| Marca: | Hoan |
| Número do modelo: | HACC221S50V350 |
| Quantidade mínima: | 10 peças |
| Condições de pagamento: | T/T,L/C,D/P,D/A |
Em resumo: o Hoan HACC221S50V350 é um capacitor MOS de camada única de 220 pF ±10%, 50 V DC fornecido como um die soldável por fio medindo 0,50 × 0,50 × 0,09 mm. Seus empilhamentos de eletrodos superior e inferior são idênticos, portanto, a peça opera em qualquer direção sem marcação de polaridade. O fator Q é superior a 2000 a 1 MHz e permanece acima de 25 a 10 GHz, o ESL é inferior a 0,04 nH e o perfil total é inferior a 100 µm, o que permite que o die seja laminado dentro de construções de substrato laminado, polimida e LTCC. O valor da capacitância, a tensão nominal, a geometria do die e a metalização são personalizáveis.
O HACC221S50V350 pertence à família de capacitores MOS de camada única, também descrita na indústria como SLC (single layer capacitor), um capacitor chip soldável por fio ou um capacitor chip MOS RF. O dispositivo é uma estrutura planar metal-óxido-semicondutor: um dielétrico de SiO2 crescido termicamente de 300 nm fica entre um eletrodo superior de filme fino pulverizado e a parte traseira metalizada de um substrato de silício de zona flutuante de alta resistividade (>1000 Ohm·cm). A corrente flui verticalmente através de um caminho de cerca de 90 µm, sem empilhamento de eletrodo interno, sem vias e sem roteamento em serpentina. Este caminho de corrente vertical de camada única é a razão pela qual a peça mantém um alto Q e uma baixa indutância série equivalente em frequências de micro-ondas, onde capacitores de chip cerâmicos multicamadas atingem auto-ressonância e se tornam indutivos.
| Parâmetro | Valor padrão | Intervalo personalizado |
| Capacitância | 220 pF ±10% | 10 pF a 1000 pF, ±5% ou mais rigoroso mediante solicitação |
| Tensão nominal | 50 V DC | Camada única de 6,3 V a 100 V DC |
| Dielétrico | SiO2 térmico de 300 nm, Classe I | Alta K Classe II ou espessura de óxido personalizada |
| Tamanho do die | 0,50 × 0,50 mm | 0,25 × 0,25 mm a 5,0 × 5,0 mm, retangular até 4:1 |
| Espessura do die | 90 µm | 50 µm a 250 µm |
| Metalização superior | TaN/TiW/Ni/Au, 2,5 µm Au | Até 5,0 µm Au, opções de Al ou TiW-Au |
| Metalização traseira | TiW-Pt-Au, 1,0 µm Au | Apenas Au, pré-forma AuSn de 3-5 µm, AuGe, prata sinterizada |
| Tolerância e casamento | ±10% | Conjuntos casados abaixo de ±1% em todo o wafer |
![]()