dettagli dei prodotti

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Condensatore a uno strato
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4700pF 50V condensatore di isolamento SiO2 condensatore dielettrico a bassa perdita per alte frequenze

4700pF 50V condensatore di isolamento SiO2 condensatore dielettrico a bassa perdita per alte frequenze

Marchio: Hoan
Numero di modello: HACC472S50V500
MOQ: 10 pezzi
Termini di pagamento: T/T,L/C,PayPal,Western Union
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shannxi, Cina
Certificazione:
ISO 9001:2015, RoHS
Capacità:
4700pF ±10% (4,7nF)
Valutazione della tensione:
CC 50V
Metallizzazione superiore:
Au, 2,5 µm minimo
Metallizzazione del retro:
Au, 1,0 µm minimo
Temperatura operativa:
Da -55°C a +125°C
Tipo di montaggio:
Fissaggio a filo/matrice eutettica
Evidenziare:

4700pF Capacitore di isolamento

,

Condensatore isolante da 50 V

,

SiO2 condensatore dielettrico a bassa perdita

Descrizione di prodotto

HACC472S50V500 Condensatore MOS Ottimizzato per l'Isolamento per Circuiti ad Alta Integrità del Segnale

L'HACC472S50V500 è un condensatore MOS a singolo strato specificamente caratterizzato per applicazioni in cui l'isolamento elettrico, la corrente di dispersione minima e la fedeltà del segnale sono i requisiti di prestazione dominanti. La capacità nominale è 4700pF (4,7nF) a una tensione di lavoro nominale di 50V DC. Il dispositivo utilizza lo stesso dielettrico SiO2 cresciuto termicamente e lo stesso processo di metallizzazione in oro della serie HACC, con enfasi sulla massimizzazione della resistenza di isolamento e sulla minimizzazione della dispersione DC sull'intero intervallo di temperatura operativa.

Comprensione delle Prestazioni di Isolamento dei Condensatori MOS

L'isolamento dei condensatori MOS è determinato principalmente dalla qualità dello strato dielettrico SiO2 termico e dalla resistività del substrato di silicio sottostante. L'HACC472S50V500 raggiunge un elevato isolamento attraverso tre fattori di progettazione:

  • Ossido termico di alta qualità: Lo strato di SiO2 viene fatto crescere in un forno di ossidazione a secco controllato, producendo un dielettrico denso e privo di fori con una resistività di massa superiore a 1016Ω·cm.
  • Substrato di silicio float-zone: La resistività del substrato superiore a 1000Ω·cm minimizza i percorsi di conduzione parassiti attraverso il silicio, mantenendo una resistenza di isolamento superiore a 10GΩ a temperatura ambiente.
  • Passivazione dei bordi: I bordi del chip sono passivati per sopprimere le correnti di dispersione superficiale che altrimenti degraderebbero l'isolamento, in particolare a livelli di umidità elevati.

La resistenza di isolamento misurata supera i 10GΩ a 25°C e 50V DC di polarizzazione, con una corrente di dispersione tipicamente inferiore a 5nA a temperatura ambiente e inferiore a 50nA a 125°C.

Caratteristiche Principali

  • Isolamento Superiore — >10GΩ a 25°C: L'elevata resistenza di isolamento garantisce una diafonia minima tra canali adiacenti in moduli multi-chip e assemblaggi RF densamente compattati. Questo parametro viene misurato alla piena tensione nominale di 50V DC per riflettere le condizioni operative reali.
  • Dispersione Ultra-Bassa — <5nA a 25°C: La bassa dispersione DC preserva lo stato di carica nei circuiti di campionamento e mantenimento, riduce gli errori di offset negli integratori di precisione e mantiene l'integrità del segnale nei front-end analogici ad alta impedenza. La dispersione rimane inferiore a 50nA alla temperatura massima nominale di 125°C.
  • Metallizzazione in Oro Saldabile con Filo: L'elettrodo superiore in oro con un minimo di 2,5µm è compatibile sia con la saldatura a sfera d'oro termosonica (filo da 25µm, stadio 120-150°C, resistenza alla trazione tipica >6g) sia con la saldatura a cuneo di alluminio ultrasonica (filo da 25µm o 33µm, temperatura ambiente). La metallizzazione posteriore in oro con un minimo di 1,0µm supporta l'attacco del die eutettico AuSn e il montaggio con epossidico conduttivo.
  • Opzioni di Assemblaggio Flessibili: Il fattore di forma del chip supporta l'integrazione in microcircuiti ibridi, moduli con substrato ceramico e assemblaggi chip-on-board. I formati di spedizione standard waffle-pack o gel-pak sono compatibili con le apparecchiature di prelievo e posizionamento automatiche che utilizzano utensili ESD-safe.
  • Capacità 4700pF con Tensione Nominale 50V: La combinazione di capacità 4,7nF e tensione di lavoro 50V copre un'ampia gamma di applicazioni di accoppiamento, bypass e filtraggio in cui valori di capacità più elevati riducono il numero di componenti paralleli necessari.
  • Stabile in Temperatura: TCC di circa +35ppm/°C tra -55°C e +125°C, con una variazione della capacità tipicamente entro ±2% sull'intero intervallo. Questa stabilità semplifica la calibrazione del circuito e riduce i requisiti di sintonia dipendenti dalla temperatura.

Guida all'Assemblaggio e all'Integrazione

Attacco del Die: La lega eutettica oro-stagno (AuSn) fornisce il percorso di resistenza termica più basso. Utilizzare un profilo di riflusso di picco di 320°C con gas di protezione (N2/H2) per prevenire l'ossidazione. L'epossidico conduttivo caricato con argento è un'alternativa per substrati sensibili alla temperatura; seguire il programma di polimerizzazione del produttore dell'epossidico e garantire una bagnatura completa della superficie in oro posteriore.

Migliori Pratiche di Saldatura a Filo:

  • Saldatura a sfera d'oro: Filo Au di diametro 25µm, temperatura dello stadio 120-150°C, forza di saldatura 25-35gf, potenza ultrasonica 80-120mW. La resistenza alla trazione tipica supera i 6gf con modalità di guasto per rottura del tallone.
  • Saldatura a cuneo di alluminio: Filo Al-1%Si da 25µm o 33µm a temperatura ambiente, forza di saldatura 20-30gf, potenza ultrasonica 100-150mW. Fornisce un processo a singolo passaggio a basso costo adatto per package non ermetici.
  • Layout del pad di saldatura: Il pad superiore da 0,50mm * 0,50mm accoglie un singolo filo di saldatura. Per saldature multiple, considerare la connessione a livello del substrato piuttosto che al pad del chip.

Precauzioni ESD: Sensibilità HBM di Classe 0 secondo JESD22-A114. Mantenere superfici di lavoro messe a terra, braccialetti e flusso d'aria ionizzato durante tutte le fasi di assemblaggio. Conservare i chip in contenitori conduttivi prima dell'uso.

Specifiche Elettriche (T = 25°C se non diversamente specificato)

ParametroValoreCondizione di Test
Capacità4700pF ±10%1MHz, 1.0Vrms
Opzioni di Tolleranza della Capacità±10% (K), ±5% (J)-65°C a +150°C
Tensione DC Nominale50VFunzionamento continuo
Rigidità Dielettrica>150V DC1 minuto, 25°C
Resistenza di Isolamento>10GΩ50V DC, 25°C
Resistenza di Isolamento @ 125°C>1GΩ50V DC
Corrente di Dispersione<5nA50V DC, 25°C
Dispersione @ 125°C<50nA50V DC
Densità di Capacità400nF/mm²Tipico
TCC (Coefficiente di Temperatura)+35ppm/°CIntervallo di Temperatura Operativa
Fattore Q @ 1MHz>1500Tipico
Tipo di DielettricoSiO2-65°C a +150°C
Resistività del Substrato>1000Ω·cm
Silicio float-zoneDimensioni del Chip (L*W*T)0,50 * 0,50 * 0,15mm
tolleranza ±0,025mmMetallizzazione Superiore-65°C a +150°C
Metallizzazione PosterioreAu, 1,0µm minimo
Compatibile con attacco dieIntervallo di Temperatura Operativa-65°C a +150°C
Intervallo di Temperatura di Stoccaggio-65°C a +150°C
Conformità RoHS

EU 2015/863

  • Applicazioni Tipiche
  • Accumulo di carica in amplificatori sample-and-hold, dove una dispersione inferiore a 5nA garantisce un calo di tensione minimo tra gli intervalli di campionamento
  • Circuiti integratori analogici di precisione e generatori di rampa che richiedono un basso assorbimento dielettrico
  • Accoppiamento AC front-end di sensori ad alta impedenza, preservando il rapporto segnale-rumore dei segnali di fotodiodi e trasduttori piezoelettrici
  • Filtraggio di ingresso in sistemi di acquisizione dati multicanale, dove l'elevato isolamento tra i canali impedisce interferenze inter-canale
  • Elettronica per l'imaging medico, inclusi interfacce per trasduttori a ultrasuoni e circuiti di lettura di detector CT
  • Strumentazione di controllo di processo industriale con condizionamento di sensori alimentati da loop 4-20mA

Bypass e disaccoppiamento in circuiti a segnale misto in cui il rumore di commutazione digitale deve essere isolato da nodi analogici sensibili

Affidabilità e Qualifica

I dispositivi sono sottoposti a test DC al 100% a livello di wafer prima del taglio. I test di affidabilità basati su campioni includono: vita operativa ad alta temperatura (HTOL) a 125°C e 50V di polarizzazione per 1000 ore, cicli termici (-65°C a +150°C, 500 cicli secondo MIL-STD-883 Metodo 1010) e test di umidità con polarizzazione a 85°C/85%RH per 500 ore. Contattateci per il rapporto di qualifica completo e i dati di test specifici per lotto.