| اسم العلامة التجارية: | Hoan |
| رقم الموديل: | HACC101S30V220 |
| موك: | 10 قطع |
| شروط الدفع: | خطاب الاعتماد، D/A، D/P، T/T |
ملخص:HACC101S30V220 هو مكثف MOS (أكسيد المعادن-أو نصف الموصلات) ذو طبقة واحدة 22 pF ± 10% ، 30 V DC مبني على رصيف السيليكون في منطقة العائمة مع SiO حرارية 300 nm2المعديل الكهربائي. تم تصميمه لمطابقة المدخلات لمضخم الضوضاء المنخفضة للغاية (LNA) وحجب التيار المباشر ، حيث يحدد ضوضاء المكون وسلوك الواجهة رقم ضوضاء المستقبل.
يستخدم جهاز HACC101S30V220 بنية MOS من طبقة واحدة بدلاً من كومة سيراميكية متعددة الطبقات. تقيس الشريحة 0.50 × 0.50 × 0.15 مم مع 2.5 ميكرو متراً من الحد الأدنى للتعديل في القمة الذهبية و 1.0 ميكرومتر من الذهب في الجزء الخلفيإنه قابل لترابط الأسلاك ومتوافق مع التوصيل المقطعي الايتكتيكي ، ويتم تقديمه في معايير ± 10% (K) و ± 5% (J) من تساهلات السعة.
| المعلم | القيمة | حالة الاختبار |
|---|---|---|
| السعة | 22 pF ± 10% | 1 ميغاهرتز، 1.0 Vrms |
| خيارات التسامح بين السعة | ± 10% (K) ، ± 5% (J) | |
| الجهد المشترك المسموح به | 30 فولت | التشغيل المستمر |
| قوة الكهرباء المضادة | فوق 100 فولت DC | دقيقة واحدة، 25 درجة مئوية |
| الشريحة الداخلية ESL | أقل من 0.05 nH | غير مضمنة من معايير S |
| عامل (ق) | > 2000 عند 1 ميغاهرتز، > 300 عند 1 غيغاهرتز | نموذجي |
| ESR عند 1 GHz | أقل من 0.1 Ω | نموذجي |
| تيار التسرب | أقل من 10 nA | 30 فولت DC، 25 درجة مئوية |
| الناتج الكهربائي | أقل من مستوى الضوضاء | 10 غرام، 20 هرتز-2 كيلو هرتز مسح |
| الديليكتريك | الـ SiO الحراري2, 300 نلم | الأكسدة الجافة |
| القالب | المنطقة العائمة Si، فوق 1000 Ω·cm | مقاومة عالية |
| أبعاد الشريحة | 0.50 × 0.50 × 0.15 ملم | ±0.025 ملم |
| أعلى / الجزء الخلفي المعدن | 2.5 ميكرومتر / 1.0 ميكرومتر | طبقة الالتصاق TiW |
| درجة حرارة العمل | -55°C إلى +125°C | |
![]()