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Capacitores MOS
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Alta tensão de ruptura MOS condensadores ultra miniatura de baixa vazamento 50V condensador de ligação de fio chip SLC

Alta tensão de ruptura MOS condensadores ultra miniatura de baixa vazamento 50V condensador de ligação de fio chip SLC

Marca: Hoan
Número do modelo: HACC101S10V500
Quantidade mínima: 10 peças
Condições de pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union
Informações pormenorizadas
Lugar de origem:
Shannxi,China
Certificação:
ISO 9001:2015
Faixa de frequência:
1 kHz a 1 MHz
Densidade de armadilha de interface:
1e10 cm^-2 eV^-1
Faixa de capacidade:
1 pF a 100 pF
Corrente de vazamento:
< 1 nA
Tipo de substrato:
Silício tipo P
Faixa de temperatura:
-40°C a 125°C
Estrutura:
Semicondutor de óxido metálico
Destacar:

Capacitores MOS de alta tensão de ruptura

,

Capacitor ligável a fio de baixa vazagem

,

Capacitores MOS ultra-miniatura de 50 V

Descrição do produto

HACC101S10V500 Capacitor MOS 100pF 50V Alta Tensão de Ruptura Baixo Vazamento Soldável por Fio Chip Ultra-Miniatura SLC


Confiabilidade da Montagem de Capacitor em Nível de Die: Tensão de Ruptura, Integridade da Ligação de Fio e o Papel da Miniaturização

Quando um capacitor de chip falha em campo, a causa raiz raramente é um simples sobrecarregamento elétrico. Mais frequentemente, a falha remonta a um de três mecanismos: ruptura dielétrica acelerada por margem de tensão insuficiente, fadiga da ligação de fio sob ciclagem térmica ou dano físico durante a montagem automatizada de dies ultra-miniaturas. O HACC101S10V500 — umCapacitor Cerâmico de Camada Única (SLC) com Borda Dupla Face 100pF ±20%, 50V DC — é projetado especificamente para eliminar os três modos de falha através de margens de projeto conservadoras, otimização metalúrgica e uma arquitetura robusta mecanicamente com borda dupla.

Margem de Ruptura Dielétrica: Por que 2,5* de Derating Importa

O HACC101S10V500 é fabricado comdielétrico cerâmico ultra-estável Classe I COG/NPO (C0G/NP0)otimizado para alta resistência dielétrica. A tensão contínua nominal DC é de 50V, e cada die passa por teste de produção 100% em tensão substancialmente elevada para verificar a integridade dielétrica. Este derating conservador fornece uma margem de segurança mínima de 2,5* — excedendo a diretriz de derating de 2* recomendada pelos padrões de confiabilidade da indústria para capacitores cerâmicos em aplicações de alta confiabilidade.

Para o projetista de circuitos, essa margem se traduz em robustez no mundo real: transientes de fonte, reflexos de desajuste de carga e deslocamentos de polarização DC que poderiam desafiar um capacitor com classificação de 16V ou 25V são absorvidos com folga substancial. Em redes de polarização de dreno de amplificadores de potência GaN operando em 28-50V, o HACC101S10V500 fornece bloqueio DC e bypass de RF confiáveis sem a necessidade de empilhamento em série de múltiplos capacitores de menor tensão — reduzindo a contagem de componentes, a complexidade da montagem e o empilhamento de tolerâncias cumulativas.

O dielétrico COG/NPO também contribui para a estabilidade da tensão. Ao contrário dos dielétricos ferroeletricos Classe II (X7R, X5R) onde a capacitância colapsa sob polarização DC à medida que os domínios de titanato de bário são limitados, o COG/NPO é paraelétrico — o valor da capacitância é estável de 0V até a tensão nominal total. Isso significa que a impedância de bypass que você projeta com polarização DC de 0V é a mesma impedância que seu circuito vê na tensão operacional total.

Metalização TaN/TiW/Ni/Au: Engenharia da Interface de Ligação de Fio

Em um chip medindo apenas 0,50*0,50mm, a área da pastilha de ligação de fio é tipicamente de 200*200µm ou menor. Nessa escala, a qualidade metalúrgica da pastilha de ligação determina diretamente o rendimento da montagem. O HACC101S10V500 apresenta uma pilha de filme fino de quatro camadas sinterizadas —TaN/TiW/Ni/Au (mínimo de ≥2,5µm de Au) — que foi refinada ao longo de múltiplas gerações de produtos para fornecer ligações de fio de ouro termossônicas consistentes e de alta resistência.

Aqui está a justificativa de engenharia para cada camada, do substrato ao fio de ligação:

Camada Material Espessura Propósito
Fundação TaN Base sinterizada O Nitreto de Tântalo forma a ligação química bloqueadora de óxido mais forte conhecida com dielétrico cerâmico. Sob ciclagem rápida de temperatura (-55°C a +125°C, ΔT=180°C), esta camada de adesão impede que toda a pilha de eletrodos se delamine — um modo de falha que se manifesta como um circuito aberto após teste de choque térmico.
Bloqueio de Difusão TiW Barreira sinterizada O Titânio-Tungstênio cria uma barreira amorfa densa impedindo a difusão de contaminantes do substrato para a camada de ouro. Sem essa barreira, átomos de silício ou cobre migrariam para o ouro ao longo do tempo, formando compostos intermetálicos quebradiços na interface de ligação.
Escudo de Solda Ni Sacrificial sinterizado O Níquel serve como a barreira anti-lixiviação padrão da indústria. Durante a refusão de solda eutética AuSn a 300-320°C, a solda fundida dissolve agressivamente o ouro desprotegido. A camada de Ni é insolúvel em soldas sem chumbo e com chumbo, prevenindo completamente a escavação de ouro e preservando a integridade da junta de solda.
Superfície de Ligação Au ≥2,5µm A camada de ouro de 2,5µm de espessura mínima fornece três funções críticas: (1) um buffer espesso e dúctil que absorve 40-100mW de energia de ligação ultrassônica sem transmitir estresse prejudicial ao substrato cerâmico; (2) uma superfície livre de oxidação que não requer fluxo ou preparação de superfície antes da ligação; (3) volume de ouro suficiente para ligações termossônicas confiáveis de bola-costura e cunha-cunha.

A mesma pilha TaN/TiW/Ni/Au é aplicada simetricamente a ambos os eletrodos superior e inferior, o que significa que o eletrodo inferior desfruta de proteção idêntica contra interdifusão de epóxi de prata e lixiviação de solda durante a fixação do die.

Arquitetura com Borda Dupla Face: Protegendo Ambos os Eletrodos Simultaneamente

Uma característica distintiva do HACC101S10V500 é seudesign com borda dupla face (margem). Ao contrário de capacitores com borda única ou sem borda, este chip incorpora uma borda cerâmica exposta e não metalizada em ambas as superfícies superior e inferior. O benefício prático para engenheiros de montagem é duplo:

Margem Inferior — Contenção de Epóxi: Durante a fixação do die com epóxi condutor de prata (H20E), a borda cerâmica inferior forma um anel de contenção físico ao redor do eletrodo de ouro. Quando a pinça de pick-and-place pressiona o chip para baixo, o excesso de epóxi flui para fora, mas não consegue subir além da margem da borda. O resultado: zero instâncias de ponte de epóxi do eletrodo inferior, subindo pela parede lateral do chip, até a pastilha de ouro superior — um modo de defeito comum em capacitores de chip sem borda que gera falhas latentes de curto-circuito.

Margem Superior — Definição da Zona de Ligação: A borda cerâmica superior cria uma borda de referência claramente visível para os ligadores de fio automatizados. A cunha de ligação ou a capilaridade da bola devem pousar pelo menos 25µm dentro da borda do eletrodo de ouro — a margem cerâmica fornece um limite óptico inequívoco para o sistema de visão computacional. Ligações colocadas muito perto da borda do eletrodo correm o risco de microfissuras na cerâmica; a margem elimina essa ambiguidade e permite a ligação em alta velocidade sem inspeção manual entre as peças.

Essa estrutura simétrica também oferece um benefício operacional: ambas as faces do chip são funcionalmente idênticas, eliminando requisitos de orientação superior/inferior durante o pick-and-place. Em uma linha de produção com milhões de colocações por ano, a eliminação de uma única etapa de inspeção visual por componente produz ganhos mensuráveis de produtividade.

Ultra-Compacto 0,50*0,50*0,15mm: Tamanho Pequeno, Grande Impacto

Em0,50*0,50*0,15mm (20*20*6 mil), o HACC101S10V500 ocupa apenas 0,25mm² de área de portador — alcançando uma densidade de capacitância habilitada pela formulação cerâmica High-K (K≈140 para variantes X7R). Essa pegada representa uma redução de área de 4* em comparação com SLCs padrão de 30 mil e uma redução de 2* em relação aos MLCCs SMD 0402. Para módulos de RF de alta densidade onde cada micrômetro quadrado conta — formadores de feixe de arranjo em fase, transceptores multicanal, bancos de filtros — essa vantagem de densidade se traduz diretamente em mais funcionalidade por módulo.

Operfil ultra-baixo de 0,15mm (6 mil)é igualmente significativo. MLCCs 0402 padrão têm 0,50mm de altura; o HACC101S10V500 tem menos de um terço dessa altura. Em módulos híbridos herméticos com folga de tampa apertada, em montagens de múltiplos chips empilhados verticalmente e em dispositivos de consumo de formato fino, essa vantagem de altura Z elimina o capacitor como o componente mais alto no substrato — permitindo frequentemente uma geração completa de redução de espessura.

Melhores Práticas para Montagem de Alto Rendimento

  • Fixação do Die: Aplique um micro-ponto controlado de epóxi condutor de prata (Epotek H20E) usando um micro-dispensador pneumático. Cure a 120°C por 30 minutos com taxa de rampa abaixo de 10°C/seg. A borda cerâmica inferior contém naturalmente o excesso de epóxi — não há necessidade de controle volumétrico de precisão além de ±20%.
  • Ligação de Fio: Fio de Au de 25µm (1 mil), ligação de bola ou cunha termossônica a uma temperatura de estágio de 120-150°C. O ponto de pouso da ligação deve estar a ≥25µm da borda do eletrodo de ouro superior — a margem cerâmica fornece a referência visual para essa folga. Parâmetros de ligação recomendados: força de 15-35gf, ultrassom de 40-100mW, duração de 10-50ms.
  • Inspeção: Inspeção visual pós-ligação com magnificação de 50*. Rejeitar ligações com deformação da pastilha >25%, craterização visível ou colocação a menos de 25µm da margem do eletrodo. Verificar se o filete de epóxi inferior está contido dentro da borda cerâmica — sem epóxi visível nas paredes laterais do chip.
  • Armazenamento: Pacotes de waffle ou gel-paks em gabinete purgado com nitrogênio a 20-25°C, 40-60% UR. 1 ano de vida útil garantida; vida útil ilimitada em ≤30°C/85% UR (MSL 1).

Principais Áreas de Aplicação

  • Módulos Amplificadores de Potência RF: Bloqueio DC e bypass de alimentação em estágios de saída HEMT GaN-on-SiC operando em tensão de dreno de 28-50V. A margem de tensão de 2,5* e o dielétrico COG/NPO fornecem bypass confiável sem queda de capacitância sob polarização total.
  • Sistemas de Antena de Arranjo em Fase: Acoplamento de 100pF entre estágios com baixo ESR e força de tração de ligação consistente em milhares de ligações por painel de arranjo. A borda dupla face permite montagem totalmente automatizada com produtividade máxima.
  • Bloqueios DC de Transceptor Óptico (100G/400G QSFP-DD): Perfil ultra-baixo de 0,15mm cabe dentro das tampas de módulos TOSA/ROSA herméticos. Baixo DF garante degradação mínima da integridade do sinal em taxas de dados PAM4 de 25-56Gbaud.
  • Front-Ends de Instrumentação de Precisão: TCC e VCC próximos de zero mantêm a precisão da calibração em toda a temperatura sem exigir tabelas de compensação de software.
  • Radar Automotivo e Comunicação V2X: Conformidade paramétrica total de -55°C a +125°C cobre eletrônicos montados sob o capô e externamente com margem substancial além dos requisitos AEC-Q200 Grau 1.
  • Módulos RF de IoT e Computação de Borda: Pegada compacta e integração de ligação por fio permitem co-embalagem em escala de chip com ICs de transceptor em nós de sensor e gateways de borda com restrição de espaço.

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