جزئیات محصولات

Created with Pixso. خونه Created with Pixso. محصولات Created with Pixso.
هک کننده های MOS
Created with Pixso.

فاکتور Q فوق العاده بالا 100pF 30V MOS Capacitors ESR پایین تراشه RF کوچک تک لایه ای

فاکتور Q فوق العاده بالا 100pF 30V MOS Capacitors ESR پایین تراشه RF کوچک تک لایه ای

نام تجاری: Hoan
شماره مدل: HACC101S30V300
MOQ: 10 عدد
شرایط پرداخت: L/C، D/A، D/P، T/T
اطلاعات جزئیات
محل منبع:
شانشی، چین
گواهی:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
تاپ متالیزاسیون:
TiW-Au، >=2.5 um Au
دمای عملیاتی:
-55 تا +125 درجه سانتیگراد
نوع نصب:
اتصال سیم قابل اتصال / اتکتیک قالب
کلاس ESD:
کلاس 0 (HBM) به ازای JESD22-A114
حساسیت به رطوبت:
MSL 1 در J-STD-020
سفارشی سازی:
ظرفیت 10 pF-1000 pF، هندسه قالب به نسبت ابعاد 4:1، متالیزاسیون و روکش پشتی موجود است
بسته بندی:
کارتن صادراتی بسته وافل رسانا ایمن ESD یا ژل پاک، بسته خشک نیتروژن
گواهی:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
برجسته کردن:

خازن MOS با فاکتور Q فوق العاده بالا

,

خازن MOS 100 پیکوفاراد 30 ولت

,

خازن تراشه RF ESR پایین

توضیحات محصول

خازن MOS با ضریب Q فوق‌العاده بالا 100 پیکوفاراد 30 ولت (HACC101S30V300) — چیپ RF تک لایه مینیاتوری با ESR پایین


خلاصه: هوآن HACC101S30V300 یک خازن MOS تک لایه با ظرفیت 100 پیکوفاراد ±10% و ولتاژ نامی 30 ولت DC است که دارای ضریب Q فوق‌العاده بالا (Q>2000 @ 1 مگاهرتز، Q>300 @ 1 گیگاهرتز) و ESR فوق‌العاده پایین ( <0.08 اهم @ 1 گیگاهرتز) در بسته‌بندی دای برهنه قابل سیم‌بندی با ابعاد فوق‌العاده مینیاتوری 0.40 × 0.40 × 0.15 میلی‌متر است. این خازن برای تطبیق امپدانس RF با تلفات کم، مسدود کردن DC و بای‌پس در مواردی که مساحت برد و تلفات درج حیاتی هستند، طراحی شده است.خازن MOS تک لایه چیست؟یک خازن MOS (خازن فلز-اکسید-نیمه‌هادی) یک خازن تک لایه است که از دی‌الکتریک دی‌اکسید سیلیکون (SiO2) رشد یافته حرارتی بر روی یک زیرلایه سیلیکونی با مقاومت بالا، با الکترودهای فلزی در بالا و پایین استفاده می‌کند. از آنجایی که هیچ پشته الکترود داخلی وجود ندارد، جریان به صورت عمودی از یک لایه دی‌الکتریک عبور می‌کند، که منجر به اندوکتانس سری معادل ذاتی (ESL) نزدیک به صفر و فرکانس تشدید خودی (SRF) بالا در مقایسه با خازن‌های سرامیکی چند لایه (MLCC) می‌شود.مزایای کلیدی عملکرد


ضریب Q فوق‌العاده بالا

— Q > 2000 در 1 مگاهرتز و Q > 300 در 1 گیگاهرتز. زیرلایه شناور (بیش از 1000 اهم·سانتی‌متر) تلفات جریان گردابی را به حداقل می‌رساند، بنابراین تلفات درج شبکه ناچیز است و سلف تطبیق، نه خازن، بر تلفات کل غالب است.ESR فوق‌العاده پایین — ESR معمولاً کمتر از 0.08 اهم در 1 گیگاهرتز، تلفات I²R را در مسیرهای بای‌پس تقویت‌کننده توان و مسدود کننده DC به حداقل می‌رساند.اپوکسی طلایی یا رسانا — دای برهنه 0.40 میلی‌متری تقریباً 36% از فضای اشغال شده توسط یک چیپ استاندارد 0.50 میلی‌متری را اشغال می‌کند و تراکم کانال را در پیش‌باند‌های RF چند کاناله افزایش می‌دهد.


اندوکتانس ذاتی نزدیک به صفر

  • — مسیر جریان عمودی تک لایه منجر به ESL چیپ ذاتی کمتر از 0.03 نانو‌هانری می‌شود؛ تشدید سیستم توسط سیم اتصال کنترل شده توسط کاربر تنظیم می‌شود.C-V پایدار
  • — SiO پارالکتریک2
  • ضریب بایاس DC ناچیز (<10 ppm/V) و پیری فرالکتریک ندارد.مشخصات الکتریکی (T = 25 درجه سانتی‌گراد مگر اینکه خلاف آن ذکر شده باشد)
  • پارامترمقدار
  • شرایطظرفیت خازنیاپوکسی طلایی یا رسانا1 مگاهرتز، 1.0 ولت RMSولتاژ نامی (DC)


30 ولت

SiO حرارتی
پیوسته ضریب Q >2000 @ 1 مگاهرتز / >300 @ 1 گیگاهرتز
معمولی ESR @ 1 گیگاهرتز <0.08 اهم
معمولی ضریب اتلاف ≤0.15%
1 کیلوهرتز، 1.0 ولت RMS ESL چیپ ذاتی <0.1%
جداسازی شده فرکانس تشدید خودی <0.1%
معمولی مقاومت عایقی ≥10⁴ مگا اهم
در ولتاژ نامی، 25 درجه سانتی‌گراد جریان نشتی در ولتاژ نامی
جذب دی‌الکتریک <0.1%
1 کیلوهرتز ابعاد چیپ 0.40 × 0.40 × 0.15 میلی‌متر
±25 میکرومتر <10 nA @ 25°C> دی‌الکتریک
2 ، 300 نانومتر پارالکتریک
دمای عملیاتی -55 درجه سانتی‌گراد تا +125 درجه سانتی‌گراد تمام پارامتری
نصب قابل سیم‌بندی / اتصال دای یوتکتیکاپوکسی طلایی یا رسانا کاربردهای معمول
شبکه‌های تطبیق امپدانس و بلوک‌های DC تقویت‌کننده توان RF بای‌پس با تلفات کم و جداسازی تغذیه بالای 1 گیگاهرتز مونتاژهای پیش‌باند و ماژول RF چند کاناله
مدارهای مخزن نوسانگر (VCO) و PLL که به یک المان با Q بالا و تلفات کم نیاز دارند تجهیزات تست و اندازه‌گیری و مونتاژ کارت پروب



فاکتور Q فوق العاده بالا 100pF 30V MOS Capacitors ESR پایین تراشه RF کوچک تک لایه ای