รายละเอียดสินค้า

ชื่อแบรนด์: Hoan
หมายเลขรุ่น: HACC221S50V350
ขั้นต่ำ: 10 ชิ้น
เงื่อนไขการชำระเงิน: T/T,L/C,D/P,D/A
ข้อมูลรายละเอียด
สถานที่กำเนิด:
มณฑลส่านซีประเทศจีน
ได้รับการรับรอง:
ISO 9001:2015, RoHS
อุณหภูมิในการทำงาน:
-55°ซ ถึง +125°ซ
ความไวต่อความชื้น:
MSL 1 ต่อ J-STD-020
การปฏิบัติตาม:
RoHS EU 2011/65/EU และ (EU) 2015/863, REACH, ปราศจากฮาโลเจน IEC 61249-2-21 ตามคำขอ
ระบบคุณภาพ:
ISO 9001:2015
ความครอบคลุมการทดสอบ:
การทดสอบแม่พิมพ์ 100% สำหรับ C, DF, การรั่วไหลและ DWV; พารามิเตอร์ S และการตรวจสอบย้อนกลับล็อตตามคำข
ระดับการปรับแต่ง:
C 10-1000pF, 6.3-100V DC, แม่พิมพ์ 0.25-5.0มม., ความหนา 50-250µm
เน้น:

Symmetrical Non-Polar MOS Capacitor

,

Ultra-Thin 90µm SLC Chip

,

Flat High-Q Microwave Capacitor

คําอธิบายสินค้า

HACC221S50V350 ตัวเก็บประจุ MOS แบบสมมาตรไม่มีขั้ว 220 pF ชิปบางเฉียบ 90 ไมโครเมตรสำหรับซับสเตรตแบบฝัง

กล่าวโดยสรุป: Hoan HACC221S50V350 เป็นตัวเก็บประจุ MOS แบบชั้นเดียว 220 pF ±10%, 50 V DC ที่จัดส่งในรูปแบบดายสำหรับต่อสายไฟ มีขนาด 0.50 × 0.50 × 0.09 มม. ขั้วไฟฟ้าด้านบนและด้านล่างเหมือนกัน ดังนั้นจึงทำงานได้ทั้งสองทิศทางโดยไม่มีเครื่องหมายขั้ว Q factor สูงกว่า 2000 ที่ 1 MHz และยังคงสูงกว่า 25 ที่ 10 GHz, ESL ต่ำกว่า 0.04 nH และความหนารวมต่ำกว่า 100 ไมโครเมตร ซึ่งช่วยให้ดายสามารถเคลือบภายในลามิเนต, โพลีอิไมด์ และซับสเตรต LTCC ได้ ค่าความจุ, แรงดันไฟฟ้าที่กำหนด, รูปทรงดาย และการเคลือบโลหะสามารถปรับแต่งได้


ผลิตภัณฑ์นี้คืออะไร?

HACC221S50V350 อยู่ในกลุ่มตัวเก็บประจุ MOS แบบชั้นเดียว หรือที่เรียกว่า SLC (Single Layer Capacitor), ตัวเก็บประจุแบบชิปต่อสายไฟ หรือตัวเก็บประจุ RF แบบ MOS อุปกรณ์นี้เป็นโครงสร้างแบบระนาบโลหะ-ออกไซด์-สารกึ่งตัวนำ: ไดอิเล็กทริก SiO2 ที่เติบโตด้วยความร้อน 300 นาโนเมตรอยู่ระหว่างขั้วไฟฟ้าด้านบนแบบสปัตเตอร์และด้านหลังที่เคลือบโลหะของซับสเตรตซิลิคอนแบบ float-zone ที่มีความต้านทานสูง (>1000 โอห์ม·ซม.) กระแสไหลในแนวตั้งผ่านเส้นทางประมาณ 90 ไมโครเมตร โดยไม่มีโครงสร้างขั้วไฟฟ้าภายใน, ไม่มีวิอา และไม่มีการเดินสายแบบคดเคี้ยว เส้นทางการไหลของกระแสแบบชั้นเดียวในแนวตั้งนี้คือเหตุผลที่ชิ้นส่วนนี้รักษา Q factor สูงและค่าความเหนี่ยวนำอนุกรมสมมูลต่ำที่ความถี่ไมโครเวฟ ซึ่งตัวเก็บประจุเซรามิกแบบหลายชั้นจะถึงจุดเรโซแนนซ์ตัวเองและกลายเป็นแบบเหนี่ยวนำ



ตารางการปรับแต่ง

พารามิเตอร์ ค่ามาตรฐาน ช่วงที่ปรับแต่งได้
ความจุ 220 pF ±10% 10 pF ถึง 1000 pF, ±5% หรือดีกว่าตามคำขอ
แรงดันไฟฟ้าที่กำหนด 50 V DC 6.3 V ถึง 100 V DC แบบชั้นเดียว
ไดอิเล็กทริก 300 nm thermal SiO2, Class I Class II high-K หรือความหนาออกไซด์ที่ปรับแต่งได้
ขนาดดาย 0.50 × 0.50 มม. 0.25 × 0.25 มม. ถึง 5.0 × 5.0 มม., สี่เหลี่ยมผืนผ้าได้ถึง 4:1
ความหนาดาย 90 ไมโครเมตร 50 ไมโครเมตร ถึง 250 ไมโครเมตร
การเคลือบโลหะด้านบน TaN/TiW/Ni/Au, 2.5 ไมโครเมตร Au สูงสุด 5.0 ไมโครเมตร Au, ตัวเลือก Al หรือ TiW-Au
การเคลือบโลหะด้านหลัง TiW-Pt-Au, 1.0 ไมโครเมตร Au เฉพาะ Au, AuSn preform 3-5 ไมโครเมตร, AuGe, เงินเผาผนึก
ความคลาดเคลื่อนและการจับคู่ ±10% ชุดที่จับคู่ต่ำกว่า ±1% ทั่วทั้งเวเฟอร์


คุณภาพ, การทดสอบและการปฏิบัติตามข้อกำหนด

  • ดาย 100% ได้รับการทดสอบการผลิตสำหรับความจุ, ปัจจัยการสูญเสีย, กระแสรั่วไหล และแรงดันไฟฟ้าที่ทนต่อไดอิเล็กทริก
  • ความแข็งแรงในการดึงลวดพันกันโดยทั่วไปสูงกว่า 6 gf สำหรับลวดทอง 25 ไมโครเมตร, ตรวจสอบตาม MIL-STD-883 Method 2011.7
  • การจำแนกประเภท ESD Class 0 ตาม JESD22-A114 (HBM); ใช้บรรจุภัณฑ์ที่ปลอดภัยต่อ ESD ตลอด
  • ความไวต่อความชื้น MSL 1 ตาม J-STD-020, อายุการใช้งานบนชั้นวางไม่จำกัดเมื่อเก็บในตู้แห้ง
  • เป็นไปตามข้อกำหนด RoHS ตาม EU 2011/65/EU และ (EU) 2015/863, เป็นไปตามข้อกำหนด REACH, ปราศจากฮาโลเจนตาม IEC 61249-2-21 ตามคำขอ
  • ไฟล์ S-parameter, รายงานการตรวจสอบย้อนกลับของล็อต และเอกสารการประกาศวัสดุจะจัดส่งพร้อมกับแต่ละล็อตการผลิต
  • ระบบการจัดการคุณภาพได้รับการรับรองตามมาตรฐาน ISO 9001:2015


การใช้งานทั่วไป

  • การแยกสัญญาณแบบฝังภายในลามิเนตและโมดูลหลายชิป LTCC และซับสเตรต antenna-in-package
  • การปิดกั้น DC, วงจรบายพาสและเครือข่ายการจับคู่อิมพีแดนซ์สำหรับแอมพลิฟายเออร์กำลัง GaN และ GaAs
  • การเชื่อมต่อระหว่างขั้นตอนและการบายพาสของโมดูล T/R แบบ Phased array
  • การปิดกั้น DC สำหรับทรานซีฟเวอร์ออปติคัลสำหรับรูปแบบโมดูล 100G, 400G และ 800G
  • วงจรตั้งต้น VCO และเครือข่ายตัวสั่นความแม่นยำที่ต้องการ Q factor ที่คงที่
  • ส่วนหน้าของเรดาร์ยานยนต์และเซ็นเซอร์อุตสาหกรรมที่ทำงานที่ 76-81 GHz
  • อุปกรณ์ทดสอบและวัดที่ต้องการความจุที่ทำซ้ำได้และ ESL ต่ำ