| 브랜드 이름: | Hoan |
| 모델 번호: | HACC681S50V750 |
| MOQ: | 10개 |
| 지불 조건: | T/T,L/C,D/A,D/P |
단일 층 MOS 커패시터는 플로트 존 실리콘 기판에 열적으로 성장된 SiO를 기반으로 하는 평면 금속-절연체-반도체 커패시터입니다.2 유전체. 전류 경로는 내부 전극이나 비아 없이 단일 수직 장벽이므로 장치는 매우 낮은 등가 직렬 인덕턴스와 온도 및 바이어스에 걸쳐 매우 작은 커패시턴스 편차를 제공합니다. 이 모델은 보호 및 고전류 디커플링 역할을 위한 더 큰 풋프린트 변형입니다.
빠른 과도 상태 동안 레일을 안정적으로 유지하는 커패시터의 능력은 처음 몇 나노초 동안 제공하는 임피던스에 의해 결정되며, 이러한 시간 규모에서는 임피던스가 커패시턴스보다 ESL에 의해 지배됩니다. 단일 층 구조는 전류 루프를 0.20mm 수직 경로로 축소하여 과도 이점을 얻습니다.
핫 플러그 인러시 경로 또는 광대역 갭 전력 스테이지에 공급되는 바이어스 네트워크에서 실질적인 결과는 전압 편차를 견디기 위해 커패시터를 직렬로 쌓을 필요 없이 동일한 값의 다층 부품보다 낮은 클램프 오버슈트와 더 짧은 안정화 테일입니다.
이 모델은 고정된 카탈로그 항목이 아닌 구성 가능한 플랫폼이므로 특정 레일, 파형 또는 풋프린트에 대해 부품을 재지정할 수 있습니다. 구매 또는 카탈로그 분류가 요구하는 경우 동일한 플랫폼을 카탈로그 구조의 다른 제품군에 재할당할 수도 있습니다.
| 매개변수 | 표준 | 사용 가능한 맞춤 설정 |
| 커패시턴스 | 680 pF ±10% | 10 pF ~ 10,000 pF; ±5% 또는 더 엄격한 허용 오차 |
| 정격 전압 | 50 V DC | 6.3 V ~ 500 V DC; 스택형 유전체로 1000 V |
| 칩 치수 | 0.75 × 0.75 × 0.20 mm | 0.25 × 0.25 mm ~ 5.0 × 5.0 mm; 4:1 종횡비까지 직사각형 |
| 유전체 | COG/NPO (Class I) | X7R (Class II), 고-K, 사용자 정의 레이어 스택 |
| 상부 금속화 | TaN/TiW/Ni/Au, 2.5 µm Au | 최대 5.0 µm Au; 알루미늄 옵션 |
| 후면 금속화 | TiW-Pt-Au, 1.0 µm Au | Au만 해당; AuSn 또는 AuGe 사전 증착; 은 소결 마감 |
| 설계 아키텍처 | 양면 테두리 | 단면 테두리 또는 테두리 없음 |
| 프로토타입 리드 타임 | 3-4주 | 표준 값의 경우 신속 배송 1-2주 |
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