dettagli dei prodotti

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Condensatore a uno strato
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Condensatore monostrato dielettrico ad alto K 1000pF 50V DC blocco condensatore protezione epossidica

Condensatore monostrato dielettrico ad alto K 1000pF 50V DC blocco condensatore protezione epossidica

Marchio: Hoan
Numero di modello: HACC102S30V500
MOQ: 10
Termini di pagamento: L/C,D/A,T/T,D/P,Western Union
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Cina
Tensione nominale:
50 V
Gamma di frequenza:
0,01 - 6,0GHz
Architettura di design:
Bordato bifacciale simmetrico
Processo adesivo:
Epossidico conduttivo H20E (polimerizzazione: 120°C / 30 min)
Concentrazione di drogaggio del substrato:
1e15 cm^-3
Materiale delle porte:
Polisiliconico
Larghezza del portone:
10 µm
Evidenziare:

Condensatore monostrato dielettrico ad alto K

,

Condensatore blocco DC da 1000pF

,

Condensatore blocco DC da 50V

Descrizione di prodotto

HACC102S30V500 SLC a doppio bordo a doppio lato 1000pF 50V (0,01-6GHz) Dielettrico ad alto K

 

Riassunto tecnico dell'alta frequenza

L'HACC102S30V500 è un condensatore in ceramica a doppio bordo a singolo strato (SLC) simmetrico ad altissima densità di capacità.Questo modello è progettato specificamente per il filtraggio di bypass RF a bassa e media frequenza, disassociazione della rete di distribuzione di energia (PDN) e soppressione del rumore a banda larga fino a 6,0 GHz (coperti dalle bande UHF, L, S e C).un compatto 0.76 mm × 0,76 mm di impronta, e una tensione nominale di 50 V, questo condensatore è altamente adatto per sottoinsiemi di radar di sicurezza nazionale ad alta densità, trasmettitori a fibra ottica,con una lunghezza massima di 20 mm o più.

Ciò che distingue l'HACC102S30V500 è la sua architettura simmetrica a doppio lato, combinata con un corpo in ceramica ad alta costante dielettrica (alta K).Entrambi gli elettrodi superiore e inferiore presentano un margine di bordo in ceramica pulitaQuesta struttura simmetrica elimina i requisiti di orientamento verso l'alto/basso durante il pick-and-place, il che aumenta significativamente il throughput automatizzato dell'assemblaggio ed elimina gli errori di ribaltamento manuale.

 

Principali vantaggi di prestazione
   L'indicatore di velocità deve essere conforme alle prescrizioni di cui all'allegato 3 del presente regolamento.Elimina i problemi di orientamento del montaggio da alto verso basso, consentendo un attacco automatico ultra veloce e la raccolta.
   Protezione da arrampicata con epossidica a doppio lato:I margini di bordo ceramici su entrambi gli elettrodi superiore e inferiore agiscono come una diga fisica per impedire all'epossidio d'argento conduttivo di scalare la parete laterale, impedendo cortocircuiti.
   Sistema avanzato di metallizzazione a film sottile:Utilizza una pila di film sottile TaN/TiW/Ni/Au altamente robusta su entrambe le facce, offrendo eccezionale stabilità termica, protezione anti-migrazione e resistenza alla lisciviazione della saldatura.
   Densità di capacità ultra elevata (1000 pF / 1 nF):Confezionato in un'impronta compatta di 30 mil × 30 mil (0,76 mm × 0,76 mm), fornisce un enorme serbatoio per lo scollegamento senza sacrificare lo spazio fisico.
   Alta resistenza al taglio e dissipazione termica:La base di montaggio più grande di 30 millimetri fornisce un'area di contatto di attacco più ampia, con una resistenza meccanica eccezionalmente elevata e una maggiore dissipazione del calore.

 

Dimensioni generali

Condensatore monostrato dielettrico ad alto K 1000pF 50V DC blocco condensatore protezione epossidica

 

foglio di dati dei parametri completo

Categoria delle specifiche Nome del parametro tecnico Valori garantiti Condizioni di prova/misura
Specificità elettriche Capacità nominale 1000/1 pF /nF (+20% Tolleranza @ 1kHz,1Vrms, 25°C)
Tensione di funzionamento nominale (DC) 50 V (capacità massima continua)
Fattore di dissipazione (DF) ≤ 2,5% Testato a 1 kHz, 1,0 Vrms, 25°C
Resistenza all'isolamento (IR) ≥ 104 Provato a tensione nominale DC, 25°C
Banda di frequenza raccomandata 0.01-6.0 GHz (accoppiamento a banda larga e filtraggio bypass)
Geometria fisica Dimensioni di contorno 00,76 x 0,76 x 0.15 mm (lunghezza x larghezza x altezza/ 30 x 30 x 6 mil)
Architettura di progettazione Con bordure a doppio lato Margini di ceramica nuda uguali su entrambe le facce
Stack di metallizzazione Metallurgia superiore e inferiore TaN/TiW/Ni/Au Staglio simmetrico di film sottile su entrambe le superfici
Spessore dell'oro esterno (Au) ≥ 25 um (spessore minimo, filo-legame ottimizzato)
Processi di assemblaggio Adesione del monte Epossidio conduttivo/soldatura Adatto per l'epoxido d'argento H20E / AuSn eutectico
Interconnessione connessione Filtro d'oro/legame a nastro Collegamento termossonico di filo d'oro compatibile
Affidabilità e qualità Temperatura di funzionamento -55 a +125 °C (Grado di sicurezza industriale e nazionale)
Temperatura di stoccaggio e RH 20-25°C, 40%-60% RH Ambiente delle stanze pulite
Durata di conservazione garantita 1 Anno (in condizioni di conservazione ottimali)

 

Ingegneria delle pile di metallizzazione a pellicola sottile simmetrica

Per garantire l'affidabilità a lungo termine in condizioni di ciclismo termico di sicurezza nazionale e di alta umidità, l'HACC102S30V500 utilizza un sistema simmetrico,stack di film sottile spruzzato sotto vuoto sia in alto che in basso:

Strato metallico Materiale Spessore dello strato standard Funzione metallurgica e valore ingegneristico
Strato di adesione Nitruro di tantallo (TaN) Base spruzzata Fornisce un legame chimico altamente stabile, che blocca l'ossigeno, al substrato ceramico; impedisce lo sbucciamento sotto stress termico.
Strato di barriera Titanio-tungsteno (TiW) Barriera a spruzzo Agisce come una barriera di diffusione ad alta densità che impedisce agli atomi di nichel e oro di migrare nel dielettrico ceramico.
Strato di barriera Nilo (Ni) Sacrificio schizzato Funziona come barriera resistente alla lixiviazione della saldatura; impedisce la lixiviazione o la depurazione dell'oro durante il riflusso della saldatura ad alta temperatura.
Fino alla fusione Oro (Au) ≥ 2,5 μm Fornisce una superficie altamente conduttiva e priva di ossidi ottimizzata sia per il legame termo-sonico del filo d'oro che per il fissaggio epoxi riempito di argento.

 

Matrice tecnica comparativa (HACC102S30V500 rispetto ad altri modelli SLC)

Questa matrice confronta l'assemblaggio e le prestazioni elettriche di diversi disegni di condensatori in ceramica a uno strato:

Parametro di ingegneria Con bordure a doppio lato (HACC102S30V500) SLC a bordo unilaterale SLC senza confini standard
Simmetria (orientamento) Simmetrica, in alto e in basso identica, senza bisogno di capovolgere. Asimetrico, prima di montare, deve verificare il lato superiore/inferiore. Asimetrico, prima di montare, deve verificare il lato superiore/inferiore.
Lato superiore Epoxide sateto Il margine in ceramica spoglia impedisce l'epossidizzazione della superficie. Il margine in ceramica nuda impedisce l'epoxide di abbreviare la superficie superiore. L'oro copre il 100% della superficie, portando ad un alto rischio di cortocircuito.
Sotto lato Sicurezza epoxi Il bordo in ceramica esposto blocca la salita dell'epossidica alla base. Moderato, l'oro di fondo copre il 100% della base, l'epossidio sale facilmente. La saldatura e l'epossidica si arrampicano facilmente sulle pareti laterali.
Velocità di montaggio automatizzata A velocità massima, senza controllo dell'orientamento visivo. L'automazione richiede l'ispezione delle telecamere per rilevare l'alto/basso. Medio, richiede un controllo visivo per orientarsi.
prima del collocamento.
Resistenza alla lixiviazione della saldatura Eccellente (Ni-Au Finish). Da moderato a buono (a seconda della barriera). Da moderato a buono (a seconda della barriera).

 

Guida all'ingegneria dei parametri S e all'assemblaggio sotto-millimetrico
Per massimizzare l'efficienza dell'accoppiamento ad alta frequenza e del bypass evitando danni meccanici, gli ingegneri di montaggio devono rispettare le seguenti linee guida:

 

Epotek H20E Epoxide di argento conduttivo SOP
   Specifica dell'adesivo:Utilizzare epoxi d'argento conduttivo ad alta affidabilità e a basso rilascio di gas (ad esempio, Epotek H20E).
   Linee guida per la somministrazione:Applicare un microscopico punto di epossidio. Grazie al bordo ceramico inferiore dell'HACC102S30V500, l'epossidio è fisicamente contenuto all'interno del pad di attacco, impedendo cortocircuiti.
   Profil di cura termica:Curare a 120 °C per 30 minuti (o, in alternativa, a 150 °C per 15 minuti) con un lento raffreddamento per eliminare lo shock termico sul substrato ceramico.

 

Restrizioni per il legame del filo e del nastro d'oro
   Metodo di legame:Compatibile con il legame termossonico del filo d'oro (colla-cucitura o cuneo-cuneo) e il legame del nastro d'oro.
   Disponibilità per il deposito sicuro:Il cuneo di attacco o la punta capillare devono atterrare sul pad d'oro superiore a una distanza di almeno 25 μm dal bordo del bordo dell'elettrodo.rischio di sbucciatura dell'oro o di micro crepe nel dielettrico.
   Forza di legame:Controllare la pressione capillare per evitare la micro-fratturazione del sottile wafer in ceramica da 0,15 mm.