| ชื่อแบรนด์: | Hoan |
| หมายเลขรุ่น: | HACC101S30V220 |
| ขั้นต่ำ: | 10 ชิ้น |
| เงื่อนไขการชำระเงิน: | L/C,D/A,D/P,T/T |
สรุป:HACC101S30V220 เป็นตัวประกอบ MOS (โลหะ-ออกไซด์-ครึ่งประจุ) แบบชั้นเดียวขนาด 22 pF ± 10%, 30 V DC สร้างขึ้นบนสับสราตซิลิคอนโซนพลอยที่มีความร้อน SiO 300 nm2dielectric. มันถูกออกแบบมาเพื่อการจับคู่การเข้าของเครื่องกระตุ้นเสียงเสียงต่ําสุด (LNA) และการปิด DC โดยที่เสียงส่วนประกอบและพฤติกรรมของอินเตอร์เฟซกําหนดค่าเสียงของตัวรับ
ชิป HACC101S30V220 ใช้โครงสร้าง MOS ชั้นเดียว แทนที่จะใช้สตัคเซรามิกหลายชั้น ชิปมีขนาด 0.50 × 0.50 × 0.15 มม.0 μm ทองด้านหลังขั้นต่ํามันสามารถเชื่อมต่อสายและเข้ากันได้กับยูเทคติก die แอตช็อป และถูกนําเสนอในมาตรฐาน ± 10% (K) และ ± 5% (J) ความละเอียดความสามารถ
| ปริมาตร | มูลค่า | สภาพการทดสอบ |
|---|---|---|
| ความจุ | 22 pF ± 10% | 1 MHz 1.0 Vrms |
| ตัวเลือกความละเอียดความสามารถ | ± 10% (K), ± 5% (J) | รางวัล |
| ความดันแบบเรียงลําดับ DC | 30 วอล | การทํางานต่อเนื่อง |
| ความแข็งแรงแบบดียิเลคทริก | กว่า 100 V DC | 1 นาที 25°C |
| ชิปภายใน ESL | ต่ํากว่า 0.05 nH | De-embedded from S-parameters ปริมาตรการของ S-parameters |
| ปัจจัย Q | > 2000 ที่ 1 MHz, > 300 ที่ 1 GHz | แบบปกติ |
| ESR ในระดับ 1 GHz | ต่ํากว่า 0.1 Ω | แบบปกติ |
| กระแสรั่ว | ต่ํากว่า 10 nA | 30 V DC 25°C |
| ผลิตไฟฟ้าพีเซโอ | ต่ํากว่าระดับความรุนแรง | 10 กรัม, 20 Hz-2 kHz สกัด |
| ไดเอเลคทริก | SiO ความร้อน2, 300 นม | การออกซิเดนแบบแห้ง |
| สับสราต | โซนลอย Si, มากกว่า 1000 Ω·cm | ความทนทานสูง |
| ขนาดชิป | 0.50 × 0.50 × 0.15 มิลลิเมตร | ± 0.025 มม. |
| ด้านบน / ด้านหลังเหล็ก | Au 2.5 μm / Au 1.0 μm | ชั้นติดตาม TiW |
| อุณหภูมิการทํางาน | -55°C ถึง +125°C | รางวัล |
![]()