Détails des produits

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Condensateurs MOS
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Contrôle de la résistivité du dopage du substrat, condensateurs personnalisés, géométrie de matrice irrégulière, condensateur MOS, puce de réseau binaire

Contrôle de la résistivité du dopage du substrat, condensateurs personnalisés, géométrie de matrice irrégulière, condensateur MOS, puce de réseau binaire

Nom De La Marque: Hoan
Numéro De Modèle: HACC100S10V101
Quantité Minimale De Commande: 10 pièces
Conditions De Paiement: LC, D/A, D/P, T/T, Western Union
Informations détaillées
Lieu d'origine:
Shannxi, Chine
Certification:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Plage de capacité:
pF en nF
Tension de claquage:
10-15 MV/cm (champ de dégradation des oxydes)
Courant de fuite:
Généralement dans la plage pA à nA
Plage de température:
-55°C à 125°C
Structure:
Métal-Oxyde-Semi-conducteur
Matériau du substrat:
Silicium
épaisseur d'oxyde:
Généralement 1 à 10 nm
Mettre en évidence:

Condensateurs personnalisés de géométrie de matrice

,

Condensateur MOS de géométrie de matrice

,

Géométrie de matrice de condensateur MOS

Description de produit

Agencements de réseau de contrôle de résistivité de dopage de substrat de condensateur MOS personnalisés Géométrie de puce irrégulière Tableaux de condensateurs binaires


HACC100S10V101 : Condensateur MOS à substrat ingénieré avec réseaux binaires et géométrie de puce irrégulière

Contrôle personnalisé du dopage et de la résistivité du substrat

Le HACC100S10V101 offre la personnalisation des propriétés électriques du substrat de silicium comme paramètre de conception — et non comme défaut d'une fonderie. Les profils de dopage N+ ou P+ sont adaptés pour atteindre une résistivité cible allant de 0,001 Ohm·cm (fortement dopé, faible résistance série pour un Q élevé) à 1000 Ohm·cm (légèrement dopé, capacité de jonction minimisée pour une SRF élevée). La largeur de la région de déplétion sous tension est contrôlée par le profil de dopage, permettant une mise en forme de la courbe C-V spécifiée par le client : capacité plate en fonction de la tension pour les applications linéaires, ou pente C-V contrôlée pour un réglage de type varactor. L'uniformité de la résistivité est de ±5 % au niveau du wafer et de ±2 % au sein de la puce, vérifiée par des structures de test PCM (Process Control Monitor) sur chaque wafer. Ce niveau d'ingénierie du substrat est disponible car HACC utilise un procédé de fonderie de condensateurs MOS dédié — et non un flux logique CMOS réutilisé.

Agencements de réseau personnalisés non standard et géométrie de puce irrégulière

Les condensateurs MOS standard sont des puces rectangulaires avec une seule plaque de condensateur. Le HACC100S10V101 brise cette contrainte : des rapports d'aspect de puce personnalisés, des géométries de périmètre irrégulières (forme en L, forme en T, polygonale, annulaire), des motifs de réseau multi-cavités et un placement de pad décalé ou rotatif sont tous pris en charge. Cela permet l'intégration de condensateurs dans des empreintes de circuits hybrides non standard — s'adaptant autour des MMIC existants, des transitions de guide d'ondes ou des structures de gestion thermique — sans nécessiter d'interposeur ou de PCB séparé. La capacité de produire des géométries de puce irrégulières est rendue possible par le procédé de sciage et de séparation HACC, qui prend en charge les cartes de rues de découpe définies par le client et les contours de puce non orthogonaux.

Réseaux de condensateurs binaires multi-valeurs intégrés

Une seule puce HACC100S10V101 peut intégrer plusieurs valeurs de condensateur dans un réseau pondéré binaire : pondération 1:2:4:8 sur 4 à 8 blocs de condensateurs indépendants, avec des valeurs de capacité allant de 5 pF à 1000 pF par bloc. Chaque bloc possède son propre pad d'électrode supérieure et partage une connexion arrière commune, permettant une connexion indépendante ou parallèle au niveau du circuit hybride. L'isolation bloc à bloc dépasse 40 dB à 1 GHz, et le substrat partagé maintient un coefficient de température (TCC) apparié (<30 ppm/°C) sur tous les blocs. Cela remplace plusieurs condensateurs discrets par une seule puce, réduisant les étapes d'assemblage, le nombre de fils de liaison et l'empreinte du circuit hybride — tout en offrant la flexibilité de conception de sélectionner n'importe quelle combinaison de valeurs lors du soudage par fil.Spécifications clés

Paramètre

Valeur Capacité
Blocs de réseau pondérés binaires de 5 pF à 10 000 pF Type de diélectrique
SiO₂, SiN, Al₂O₃ high-k, 50–5000 Å Résistivité du substrat
0,001–1000 Ω·cm, N+/P+ adapté TCC
<30 ppm/°C (équivalent NPO/COG) Tension nominale
6,3 V–200 V Rigidité diélectrique
250 % de la valeur nominale, TDDB >10 ans à 125 °C ESR
<0,1 Ω à 1 GHz Métallisation supérieure
TiW-Au, Al-métallisé, pré-dépôt AuSn Métallisation inférieure
TiW-Au, TiW-Ni-Au, AuSn, Au époxy Taille de la puce
0,25*0,25 mm – 5,0*5,0 mm, formes irrégulières Température de fonctionnement
-55 °C à +125 °C Livraison
Gel-Pak, plateau à gaufrettes, bande et bobine, niveau wafer Applications

Formateurs de faisceau à réseau phasé multicanaux — réseau de condensateurs binaires pour le réglage par élément, une seule puce réduit la nomenclature

  • Intégration de circuits hybrides personnalisés — géométrie de puce irrégulière s'adaptant autour des MMIC et des transitions existants
  • Réseaux de réglage de haute précision — adaptation du dopage du substrat pour des exigences spécifiques de courbe C-V
  • Modules SiP à espace contraint — réseau multi-valeurs éliminant plusieurs placements SLC discrets
  • Contactez-nous avec vos valeurs de capacité cibles, votre résistivité de substrat et vos exigences de géométrie de puce. Les prototypes de condensateurs MOS personnalisés avec intégration de réseau binaire sont expédiés sous 5 à 7 jours ouvrables.