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Condensatori MOS
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Condensatore MOS a contatto ohmico privo di ossigeno 470pF 100V a basso ESR a strato singolo per scarica di raccolta di energia

Condensatore MOS a contatto ohmico privo di ossigeno 470pF 100V a basso ESR a strato singolo per scarica di raccolta di energia

Marchio: Hoan
Numero di modello: HACC471S100V701
MOQ: 10 pezzi
Termini di pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shaanxi, Cina
Certificazione:
ISO 9001:2015, RoHS
Tolleranza di ESD:
>2 kV HBM, Classe 2 (JESD22-A114)
Temperatura stoccaggio/di funzionamento:
da -55°C a +200°C / da -65°C a +150°C
Dimensioni del chip:
0,65 × 0,65 × 0,20 mm (±25 µm); geometria personalizzata con proporzioni fino a 4:1
METALLIZZAZIONE:
Parte superiore TiW-Au (≥2,5 µm Au) / parte posteriore ohmica in Au puro privo di ossigeno (AuSn / s
Tipo di montaggio:
Legabile con filo / Eutettico AuSn / Saldatura / Epossidico conduttivo
Test:
Testato in produzione al 100% (C, DF, perdite, DWV); Mappa wafer KGD per lotto
Evidenziare:

condensatore MOS privo di ossigeno da 470pF

,

condensatore MOS a basso ESR da 100V

,

condensatore a chip a strato singolo per raccolta di energia

Descrizione di prodotto

Condensatore MOS HACC471S100V701 — 470 pF 100 V con contatto ohmico privo di ossigeno e scarica di energia a basso ESR


L'HACC471S100V701 è un condensatore MOS monostrato da 470 pF ±10% con una tensione nominale di 100 V DC, fabbricato su un substrato di silicio conduttivo con un contatto ohmico posteriore in oro puro privo di ossigeno. Eliminando l'ossido interfaciale alla giunzione metallo-silicio sul retro, il dispositivo raggiunge una bassa resistenza interfaciale e serie, che migliora direttamente l'efficienza di scarica nelle applicazioni di accumulo di energia e di potenza pulsata. Un condensatore MOS è un condensatore monostrato formato da una struttura metallo-ossido-semiconduttore (diossido di silicio termico su un substrato di silicio conduttivo), che immagazzina energia come ½CV². L'ESR basso e l'alto Q assicurano che la carica immagazzinata venga erogata al carico con perdite minime.


Contatti ohmici privi di ossigeno per bassa resistenza interfaciale


  • Processo privo di ossigeno: il contatto ohmico posteriore è formato su silicio a bassa resistività senza esposizione all'ossigeno, evitando uno strato di ossido interfaciale ad alta resistenza tra metallo e substrato;
  • Bassa resistenza interfaciale: il contatto ohmico in oro puro minimizza la resistenza di contatto, mantenendo l'ESR totale al di sotto di 0,1 Ω a 1 GHz e la resistenza serie bassa per le correnti di scarica;
  • Substrato di silicio conduttivo: la resistività del substrato è selezionabile per applicazione (opzione personalizzata), da alta resistività per il disaccoppiamento di bias RF a bassa resistività per l'erogazione di carica a bassa perdita;
  • Assemblaggio flessibile: il retro in oro supporta l'attacco eutettico AuSn, la saldatura SAC e l'epossidica conduttiva; è disponibile una finitura solo in oro per epossidica riempita d'argento.


Caratteristiche elettriche (tipiche, 25°C se non diversamente specificato)

Capacità nominale 470 pF ±10% (1 kHz, 1,0 Vrms); tolleranza più stretta e set abbinati disponibili
Tensione nominale 100 V DC
Tensione di tenuta dielettrica 250 V DC (250% nominale, 5 s, 100% testato)
Coefficiente di temperatura (TCC) +35 ppm/°C su -55°C a +200°C
Fattore di dissipazione ≤0,15% a 1 kHz, 1,0 Vrms
Fattore Q >2000 a 1 MHz
ESR <0,1 Ω @ 1 GHz (design a bassa resistenza interfaciale)
ESL intrinseca del chip <0,05 nH (de-embedded)
SRF a livello di chip >1 GHz (470 pF)
Corrente di dispersione <10 nA a 25°C; <500 nA a 200°C (alla tensione nominale)
Resistenza di isolamento ≥104 MΩ alla tensione nominale, 25°C
Tolleranza ESD >2 kV HBM, Classe 2 secondo JESD22-A114
Temperatura operativa / di stoccaggio -55°C a +200°C / -65°C a +150°C
Dimensioni standard del chip 0,65 × 0,65 × 0,20 mm (±25 µm); geometria personalizzata, rapporto d'aspetto fino a 4:1
Metallizzazione TiW-Au superiore (≥2,5 µm Au, saldabile con filo); retro ohmico in oro puro privo di ossigeno


Applicazioni tipiche


Accumulo di energia e scarica pulsata in sistemi piezoelettrici, fotovoltaici e termoelettrici; reti di snubber e clamp di convertitori di potenza; disaccoppiamento gate-drive in moduli GaN e SiC; reti di bias di amplificatori di potenza RF; nodi sensore wireless e moduli IoT autoalimentati che richiedono erogazione di carica ad alta efficienza e bassa dispersione.


Condensatore MOS a contatto ohmico privo di ossigeno 470pF 100V a basso ESR a strato singolo per scarica di raccolta di energia