รายละเอียดสินค้า

Created with Pixso. บ้าน Created with Pixso. สินค้า Created with Pixso.
เครื่องปรับความแรง MOS
Created with Pixso.

HACC101S30V220 ตัวเก็บประจุ MOS สัญญาณรบกวนต่ำพิเศษ 22pF 30V การควบคุมสัญญาณรบกวนแบบ Hot Carrier สำหรับ LNA

HACC101S30V220 ตัวเก็บประจุ MOS สัญญาณรบกวนต่ำพิเศษ 22pF 30V การควบคุมสัญญาณรบกวนแบบ Hot Carrier สำหรับ LNA

ชื่อแบรนด์: Hoan
หมายเลขรุ่น: HACC101S30V220
ขั้นต่ำ: 10 ชิ้น
เงื่อนไขการชำระเงิน: L/C,D/A,D/P,T/T
ข้อมูลรายละเอียด
สถานที่กำเนิด:
มณฑลส่านซีประเทศจีน
ได้รับการรับรอง:
ISO 9001:2015, RoHS
การทำให้เป็นโลหะด้านบน:
Au, 2.5 หนอ นาที
การทำให้เป็นโลหะด้านหลัง:
Au, 1.0 หนอ นาที
อุณหภูมิในการทำงาน:
-55°ซ ถึง +125°ซ
เป็นไปตามมาตรฐาน RoHS:
สอดคล้องกับสหภาพยุโรป 2015/863
คลาส ESD:
คลาส 0 (HBM)
ประเภทการติดตั้ง:
ลวดยึดติดแบบติดได้ / ยูเทคติก
เน้น:

ตัวเก็บประจุ MOS สัญญาณรบกวนต่ำพิเศษ

,

ตัวเก็บประจุ MOS HACC101S30V220 22pF

,

ตัวเก็บประจุ MOS 30V สำหรับ LNA

คําอธิบายสินค้า

เครื่องปรับความรุนแรง MOS ความรุนแรงต่ําสุด HACC101S30V220 22pF 30V


สรุป:HACC101S30V220 เป็นตัวประกอบ MOS (โลหะ-ออกไซด์-ครึ่งประจุ) แบบชั้นเดียวขนาด 22 pF ± 10%, 30 V DC สร้างขึ้นบนสับสราตซิลิคอนโซนพลอยที่มีความร้อน SiO 300 nm2dielectric. มันถูกออกแบบมาเพื่อการจับคู่การเข้าของเครื่องกระตุ้นเสียงเสียงต่ําสุด (LNA) และการปิด DC โดยที่เสียงส่วนประกอบและพฤติกรรมของอินเตอร์เฟซกําหนดค่าเสียงของตัวรับ


ภาพรวม

ชิป HACC101S30V220 ใช้โครงสร้าง MOS ชั้นเดียว แทนที่จะใช้สตัคเซรามิกหลายชั้น ชิปมีขนาด 0.50 × 0.50 × 0.15 มม.0 μm ทองด้านหลังขั้นต่ํามันสามารถเชื่อมต่อสายและเข้ากันได้กับยูเทคติก die แอตช็อป และถูกนําเสนอในมาตรฐาน ± 10% (K) และ ± 5% (J) ความละเอียดความสามารถ


ลักษณะสําคัญ

  • การควบคุมเสียงกระแทกทางความร้อน: ESL ชิปภายในที่ต่ํากว่า 0.05 nH กับความหนาแน่นของกรงอัตราต่อรองที่ต่ํา
  • การลดความรุนแรงของเครื่องบรรทุกร้อน: ไม่มีผลิตไฟฟ้าหรือไมโครโฟนิค
  • 22 pF ± 10% (5% มีให้) ที่ 30 V DC โดยไม่มี DC bias capacitance derating
  • Q > 2000 ที่ 1 MHz และ > 300 ที่ 1 GHz; ESR ต่ํากว่า 0.1 Ω ที่ 1 GHz
  • สารสับสราตซิลิคอนในโซนลอย มากกว่า 1000 Ω·cm สําหรับการสูญเสียสับสราตที่ต่ํา
  • อิเล็กทรอัดด้านบน TiW-Au และด้านหลัง TiW-Pt-Au สําหรับสายเชื่อมและยูเทคติก die attach
  • มีให้เลือกในค่าความจุที่กําหนดเองบนแพลตฟอร์ม 0.50 มมเดียวกัน


รายละเอียดไฟฟ้า (T = 25°C เว้นแต่ระบุไว้)

ปริมาตร มูลค่า สภาพการทดสอบ
ความจุ 22 pF ± 10% 1 MHz 1.0 Vrms
ตัวเลือกความละเอียดความสามารถ ± 10% (K), ± 5% (J) รางวัล
ความดันแบบเรียงลําดับ DC 30 วอล การทํางานต่อเนื่อง
ความแข็งแรงแบบดียิเลคทริก กว่า 100 V DC 1 นาที 25°C
ชิปภายใน ESL ต่ํากว่า 0.05 nH De-embedded from S-parameters ปริมาตรการของ S-parameters
ปัจจัย Q > 2000 ที่ 1 MHz, > 300 ที่ 1 GHz แบบปกติ
ESR ในระดับ 1 GHz ต่ํากว่า 0.1 Ω แบบปกติ
กระแสรั่ว ต่ํากว่า 10 nA 30 V DC 25°C
ผลิตไฟฟ้าพีเซโอ ต่ํากว่าระดับความรุนแรง 10 กรัม, 20 Hz-2 kHz สกัด
ไดเอเลคทริก SiO ความร้อน2, 300 นม การออกซิเดนแบบแห้ง
สับสราต โซนลอย Si, มากกว่า 1000 Ω·cm ความทนทานสูง
ขนาดชิป 0.50 × 0.50 × 0.15 มิลลิเมตร ± 0.025 มม.
ด้านบน / ด้านหลังเหล็ก Au 2.5 μm / Au 1.0 μm ชั้นติดตาม TiW
อุณหภูมิการทํางาน -55°C ถึง +125°C รางวัล


การใช้งานทั่วไป

  • เครื่องเสริมเสียงเสียงต่ําสุด (LNA) การจับคู่การเข้าและการปิด DC
  • วงจรถังออสซิลเลเตอร์ระยะต่ําเสียงเสียง VCO และ PLL
  • หน่วยรับ RF ด้านหน้าและโมดูลการสร้างรังสี array
  • การฉีดฉีดเฉียบเฉียบเสียงต่ําและการแยกไฟฟ้า
  • อุปกรณ์ทดสอบและวัดที่มีความรู้สึกต่อเสียง


HACC101S30V220 ตัวเก็บประจุ MOS สัญญาณรบกวนต่ำพิเศษ 22pF 30V การควบคุมสัญญาณรบกวนแบบ Hot Carrier สำหรับ LNA