جزئیات محصولات

Created with Pixso. خونه Created with Pixso. محصولات Created with Pixso.
هک کننده های MOS
Created with Pixso.

خازن‌های MOS فوق‌العاده کم نویز HACC101S30V220 22 پیکوفاراد 30 ولت کنترل نویز حامل داغ برای LNA

خازن‌های MOS فوق‌العاده کم نویز HACC101S30V220 22 پیکوفاراد 30 ولت کنترل نویز حامل داغ برای LNA

نام تجاری: Hoan
شماره مدل: HACC101S30V220
MOQ: 10 عدد
شرایط پرداخت: L/C، D/A، D/P، T/T
اطلاعات جزئیات
محل منبع:
شانشی، چین
گواهی:
ISO 9001:2015, RoHS
تاپ متالیزاسیون:
آئو، 2.5 میلی متر دقیقه
متالیزاسیون پشت:
Au، 1.0 um min
دمای عملیاتی:
-55 درجه سانتی گراد تا +125 درجه سانتی گراد
RoHS:
مطابق با اتحادیه اروپا 2015/863
کلاس ESD:
کلاس 0 (HBM)
نوع نصب:
اتصال سیم قابل اتصال / اتکتیک قالب
برجسته کردن:

خازن MOS با سر و صدا بسیار کم

,

HACC101S30V220 22pF MOS خازن

,

تهویه 30 ولت MOS برای LNA

توضیحات محصول

خازن MOS با نویز فوق‌العاده کم HACC101S30V220 22pF 30V


خلاصه:HACC101S30V220 یک خازن MOS (نیمه‌هادی اکسید فلز) تک لایه با ظرفیت 22 پیکوفاراد ±10% و ولتاژ 30 ولت DC است که بر روی یک زیرلایه سیلیکونی شناور با دی‌الکتریک SiO2 حرارتی 300 نانومتری ساخته شده است. این خازن برای تطبیق ورودی تقویت‌کننده نویز فوق‌العاده کم (LNA) و مسدود کردن DC طراحی شده است، جایی که نویز قطعه و رفتار رابط، ضریب نویز گیرنده را تعیین می‌کنند.سیلیکون شناور، بالای 1000 اهم بر سانتی‌مترHACC101S30V220 به جای پشته سرامیکی چند لایه، از ساختار MOS تک لایه استفاده می‌کند. ابعاد تراشه 0.50 × 0.50 × 0.15 میلی‌متر با حداقل فلزکاری طلای رویی 2.5 میکرومتر و حداقل طلای پشتی 1.0 میکرومتر است. این خازن قابل سیم‌بندی است و با اتصال یوتکتیک تراشه سازگار است و در تلرانس‌های ظرفیت استاندارد ±10% (K) و ±5% (J) ارائه می‌شود.


ویژگی‌های کلیدی

کنترل نویز حرارتی حامل داغ: ESL تراشه ذاتی کمتر از 0.05 نانوهنری با چگالی کم تله‌های رابط.


سرکوب نویز حامل داغ: بدون خروجی پیزوالکتریک یا میکروفونیک.

  • 22 پیکوفاراد ±10% (5% موجود) در 30 ولت DC بدون کاهش ظرفیت با بایاس DC.
  • Q > 2000 در 1 مگاهرتز و > 300 در 1 گیگاهرتز؛ ESR کمتر از 0.1 اهم در 1 گیگاهرتز.
  • زیرلایه سیلیکونی شناور با مقاومت بالای 1000 اهم بر سانتی‌متر برای تلفات کم زیرلایه.
  • الکترود رویی TiW-Au و پشت TiW-Pt-Au برای سیم‌بندی و اتصال یوتکتیک تراشه.
  • در مقادیر ظرفیت سفارشی بر روی همان پلتفرم 0.50 میلی‌متری موجود است.
  • مشخصات الکتریکی (T = 25 درجه سانتی‌گراد مگر اینکه خلاف آن ذکر شده باشد)
  • پارامتر


مقدار

شرایط تست ظرفیت 22 پیکوفاراد ±10%
1 مگاهرتز، 1.0 ولت RMS گزینه‌های تلرانس ظرفیت ±10% (K)، ±5% (J)
— ولتاژ DC نامی جلوی گیرنده‌های RF و ماژول‌های شکل‌دهنده پرتو آرایه
عملکرد پیوسته استقامت دی‌الکتریک بالاتر از 100 ولت DC
1 دقیقه، 25 درجه سانتی‌گراد ESL تراشه ذاتی کمتر از 0.05 نانوهنری
از پارامترهای S جدا شده ضریب Q >2000 در 1 مگاهرتز، >300 در 1 گیگاهرتز
معمولی ESR در 1 گیگاهرتز کمتر از 10 نانوآمپر
معمولی جریان نشتی کمتر از 10 نانوآمپر
30 ولت DC، 25 درجه سانتی‌گراد خروجی پیزوالکتریک زیر سطح نویز
10 گرم، جاروب 20 هرتز تا 2 کیلوهرتز دی‌الکتریک SiO2 حرارتی، 300 نانومتر
اکسیداسیون خشک زیرلایهسیلیکون شناور، بالای 1000 اهم بر سانتی‌مترمقاومت بالا ابعاد تراشه
0.50 × 0.50 × 0.15 میلی‌متر ±0.025 میلی‌متر فلز رویی / پشتی
Au 2.5 میکرومتر / Au 1.0 میکرومتر لایه چسب TiW دمای عملیاتی
-55 درجه سانتی‌گراد تا +125 درجه سانتی‌گراد — کاربردهای معمول
تطبیق ورودی و مسدود کردن DC تقویت‌کننده نویز فوق‌العاده کم (LNA) مدارهای تشدید کننده نوسانگر VCO و PLL با نویز فاز کم جلوی گیرنده‌های RF و ماژول‌های شکل‌دهنده پرتو آرایه


تزریق بایاس با نویز کم و جداسازی منبع تغذیه

  • ابزارهای اندازه‌گیری و تست حساس به نویز


خازن‌های MOS فوق‌العاده کم نویز HACC101S30V220 22 پیکوفاراد 30 ولت کنترل نویز حامل داغ برای LNA