요약: Hoan HACC221S50V350은 220 pF ±10%, 50 V DC 단일층 MOS 커패시터로, 0.50 × 0.50 × 0.09 mm 크기의 와이어 본딩 가능한 다이로 제공됩니다. 상단 및 하단 전극 스택이 동일하므로 극성 표시 없이 양방향으로 작동합니다. Q 팩터는 1 MHz에서 2000 이상이고 10 GHz에서도 25 이상을 유지하며, ESL은 0.04 nH 미만이고 총 두께는 100 μm 미만이므로 다이를 라미네이트, 폴리이미드 및 LTCC 기판 빌드업 내부에 적층할 수 있습니다. 커패시턴스 값, 전압 정격, 다이 형상 및 금속화는 사용자 정의 가능합니다.
HACC221S50V350은 업계에서 SLC(단일층 커패시터), 와이어 본딩 가능한 칩 커패시터 또는 MOS RF 칩 커패시터라고도 불리는 단일층 MOS 커패시터 제품군에 속합니다. 이 장치는 평면 금속-산화물-반도체 구조로, 300 nm 열처리된 SiO2 유전체가 스퍼터링된 박막 상단 전극과 고저항 플로트 존 실리콘 기판(>1000 Ohm·cm)의 금속화된 뒷면 사이에 배치됩니다. 전류는 약 90 μm 경로를 통해 수직으로 흐르며, 내부 전극 스택, 비아 및 뱀 모양 라우팅이 없습니다. 이 수직 단일층 전류 경로는 다층 세라믹 칩 커패시터가 자체 공진에 도달하여 유도성이 되는 마이크로파 주파수에서 높은 Q와 낮은 등가 직렬 인덕턴스를 유지하는 이유입니다.
| 매개변수 | 표준 값 | 사용자 정의 범위 |
| 커패시턴스 | 220 pF ±10% | 10 pF ~ 1000 pF, 요청 시 ±5% 또는 더 엄격하게 |
| 정격 전압 | 50 V DC | 6.3 V ~ 100 V DC 단일층 |
| 유전체 | 300 nm 열처리 SiO2, Class I | Class II 고유전율 또는 사용자 정의 산화물 두께 |
| 다이 크기 | 0.50 × 0.50 mm | 0.25 × 0.25 mm ~ 5.0 × 5.0 mm, 최대 4:1 직사각형 |
| 다이 두께 | 90 μm | 50 μm ~ 250 μm |
| 상단 금속화 | TaN/TiW/Ni/Au, 2.5 μm Au | 최대 5.0 μm Au, Al 또는 TiW-Au 옵션 |
| 뒷면 금속화 | TiW-Pt-Au, 1.0 μm Au | Au만, AuSn 프리폼 3-5 μm, AuGe, 소결 은 |
| 허용 오차 및 매칭 | ±10% | 웨이퍼 전체에서 ±1% 미만으로 매칭된 세트 |
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