροι πληρωμής: L/C,D/A,D/P,T/T
Λεπτομέρειες
Τόπος καταγωγής:
Shaanxi, Κίνα
Πιστοποίηση:
ISO 9001:2015, RoHS
Μέγεθος τσιπ:
0,50 x 0,50 x 0,15 χλστ
Θερμοκρασία λειτουργίας:
-55°C έως +125°C
Επίπεδο ευαισθησίας στην υγρασία:
MSL 1 (J-STD-020)
RoHS:
Συμμορφώνεται (ΕΕ 2015/863)
Εύρος ζώνης που μπορεί να χρησιμοποιηθεί:
DC έως 40 GHz (τυπικό)
Προσαρμογή:
Προσαρμοσμένη χωρητικότητα 10 pF-1000 pF, προφίλ διασύνδεσης κλίσης και γεωμετρία μήτρας
Επισημαίνω:

Συνδεδεμένος πυκνωτής MOS

,

Συμπιεστής MOS 220 pF 30V

,

Συμπιεστήρας MOS σήματος ραδιοσυχνοτήτων υπερυπαίας ζώνης

Περιγραφή προϊόντων

HGM221S30V220 Αντιστοίχιση αντίστασης κλίσης MOS Συσσωρευτής


Με λίγα λόγια:Ο HGM221S30V220 είναι ένας μονόστρωτος πυκνωτής MOS 220 pF, 30 V, κατασκευασμένος με πυρίτιο υψηλής αντίστασης σε ζώνη πλεύσης με θερμικά καλλιεργημένο διηλεκτρικό SiO2.Η διασύνδεσή του με την αντίσταση της κλίσης εξομαλύνει τη μετάβαση στο περιβάλλον κύκλωμα έτσι ώστε ο πυκνωτής να διατηρεί μια σταθερή απόκριση σε ένα εύρος υπερυποδέσμης, και διατηρεί επίσης σταθερότητα φάσης υπο-πτυχίου μεταξύ των στοιχείων για χρήση συστοιχίας.


Βασικά Γεγονότα


Άρθρο Αξία
Ετικέτα Χόαν
Σχήμα HGM221S30V220
Κατηγορία Συσσωρευτές MOS
Δυνατότητα 220 pF ± 5% (± 2% κατόπιν αιτήματος)
Διορισμένη τάση συνεχούς ρεύματος 30 V
Δηλεκτρικό Θερμικό SiO2, παραηλεκτρικό (300 nm)
Διασύνδεση στρώμα αντιστοίχισης αντίστασης κλίσης (καθορισμένο από πλακίδια)
Συνεκτικότητα φάσης Υπόβαθμος, στοιχείο προς στοιχείο
Χρησιμοποιήσιμο εύρος ζώνης Συνεχή έως 40 GHz (τυπική)
Τερματισμός Μεταλλικό χάλυβα
Μέγεθος τσιπ 00,50 x 0,50 x 0,15 mm
Θέρμανση λειτουργίας -55 °C έως +125 °C
Χώρος καταγωγής Σάνσι, Κίνα
Πιστοποίηση ISO 9001:2015, RoHS
Τροποποιημένο 10 κομμάτια
Χρονοδιάγραμμα 5-7 εργάσιμες ημέρες για το απόθεμα, 3-4 εβδομάδες για την παραγωγή


Κατασκευή στρώματος αντιστάθμισης κλίσης


Το στρώμα αντιστοίχισης κατασκευάζεται ως μέρος της διαδικασίας πλάκας, μεταξύ της διηλεκτρικής διεπαφής και του ηλεκτρόδου, χρησιμοποιώντας μια βαθμιαία ακολουθία στρωμάτων.το προφίλ μπορεί να ρυθμιστεί ανά σχεδιασμό για να τοποθετηθεί η μετάβαση εκεί όπου το περιβάλλει κύκλωμα το χρειάζεταιΑυτό διατηρεί την εναρμόνιση ενσωματωμένη στο συστατικό αντί να απαιτούνται εξωτερικά στοιχεία εναρμόνισης.

  • Λιθογραφικά καθορισμένη βαθμολογημένη στρώση
  • Προφίλ ρυθμιζόμενο ανά σχεδιασμό
  • Δεν απαιτούνται εξωτερικά στοιχεία αντιστοίχισης


Συνεκτικότητα φάσης υπο-επίπεδου για τη διαμόρφωση δέσμης

Εκτός από την ευρυζωνική διεπαφή του, το τμήμα διατηρεί σταθερότητα φάσης υπο-πτυχίου μεταξύ των στοιχείων, έτσι ώστε να μπορεί να χρησιμοποιηθεί σε κανάλια συστοιχίας χωρίς διακοπή φάσης ανά στοιχείο.Η ανοχή χωρητικότητας είναι ±5% πρότυπη (±2% κατόπιν αιτήματος), το χαρακτηριστικό C-V είναι γραμμικό από 0 V έως 30 V, και το αμόρφιο διηλεκτρικό SiO2 δεν γερνά, έτσι ώστε ο όρος φάσης να παραμένει σταθερός σε θερμοκρασία και χρόνο.

  • Συνοχή φάσης στοιχείο προς στοιχείο σε παράθυρο υπο-πτυχίου
  • Γραμμική C-V από 0 V έως 30 V: σταθερή φάση vs παρεκκλίσεις
  • Μη σιδηροηλεκτρικό SiO2: σταθερή φάση έναντι θερμοκρασίας και χρόνου


Εφαρμογές

  • Σύνδεση ραδιοσυχνοτήτων υπερυχυδίσκου και μπλοκάρισμα συνεχούς ρεύματος
  • Διάταξη φάσεων και κανάλια σχηματισμού δέσμης που απαιτούν ταιριασμένη φάση
  • Παράκαμψη ευρυζωνικής σύνδεσης και αποσύνδεση παροχής
  • 5G και 6G ενδιάμεσες μονάδες
  • Αλυσίδες λήψης και μετάδοσης δορυφορικής επικοινωνίας
  • Όργανα δοκιμών και μετρήσεων που απαιτούν χαμηλή αντανάκλαση σε ευρεία ζώνη


Πυκνωτές MOS με Προσαρμογή Σύνθετης Αντίστασης Κλίσης 220 pF 30V Chip για Αλυσιδωτά Σήματα RF Υπερ-Ευρέος Φάσματος