تفاصيل المنتجات

Created with Pixso. المنزل Created with Pixso. منتجات Created with Pixso.
مكثفات MOS
Created with Pixso.

مكثفات MOS المقاومة للإشعاع 50V طبقة واحدة 100 pF رقاقة مكثفة لأنظمة الأقمار الصناعية الفضائية

مكثفات MOS المقاومة للإشعاع 50V طبقة واحدة 100 pF رقاقة مكثفة لأنظمة الأقمار الصناعية الفضائية

اسم العلامة التجارية: Hoan
رقم الموديل: HACC101S50V100
موك: 10 قطع
شروط الدفع: خطاب الاعتماد، D/A، D/P، T/T
معلومات مفصلة
مكان المنشأ:
شنشي، الصين
إصدار الشهادات:
ISO 9001:2015, RoHS
قوة سحب السندات السلكية:
> 6 gf (25 سلك الاتحاد الأفريقي)
درجة حرارة التشغيل:
-55 درجة مئوية إلى +125 درجة مئوية
درجة حرارة التخزين:
-65 درجة مئوية إلى +150 درجة مئوية
أبعاد الشريحة:
0.50 × 0.50 × 0.15 ملم (20 × 20 × 6 مل)
بنفايات:
متوافق (الاتحاد الأوروبي 863/2015)
خيارات التخصيص:
السعة 10-1000 pF، التفاوت +/-5%، قالب مستطيل يصل إلى 4:1، قطب كهربائي محاط، جانب خلفي عائم، معدنة مخ
إبراز:

مكثفات MOS المقاومة للإشعاع 50 فولت

,

شريحة مكثفات ذات طبقة واحدة

,

مكثفات MOS لأنظمة الأقمار الصناعية الفضائية

وصف المنتج

مكثف MOS مقاوم للإشعاع HACC101S50V100 — 100 بيكوفاراد 50 فولت طبقة واحدة شريحة للأنظمة الفضائية والساتلية

تعريف المنتج:HACC101S50V100 هو مكثف معدني-أكسيد-شبه موصل (MOS) مقاوم للإشعاع بطبقة واحدة بسعة 100 بيكوفاراد ±10% وتصنيف جهد مستمر 50 فولت. تم بناؤه على سيليكون منطقة عائمة عالية المقاومة (>1000 أوم·سم) مع عازل SiO حراري بسمك 300 نانومتر2 ونظام معدني علوي TiW-Au / خلفي TiW-Pt-Au، في شريحة قابلة للربط بسلك بأبعاد 0.50 × 0.50 × 0.15 مم. تم تصميمه للدوائر اللاسلكية والتناظرية الفضائية والساتلية المعرضة للإشعاع والتي تتطلب أيضًا ضوضاء طور منخفضة ونماذج محاكاة دقيقة.


لمحة سريعة

  • السعة: 100 بيكوفاراد ±10% (±5% متوفرة)
  • الجهد المستمر المقنن: 50 فولت
  • الجرعة المؤينة الكلية: >100 كرراد (سيليكون)، معيار اختبار ESCC 22900
  • حث ذاتي للشريحة: <0.05 نانوهنري
  • العازل: SiO حراري2، 300 نانومتر، غير متبلور (لا استجابة كهروإجهادية)
  • حجم الشريحة: 0.50 × 0.50 × 0.15 مم، قابلة للربط بالسلك / لصق شريحة يوتكتيكي


المواصفات (درجة الحرارة = 25 درجة مئوية ما لم يذكر خلاف ذلك)

المعلمة القيمة الشرط
السعة 100 بيكوفاراد ±10% (±5% متوفرة) 1 ميجاهرتز، 1.0 فولت فعال
الجهد المستمر المقنن 50 فولت مستمر
جهد تحمل العازل >125 فولت مستمر (250% مقنن) 1 دقيقة، 25 درجة مئوية
نوع العازل SiO حراري2، 300 نانومتر، غير متبلور —
الركيزة سيليكون منطقة عائمة، >1000 أوم·سم —
حث ذاتي للشريحة <0.05 نانوهنري تم إزالة التأثير
عامل الجودة >2000 @ 1 ميجاهرتز / >300 @ 1 جيجاهرتز نموذجي
مقاومة مكافئة عند 1 جيجاهرتز <0.1 أوم نموذجي
عامل التبديد ≤2.5% @ 1 ميجاهرتز 1.0 فولت فعال
مقاومة العزل ≥104 ميجا أوم عند الجهد المقنن
معامل درجة حرارة السعة 0 ±30 جزء في المليون/درجة مئوية −55 درجة مئوية إلى +125 درجة مئوية
تيار التسرب <10 nA @ 25 °C> عند 50 فولت مستمر
فئة ESD فئة 0 HBM (JESD22-A114) —
حساسية الرطوبة MSL 1 (J-STD-020، عمر أرضي غير محدود) —
مقاومة TID >100 كرراد (سيليكون) ESCC 22900
حصانة SEE لا يوجد مسار قفل، لا توجد عقدة حساسة لـ SEU —
درجة حرارة التشغيل −55 درجة مئوية إلى +125 درجة مئوية —
درجة حرارة التخزين −65 درجة مئوية إلى +150 درجة مئوية —
الطلاء المعدني العلوي TiW-Au، ≥2.5 ميكرومتر Au —
الطلاء المعدني الخلفي TiW-Pt-Au، ≥1.0 ميكرومتر Au (حاجز Pt) —
نوع التركيب قابل للربط بالسلك / لصق شريحة يوتكتيكي AuSn أو إيبوكسي موصل —
قوة سحب سلك الربط >6 gf (سلك Au 25 ميكرومتر) —
أبعاد الشريحة 0.50 × 0.50 × 0.15 مم (20 × 20 × 6 ميل) —
RoHS متوافق (الاتحاد الأوروبي 2015/863) —


التطبيقات النموذجية

  • مرسل مستجيب ساتلي، شبكات حجب/تجاوز التيار المستمر للأقمار الصناعية والتحكم والقيادة والحمولة
  • دوائر خزان مذبذب المركبة الفضائية (VCO) ومرشحات حلقة PLL
  • فصل انحياز وحدات المصفوفة المرحلية في بيئات الإشعاع
  • سلاسل توليف وضبط طور منخفض الضوضاء وسلاسل مرجعية
  • واجهات RF للطيران والفضاء والموثوقية العالية التي تتطلب نماذج محاكاة تم التحقق منها


مكثفات MOS المقاومة للإشعاع 50V طبقة واحدة 100 pF رقاقة مكثفة لأنظمة الأقمار الصناعية الفضائية