detalhes dos produtos

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Capacitores MOS
Created with Pixso.

Marca: Hoan
Número do modelo: HACC221S50V350
Quantidade mínima: 10 peças
Condições de pagamento: T/T,L/C,D/P,D/A
Informações pormenorizadas
Lugar de origem:
Shanxi, China
Certificação:
ISO 9001:2015, RoHS
Temperatura operacional:
-55°C a +125°C
Sensibilidade de umidade:
MSL 1 por J-STD-020
Conformidade:
RoHS UE 2011/65/UE e (UE) 2015/863, REACH, livre de halogênio IEC 61249-2-21 mediante solicitação
Sistema de qualidade:
ISO 9001:2015
Cobertura de teste:
Teste de matriz 100% para C, DF, vazamento e DWV; Parâmetro S e rastreabilidade de lote mediante sol
Faixa de personalização:
C 10-1000pF, 6,3-100 V DC, matriz 0,25-5,0 mm, espessura 50-250 µm
Destacar:

Symmetrical Non-Polar MOS Capacitor

,

Ultra-Thin 90µm SLC Chip

,

Flat High-Q Microwave Capacitor

Descrição do produto

HACC221S50V350 Capacitor MOS Simétrico Não Polar de 220 pF, Chip Ultra-Fino de 90µm para Substratos Embutidos

Em resumo: o Hoan HACC221S50V350 é um capacitor MOS de camada única de 220 pF ±10%, 50 V DC fornecido como um die soldável por fio medindo 0,50 × 0,50 × 0,09 mm. Seus empilhamentos de eletrodos superior e inferior são idênticos, portanto, a peça opera em qualquer direção sem marcação de polaridade. O fator Q é superior a 2000 a 1 MHz e permanece acima de 25 a 10 GHz, o ESL é inferior a 0,04 nH e o perfil total é inferior a 100 µm, o que permite que o die seja laminado dentro de construções de substrato laminado, polimida e LTCC. O valor da capacitância, a tensão nominal, a geometria do die e a metalização são personalizáveis.


O que é este produto?

O HACC221S50V350 pertence à família de capacitores MOS de camada única, também descrita na indústria como SLC (single layer capacitor), um capacitor chip soldável por fio ou um capacitor chip MOS RF. O dispositivo é uma estrutura planar metal-óxido-semicondutor: um dielétrico de SiO2 crescido termicamente de 300 nm fica entre um eletrodo superior de filme fino pulverizado e a parte traseira metalizada de um substrato de silício de zona flutuante de alta resistividade (>1000 Ohm·cm). A corrente flui verticalmente através de um caminho de cerca de 90 µm, sem empilhamento de eletrodo interno, sem vias e sem roteamento em serpentina. Este caminho de corrente vertical de camada única é a razão pela qual a peça mantém um alto Q e uma baixa indutância série equivalente em frequências de micro-ondas, onde capacitores de chip cerâmicos multicamadas atingem auto-ressonância e se tornam indutivos.



Matriz de personalização

Parâmetro Valor padrão Intervalo personalizado
Capacitância 220 pF ±10% 10 pF a 1000 pF, ±5% ou mais rigoroso mediante solicitação
Tensão nominal 50 V DC Camada única de 6,3 V a 100 V DC
Dielétrico SiO2 térmico de 300 nm, Classe I Alta K Classe II ou espessura de óxido personalizada
Tamanho do die 0,50 × 0,50 mm 0,25 × 0,25 mm a 5,0 × 5,0 mm, retangular até 4:1
Espessura do die 90 µm 50 µm a 250 µm
Metalização superior TaN/TiW/Ni/Au, 2,5 µm Au Até 5,0 µm Au, opções de Al ou TiW-Au
Metalização traseira TiW-Pt-Au, 1,0 µm Au Apenas Au, pré-forma AuSn de 3-5 µm, AuGe, prata sinterizada
Tolerância e casamento ±10% Conjuntos casados abaixo de ±1% em todo o wafer


Qualidade, testes e conformidade

  • 100% dos dies são testados em produção para capacitância, fator de dissipação, corrente de fuga e tensão de suportabilidade dielétrica.
  • Resistência de tração do fio geralmente acima de 6 gf para fio de ouro de 25 µm, verificada de acordo com MIL-STD-883 Método 2011.7.
  • Classificação ESD Classe 0 por JESD22-A114 (HBM); embalagem ESD-safe é usada em todo o processo.
  • Sensibilidade à umidade MSL 1 por J-STD-020, vida útil ilimitada no piso quando armazenado em um gabinete seco.
  • Compatível com RoHS de acordo com EU 2011/65/EU e (EU) 2015/863, em conformidade com REACH, livre de halogênio de acordo com IEC 61249-2-21 mediante solicitação.
  • Arquivos S-parameter, relatórios de rastreabilidade de lote e declarações de material são fornecidos com cada lote de produção.
  • Sistema de gestão de qualidade certificado ISO 9001:2015.


Aplicações típicas

  • Desacoplamento embutido dentro de módulos multicamadas de substrato laminado e LTCC e substratos de antena-no-pacote
  • Bloqueio de DC, tee de polarização e redes de casamento de impedância de amplificadores de potência GaN e GaAs
  • Acoplamento e bypass inter-estágios de módulos T/R de array de fase
  • Bloqueios de DC de transceptores ópticos para formatos de módulo 100G, 400G e 800G
  • Circuitos de tanque VCO e redes de ressonadores de precisão que necessitam de Q plano
  • Front-ends de radar automotivo e sensores industriais operando a 76-81 GHz
  • Dispositivos de teste e medição onde capacitância repetível e baixo ESL são necessários