تفاصيل المنتجات

Created with Pixso. المنزل Created with Pixso. منتجات Created with Pixso.
مكثفات MOS
Created with Pixso.

عامل Q فائق الارتفاع 100pF 30V مكثفات MOS منخفضة ESR رقاقة RF مصغرة ذات طبقة واحدة

عامل Q فائق الارتفاع 100pF 30V مكثفات MOS منخفضة ESR رقاقة RF مصغرة ذات طبقة واحدة

اسم العلامة التجارية: Hoan
رقم الموديل: HACC101S30V300
موك: 10 قطع
شروط الدفع: خطاب الاعتماد، D/A، D/P، T/T
معلومات مفصلة
مكان المنشأ:
شنشي، الصين
إصدار الشهادات:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
أعلى المعدنة:
TiW-Au، >=2.5 أم Au
درجة حرارة التشغيل:
-55 درجة مئوية إلى +125 درجة مئوية
نوع التركيب:
سلك قابل للربط / مرفق بالقالب سهل الانصهار
فئة البيئة والتنمية المستدامة:
الفئة 0 (HBM) لكل JESD22-A114
حساسية الرطوبة:
MSL 1 لكل J-STD-020
التخصيص:
السعة 10 pF-1000 pF، وهندسة القالب تصل إلى نسبة عرض إلى ارتفاع 4:1، وتتوفر عملية المعدنة والتشطيب ال
التعبئة والتغليف:
حزمة وافل موصلة آمنة من ESD أو جل-باك، كرتونة تصدير حزمة جافة من النيتروجين
إصدار الشهادات:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
إبراز:

مكثف MOS ذو عامل Q فائق الارتفاع

,

مكثف MOS 100pF 30V

,

مكثف رقاقة ESR RF منخفض

وصف المنتج

مكثف MOS بعامل جودة فائق الارتفاع 100 بيكوفاراد 30 فولت (HACC101S30V300) — شريحة RF أحادية الطبقة مصغرة ذات مقاومة تسلسلية مكافئة منخفضة جدًا


ملخص: الـ Hoan HACC101S30V300 هو مكثف MOS أحادي الطبقة بسعة 100 بيكوفاراد ±10% ومعدل جهد 30 فولت تيار مستمر، يوفر عامل جودة فائق الارتفاع (Q>2000 @ 1 ميجاهرتز، Q>300 @ 1 جيجاهرتز) و مقاومة تسلسلية مكافئة منخفضة جدًا (<0.08 Ω @ 1 جيجاهرتز) في عبوة شريحة عارية مصغرة للغاية بأبعاد 0.40 × 0.40 × 0.15 مم قابلة للربط السلكي. تم تصميمه لمطابقة معاوقة الترددات الراديوية منخفضة الفقد، وحجب التيار المستمر، والتجاوز حيث تكون مساحة اللوحة وفقد الإدخال أمرًا بالغ الأهمية.


ما هو مكثف MOS أحادي الطبقة؟

مكثف MOS capacitor (مكثف معدن-أكسيد-شبه موصل) هو مكثف أحادي الطبقة يستخدم عازل ثاني أكسيد السيليكون (SiO2) مُنمّى حرارياً على ركيزة سيليكون عالية المقاومة، مع أقطاب معدنية في الأعلى والأسفل. نظرًا لعدم وجود مكدس أقطاب داخلي، يتدفق التيار عموديًا عبر طبقة عازلة واحدة، مما يوفر محاثة تسلسلية مكافئة جوهرية قريبة من الصفر (ESL) وتردد رنين ذاتي مرتفع (SRF) مقارنة بالمكثفات الخزفية متعددة الطبقات (MLCCs).


مزايا الأداء الرئيسية

  • عامل جودة فائق الارتفاع — Q > 2000 عند 1 ميجاهرتز و Q > 300 عند 1 جيجاهرتز. تقلل ركيزة المنطقة العائمة (>1000 Ω·cm) من فقد التيار الدوامي، لذا فإن فقد إدخال الشبكة لا يُذكر وتهيمن محاثة المطابقة، وليس المكثف، على الفقد الكلي.
  • مقاومة تسلسلية مكافئة منخفضة جدًا — عادةً ما تكون ESR أقل من 0.08 Ω عند 1 جيجاهرتز، مما يقلل من فقد I²R في مسارات تجاوز مضخم الطاقة وحجب التيار المستمر.
  • شكل شريحة مصغر — تشغل الشريحة العارية البالغة 0.40 مم حوالي 36% من مساحة شريحة قياسية بحجم 0.50 مم، مما يزيد من كثافة القناة في الواجهات الأمامية للترددات الراديوية متعددة القنوات.
  • محاثة جوهرية قريبة من الصفر — مسار التيار العمودي أحادي الطبقة ينتج عنه ESL شريحة جوهرية أقل من 0.03 نانوهنري؛ يتم تحديد رنين النظام بواسطة سلك الربط الذي يتحكم فيه المستخدم.
  • سعة مستقرة مع الجهد (C-V) — يُظهر SiO البارالكتريك2 معامل انحياز تيار مستمر لا يُذكر (<10 جزء في المليون/فولت) ولا يوجد تقادم كهربائي حديدي.


المواصفات الكهربائية (T = 25°C ما لم يُذكر خلاف ذلك)

المعلمة القيمة الشرط
السعة 100 بيكوفاراد ±10% (±5% متاح) 1 ميجاهرتز، 1.0 فولت ذروة فعالة
الجهد المقنن (تيار مستمر) 30 فولت مستمر
عامل الجودة >2000 @ 1 ميجاهرتز / >300 @ 1 جيجاهرتز نموذجي
ESR @ 1 جيجاهرتز <0.08 Ω نموذجي
عامل التبديد ≤0.15% 1 كيلوهرتز، 1.0 فولت ذروة فعالة
ESL شريحة جوهرية <0.03 نانوهنري مُفكك
تردد الرنين الذاتي >8 جيجاهرتز على مستوى الشريحة؛ >1.2 جيجاهرتز مع سلك ربط 0.5 مم نموذجي
مقاومة العزل ≥10⁴ ميجا أوم عند الجهد المقنن، 25°C
تيار التسرب <10 nA @ 25°C> عند الجهد المقنن
امتصاص العازل <0.1% 1 كيلوهرتز
أبعاد الشريحة 0.40 × 0.40 × 0.15 مم ±25 ميكرومتر
العازل حراري SiO2, 300 نانومتر بارالكتريك
درجة حرارة التشغيل -55°C إلى +125°C كامل المعلمات
التركيب قابل للربط السلكي / تثبيت الشريحة باليوتكتيك AuSn أو إيبوكسي موصل


التطبيقات النموذجية

  • شبكات مطابقة معاوقة مضخمات الطاقة للترددات الراديوية وحجب التيار المستمر
  • تجاوز وفصل إمدادات الطاقة منخفض الفقد فوق 1 جيجاهرتز
  • تجميعات الواجهات الأمامية والوحدات النمطية للترددات الراديوية متعددة القنوات
  • دوائر خزان المذبذب (VCO) و PLL التي تتطلب عنصرًا عالي الجودة ومنخفض الفقد
  • أجهزة القياس والاختبار وتجميعات بطاقات المجسات


عامل Q فائق الارتفاع 100pF 30V مكثفات MOS منخفضة ESR رقاقة RF مصغرة ذات طبقة واحدة