Подробная информация о продукции

Created with Pixso. Дом Created with Pixso. Продукты Created with Pixso.
Конденсаторы MOS
Created with Pixso.

Ультравысокий Q-фактор 100pF 30V MOS конденсаторы низкий ESR миниатюрный однослойный RF чип

Ультравысокий Q-фактор 100pF 30V MOS конденсаторы низкий ESR миниатюрный однослойный RF чип

Название бренда: Hoan
Номер модели: ХАКК101С30В300
минимальный заказ: 10 шт.
Условия оплаты: Л/К, Д/А, Д/П, Т/Т
Детальная информация
Место происхождения:
Шэньси, Китай
Сертификация:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Топ Металлизация:
TiW-Au, >=2,5 мкм Au
Рабочая температура:
от -55 С до +125 С
Тип монтажа:
Крепление проволочной/эвтектической матрицы
Класс ЭСР:
Класс 0 (HBM) согласно JESD22-A114
Чувствительность влаги:
1 MSL согласно J-STD-020
Кастомизация:
Емкость 10–1000 пФ, геометрия кристалла с соотношением сторон 4:1, доступна металлизация и отделка з
Упаковка:
ESD-безопасная проводящая вафельная упаковка или гель-пак, экспортная коробка в сухой азотной упаков
Сертификация:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Выделить:

Ультравысокий Q-фактор MOS конденсатор

,

Конденсатор MOS 100pF 30V

,

Низкий ESR RF чип-конденсатор

Характер продукции

Ультравысокий коэффициент добротности 100 пФ 30 В МОП-конденсатор (HACC101S30V300) — миниатюрный однослойный ВЧ-чип с низким ESR


Резюме: Hoan HACC101S30V300 представляет собой однослойный МОП-конденсатор емкостью 100 пФ ±10% с номинальным напряжением 30 В постоянного тока, обеспечивающий ультравысокий коэффициент добротности (Q>2000 @ 1 МГц, Q>300 @ 1 ГГц) и ультранизкий ESR (<0,08 Ω @ 1 ГГц) в ультраминиатюрном корпусе 0,40 × 0,40 × 0,15 мм с возможностью монтажа методом проволочной сварки в виде оголенного кристалла. Он разработан для ВЧ-согласования импеданса с низкими потерями, блокировки постоянного тока и шунтирования, где площадь платы и вносимые потери имеют решающее значение.


Что такое однослойный МОП-конденсатор?

МОП-конденсатор (металл-оксид-полупроводник) представляет собой однослойный конденсатор, в котором используется термически выращенный диэлектрик из диоксида кремния (SiO2) на подложке из кремния с высоким удельным сопротивлением, с металлическими электродами сверху и снизу. Поскольку отсутствует внутренний стек электродов, ток течет вертикально через один диэлектрический слой, что обеспечивает практически нулевую собственную эквивалентную последовательную индуктивность (ESL) и высокую собственную резонансную частоту (SRF) по сравнению с многослойными керамическими конденсаторами (MLCC).


Ключевые преимущества в производительности

  • Ультравысокий коэффициент добротности — Q > 2000 при 1 МГц и Q > 300 при 1 ГГц. Подложка, выращенная методом зонной плавки (>1000 Ω·см), минимизирует потери на вихревые токи, поэтому вносимые потери в цепи незначительны, а общий потери определяются согласующим индуктором, а не конденсатором.
  • Ультранизкий ESR — ESR обычно ниже 0,08 Ω при 1 ГГц, что минимизирует потери I²R в цепях шунтирования усилителя мощности и блокировки постоянного тока.
  • Миниатюрный форм-фактор чипа — оголенный кристалл размером 0,40 мм занимает примерно 36% площади стандартного чипа размером 0,50 мм, увеличивая плотность каналов в многоканальных ВЧ-трактах.
  • Практически нулевая собственная индуктивность — однослойный вертикальный путь тока обеспечивает собственную ESL чипа менее 0,03 нГн; резонанс системы определяется управляемым пользователем монтажным проводом.
  • Стабильная зависимость емкости от напряжения — параэлектрический SiO2 демонстрирует незначительный коэффициент постоянного смещения (<10 ppm/V) и отсутствие ферроэлектрического старения.


Электрические характеристики (T = 25°C, если не указано иное)

Параметр Значение Условие
Емкость 100 пФ ±10% (±5% доступны) 1 МГц, 1,0 В среднеквадр.
Номинальное напряжение (постоянное) 30 В Непрерывное
Коэффициент добротности >2000 @ 1 МГц / >300 @ 1 ГГц Типичное
ESR @ 1 ГГц <0,08 Ω Типичное
Коэффициент потерь ≤0,15% 1 кГц, 1,0 В среднеквадр.
Собственная ESL чипа <0,03 нГн Де-эмбеддированная
Собственная резонансная частота >8 ГГц на уровне чипа; >1,2 ГГц с монтажным проводом 0,5 мм Типичное
Сопротивление изоляции ≥10⁴ МОм При номинальном напряжении, 25°C
Ток утечки <10 nA @ 25°C> При номинальном напряжении
Диэлектрическая абсорбция <0,1% 1 кГц
Размеры чипа 0,40 × 0,40 × 0,15 мм ±25 µм
Диэлектрик Термический SiO2, 300 нм Параэлектрический
Рабочая температура -55°C до +125°C Полная параметрическая
Монтаж Возможность монтажа проволочной сваркой / Эвтектическое крепление кристалла AuSn или проводящий эпоксидный клей


Типичные области применения

  • Цепи согласования импеданса и блокировки постоянного тока ВЧ-усилителей мощности
  • Малопотерьное шунтирование и развязка питания выше 1 ГГц
  • Многоканальные ВЧ-тракты и модульные сборки
  • Танк-контуры генераторов (VCO) и ФАПЧ, требующие элемента с высоким Q и низкими потерями
  • Измерительные приборы и сборки пробных карт


Ультравысокий Q-фактор 100pF 30V MOS конденсаторы низкий ESR миниатюрный однослойный RF чип