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Capacitores MOS
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Capacitor MOS com Controle de Espalhamento de Fônons 220pF 50V Camada Única Chip para RF de Alta Potência

Capacitor MOS com Controle de Espalhamento de Fônons 220pF 50V Camada Única Chip para RF de Alta Potência

Marca: Hoan
Número do modelo: HACC221S50V300
Quantidade mínima: 10 peças
Condições de pagamento: T/T,L/C,D/A,D/P
Informações pormenorizadas
Lugar de origem:
Shanxi, China
Certificação:
ISO 9001:2015, RoHS
Dimensões do chip:
0,50x0,50x0,15mm
Metalização Superior:
TiW + Au, 2,5 µm min
Tipo de montagem:
Fixação de matriz eutética/fio ligável
Temperatura operacional:
-55°C a +125°C
RoHS:
Em conformidade (UE 2015/863)
Personalização:
Capacitância 10pF-1000pF, geometria até 4:1, eletrodo com bordas, parte traseira flutuante
Destacar:

Capacitor MOS 220pF RF de alta potência

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Capacitor MOS de Chip de Camada Única

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Capacitor MOS 50V com garantia

Descrição do produto

HACC221S50V300 Controle de Dispersão de Fônios MOS Condensador


Resumo do produto:O HACC221S50V300 é um condensador de metal-óxido-semicondutor (MOS) de uma única camada com uma capacitância nominal de 220pF ± 10% e uma tensão de trabalho de 50V DC.É construído sobre um substrato de silício de zona flutuante de alta condutividade com um dióxido de silício térmico de 300 nm (SiO)2A sua característica definidora é o controlo da dispersão de fonões e as interfaces metálicas são projetadas para que o calor gerado pela perda de RF seja conduzido de forma eficiente em vez de se acumular em um ponto quenteIsto é adequado para estágios de RF de alta potência onde a estabilidade térmica limita o desempenho.


O que é o controlo de dispersão de fonões?


Em um sólido, o calor é transportado por fonões, que são vibrações de rede quantizadas.e interfaces ásperas ou quimicamente misturadas dispersa-o e diminui a condutividade térmicaO controle da dispersão de fonões significa projetar as interfaces dielétricas, substrato e metalização para manter o transporte de fonões eficiente:O silício de zona flutuante de cristal único tem uma longa trajetória média de fonões (a distância média que um fonão percorre antes de ser disperso), o dielétrico é um óxido térmico denso com densidade de defeito mínima, e a metalização de ouro espesso fornece um caminho térmico de baixa resistência para a superfície de montagem.


Notas de engenharia: Como é construído o caminho térmico


  • Substrato:Silício de zona flutuante de cristal único com uma rede contínua e alta condutividade térmica, de modo que o calor se espalha para longe do dielétrico em um grande volume.
  • Dieléctrico:SiO térmico denso2cultivadas a altas temperaturas, com baixa densidade de defeito e de vácuo e, por conseguinte, com poucos centros de dispersão interna.
  • Interfaces:As camadas de adesão de TiW finas e totalmente ligadas evitam a interface áspera e parcialmente ligada que dispersa os fonões e impede o fluxo de calor.
  • Metalização:O eletrodo superior Au grosso e o lado traseiro Au de área total formam um caminho térmico largo e de baixa resistência do dielétrico até à superfície de montagem.
  • Baixa RSE:reduz a quantidade de potência do sinal convertida em calor em primeiro lugar.


Principais especificações (T = 25°C, salvo indicação em contrário)


Parâmetro Valor Condição
Capacidade 220pF ± 10% 1MHz, 1,0Vrms
Tensão nominal de CC 50 V Contínuo
Força dielétrica > 125 V CC 1 minuto, 25°C
ESR a 1 GHz < 0,08 Ω Tipico
Fator Q a 1 MHz > 2000 Tipico
ESL de chip intrínseco < 0,05nH Desintegrado dos parâmetros S
Substrato Zona de flutuação Si, > 1000 Ω·cm Cristal único, alta condutividade térmica
Dieléctricos SiO térmico2, 300 nm Baixa densidade de defeitos
TCC +35 ppm/°C -55°C a +125°C
Corrente de fuga < 10nA 50 V de corrente contínua, 25°C
Dimensões do chip 0.50 × 0,50 × 0,15 mm ± 0,025 mm
Metalização superior TiW + Au, 2,5 μm min. Fios ligáveis, termicamente condutores
Metalização posterior TiW-Pt-Au, Au 1,0 μm min Percurso térmico de área total
Temperatura de funcionamento -55°C a +125°C - Não.
RoHS Conformidade A partir de 1 de janeiro de 2015


Aplicações típicas


  • Combinação e desacoplagem da saída do amplificador RF de alta potência
  • Módulos de potência de RF que exigem parâmetros estáveis sob carga
  • Fontes de aquecimento de RF e de excitação de plasma de estado sólido
  • Redes de filtros, combinadores e equipamentos de alta potência
  • Fontes de alimentação de RF industriais


Capacitor MOS com Controle de Espalhamento de Fônons 220pF 50V Camada Única Chip para RF de Alta Potência