Détails des produits

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Condensateurs MOS
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Puce à couche unique ESR basse pour la décharge de collecte d'énergie

Puce à couche unique ESR basse pour la décharge de collecte d'énergie

Nom De La Marque: Hoan
Numéro De Modèle: HACC471S100V701
Quantité Minimale De Commande: 10 pièces
Conditions De Paiement: LC, D/A, D/P, T/T
Informations détaillées
Lieu d'origine:
Shaanxi, Chine
Certification:
ISO 9001:2015, RoHS
Tolérance d'ESD:
>2 kV HBM, classe 2 (JESD22-A114)
Opération/température de stockage:
-55°C à +200°C / -65°C à +150°C
Dimensions des puces:
0,65 × 0,65 × 0,20 mm (±25 µm) ; géométrie personnalisée jusqu'à un rapport hauteur/largeur de 4
métallisation:
Dessus TiW-Au (≥2,5 µm Au) / dos ohmique Au pur sans oxygène (AuSn / soudure / époxy argent)
Type de montage:
Fil pouvant être collé / AuSn eutectique / Soudure / Époxy conducteur
Essai:
Production testée à 100 % (C, DF, fuite, DWV) ; Carte des plaquettes KGD par lot
Mettre en évidence:

condensateur MOS sans oxygène 470pF

,

condensateur MOS à faible ESR de 100 V

,

capture d'énergie par condensateur à puce à couche unique

Description de produit

Condensateur MOS HACC471S100V701 — 470 pF 100 V avec contact ohmique sans oxygène et décharge d'énergie à faible ESR


Le HACC471S100V701 est un condensateur MOS monocouche de 470 pF ±10% nominal à 100 V CC, fabriqué sur un substrat de silicium conducteur avec un contact ohmique arrière en or pur sans oxygène. En éliminant l'oxyde interfaciale à la jonction métal-silicium arrière, le dispositif obtient une faible résistance interfaciale et série, ce qui améliore directement l'efficacité de décharge dans les applications de stockage d'énergie récoltée et de puissance pulsée. Un condensateur MOS est un condensateur monocouche formé par une structure métal-oxyde-semiconducteur (dioxyde de silicium thermique sur un substrat de silicium conducteur), stockant l'énergie sous forme de ½CV². Un faible ESR et un facteur Q élevé garantissent que la charge stockée est délivrée à la charge avec une perte minimale.


Contacts ohmiques sans oxygène pour une faible résistance interfaciale


  • Processus sans oxygène : le contact ohmique arrière est formé sur du silicium à faible résistivité sans exposition à l'oxygène, évitant une couche d'oxyde interfaciale à haute résistance entre le métal et le substrat ;
  • Faible résistance interfaciale : le contact ohmique en or pur minimise la résistance de contact, maintenant l'ESR total en dessous de 0,1 Ω à 1 GHz et la résistance série faible pour les courants de décharge ;
  • Substrat de silicium conducteur : la résistivité du substrat est sélectionnable par application (option personnalisée), de haute résistivité pour le découplage de polarisation RF à faible résistivité pour une livraison de charge à faible perte ;
  • Assemblage flexible : le dos en or prend en charge la soudure eutectique AuSn, la soudure SAC et la fixation par époxy conducteur ; une finition tout or est disponible pour l'époxy rempli d'argent.


Caractéristiques électriques (typiques, 25°C sauf indication contraire)

Capacité nominale 470 pF ±10% (1 kHz, 1,0 Vrms) ; tolérances plus serrées et ensembles appariés disponibles
Tension nominale 100 V CC
Tension de tenue diélectrique 250 V CC (250 % nominal, 5 s, 100 % testé)
Coefficient de température (TCC) +35 ppm/°C sur -55°C à +200°C
Facteur de dissipation ≤0,15 % à 1 kHz, 1,0 Vrms
Facteur Q >2000 à 1 MHz
ESR <0,1 Ω @ 1 GHz (conception à faible résistance interfaciale)
ESL intrinsèque de la puce <0,05 nH (désengagé)
SRF au niveau de la puce >1 GHz (470 pF)
Courant de fuite <10 nA à 25°C ; <500 nA à 200°C (à tension nominale)
Résistance d'isolement ≥104 MΩ à tension nominale, 25°C
Tolérance ESD >2 kV HBM, Classe 2 selon JESD22-A114
Température de fonctionnement / stockage -55°C à +200°C / -65°C à +150°C
Taille de puce standard 0,65 × 0,65 × 0,20 mm (±25 µm) ; géométrie personnalisée, rapport d'aspect jusqu'à 4:1
Métallisation TiW-Au supérieur (≥2,5 µm Au, soudable par fil) ; contact ohmique arrière en or pur sans oxygène


Applications typiques


Stockage d'énergie récoltée et décharge pulsée dans les systèmes piézoélectriques, photovoltaïques et thermoélectriques ; réseaux de snubber et de clamp de convertisseurs de puissance ; découplage de grille dans les modules GaN et SiC ; réseaux de polarisation d'amplificateurs de puissance RF ; nœuds de capteurs sans fil et modules IoT auto-alimentés nécessitant une livraison de charge à faible fuite et à haute efficacité.


Puce à couche unique ESR basse pour la décharge de collecte d'énergie