Einzelheiten zu den Produkten

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MOS Kondensatoren
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MOS-Kondensatoren mit hoher Auflösespannung Ultra-Miniatur-Kondensator mit geringer Leckage 50V

MOS-Kondensatoren mit hoher Auflösespannung Ultra-Miniatur-Kondensator mit geringer Leckage 50V

Markenname: Hoan
Modellnummer: HACC101S10V500
Mindestbestellmenge: 10 Stück
Zahlungsbedingungen: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Detailinformationen
Herkunftsort:
Shannxi, China
Zertifizierung:
ISO 9001:2015
Frequenzbereich:
1 kHz bis 1 MHz
Schnittstellenfallendichte:
1e10 cm^-2 eV^-1
Kapazitätsbereich:
1 pF bis 100 pF
Leckstrom:
< 1 nA
Substrattyp:
Silizium vom P-Typ
Temperaturbereich:
-40 °C bis 125 °C
Struktur:
Metalloxid-Halbleiter
Hervorheben:

MOS-Kondensatoren mit hoher Abbruchspannung

,

Kondensator mit geringer Leckage

,

50 V Ultra-Miniatur-MOS-Kondensatoren

Produkt-Beschreibung

HACC101S10V500 100pF 50V MOS-Kondensator mit hoher Durchbruchspannung, geringer Leckage, bondfähig, ultraminiaturisiert, SLC-Chip


Zuverlässigkeit von Chip-Kondensator-Baugruppen: Durchbruchspannung, Drahtbondintegrität und die Rolle der Miniaturisierung

Wenn ein Chip-Kondensator im Feld ausfällt, ist die Grundursache selten eine einfache elektrische Überlastung. Häufiger lässt sich der Ausfall auf einen von drei Mechanismen zurückführen: Dielektrikumsdurchbruch, beschleunigt durch unzureichende Spannungsreserve, Ermüdung der Drahtverbindung durch thermisches Cycling oder physische Beschädigung während der automatisierten Montage von ultraminiaturisierten Chips. Der HACC101S10V500 – ein100pF ±20%, 50V DC beidseitig gerandeter Einkammer-Keramikkondensator (SLC)– wurde speziell entwickelt, um alle drei Ausfallmodi durch konservative Designmargen, metallurgische Optimierung und eine mechanisch robuste beidseitig gerandete Architektur zu eliminieren.

Dielektrikumsdurchbruch-Reserve: Warum 2,5* Derating wichtig ist

Der HACC101S10V500 wird mitKlasse I COG/NPO (C0G/NP0) ultrastabilem Keramikdielektrikumgefertigt, das für hohe dielektrische Festigkeit optimiert ist. Die Nennspannung für kontinuierliche Gleichspannung beträgt 50V, und jeder Chip durchläuft eine 100%ige Produktionstests bei deutlich erhöhter Spannung, um die dielektrische Integrität zu überprüfen. Dieses konservative Derating bietet eine minimale Sicherheitsreserve von 2,5* – und übertrifft damit die von Branchenzuverlässigkeitsstandards für Keramikkondensatoren in Hochzuverlässigkeitsanwendungen empfohlene Derating-Richtlinie von 2*.

Für den Schaltungsentwickler bedeutet diese Reserve reale Robustheit: Transienten in der Versorgung, Reflexionen bei Lastfehlanpassungen und Gleichspannungsverschiebungen, die einen Kondensator mit 16V oder 25V Nennspannung belasten könnten, werden mit erheblicher Kopfhöhe absorbiert. In GaN-Leistungsverstärker-Drain-Bias-Netzwerken, die bei 28-50V arbeiten, bietet der HACC101S10V500 zuverlässige DC-Blockierung und HF-Bypass, ohne dass eine Reihenschaltung mehrerer Niederspannungskondensatoren erforderlich ist – was die Bauteilanzahl, die Montagekomplexität und die kumulative Toleranzstaffelung reduziert.

Das COG/NPO-Dielektrikum trägt auch zur Spannungsstabilität bei. Im Gegensatz zu ferroelektrischen Dielektrika der Klasse II (X7R, X5R), bei denen die Kapazität unter Gleichspannung zusammenbricht, da sich Bariumtitanat-Domänen verriegeln, ist COG/NPO paraelektrisch – der Kapazitätswert ist von 0V bis zur vollen Nennspannung stabil. Das bedeutet, dass die Bypass-Impedanz, die Sie bei 0V Gleichspannung auslegen, die gleiche Impedanz ist, die Ihre Schaltung bei voller Betriebsspannung sieht.

TaN/TiW/Ni/Au-Metallisierung: Entwicklung der Drahtbond-Schnittstelle

Auf einem nur 0,50*0,50 mm großen Chip ist die Drahtbondpadfläche typischerweise 200*200 µm oder kleiner. In diesem Maßstab bestimmt die metallurgische Qualität des Bondpads direkt die Ausbeute bei der Montage. Der HACC101S10V500 verfügt über einen vierlagigen Sputter-Dünnschichtstapel –TaN/TiW/Ni/Au (≥2,5 µm Au Minimum)– der über mehrere Produktgenerationen verfeinert wurde, um konsistente, hochfeste thermosonische Golddrahtverbindungen zu liefern.

Hier ist die technische Begründung für jede Schicht, vom Substrat bis zum Bonddraht:

Schicht Material Dicke Zweck
Fundament TaN Gesputterte Basis Tantalnitrid bildet die stärkste bekannte oxidblockierende chemische Bindung zum Keramikdielektrikum. Bei schnellem thermischem Cycling (-55°C bis +125°C, ΔT=180°C) verhindert diese Haftschicht, dass der gesamte Elektrodenstapel delaminiert – ein Ausfallmodus, der sich nach einem thermischen Schocktest als offene Schaltung manifestiert.
Diffusionssperre TiW Gesputterte Barriere Titan-Wolfram bildet eine dichte amorphe Barriere, die die Diffusion von Substratkontaminationen in die Goldschicht verhindert. Ohne diese Barriere würden sich Silizium- oder Atome im Laufe der Zeit in das Gold einlagern und spröde intermetallische Verbindungen an der Bondschnittstelle bilden.
Lötschutz Ni Gesputterte Opfer Nickel dient als branchenüblicher Anti-Leaching-Schutz. Während des eutektischen AuSn-Reflows bei 300-320°C löst sich geschmolzenes Lot aggressiv in ungeschütztem Gold. Die Ni-Schicht ist in bleifreien und bleihaltigen Lötmitteln unlöslich, verhindert vollständig das Absaugen von Gold und erhält die Integrität der Lötverbindung.
Bondoberfläche Au ≥2,5 µm Die mindestens 2,5 µm dicke Goldschicht erfüllt drei kritische Funktionen: (1) ein dicker, duktiler Puffer, der 40-100mW Ultraschall-Bondenergie absorbiert, ohne schädliche Spannungen auf das Keramiksubstrat zu übertragen; (2) eine oxidationsfreie Oberfläche, die vor dem Bonden keine Flussmittel oder Oberflächenvorbereitung erfordert; (3) ausreichend Goldvolumen für zuverlässige Ball-Stitch- und Wedge-Wedge-Thermosonik-Bonds.

Der gleiche TaN/TiW/Ni/Au-Stapel wird symmetrisch auf beide oberen und unteren Elektroden aufgebracht, was bedeutet, dass die untere Elektrode den gleichen Schutz vor Silber-Epoxid-Interdiffusion und Lötmittel-Leaching während des Chip-Attachs genießt.

Beidseitig gerandete Architektur: Schutz beider Elektroden gleichzeitig

Ein besonderes Merkmal des HACC101S10V500 ist seinbeidseitig gerandetes (Rand-)Design. Im Gegensatz zu einseitig gerandeten oder randlosen Kondensatoren verfügt dieser Chip über einen nicht metallisierten, freiliegenden Keramikrand sowohl auf der Ober- als auch auf der Unterseite. Der praktische Nutzen für Montageingenieure ist zweifach:

Unterer Rand – Epoxid-Eindämmung: Während des leitfähigen Silber-Epoxid (H20E) Chip-Attachs bildet der untere Keramikrand einen physischen Eindämmungsring um die Goldelektrode. Wenn der Pick-and-Place-Greifer den Chip nach unten drückt, fließt überschüssiges Epoxid nach außen, kann aber nicht über den Rand hinauswandern. Das Ergebnis: Keine Epoxidbrücken von der unteren Elektrode über die Chipseitenwand zur oberen Goldpad – ein häufiger Defektmodus bei randlosen Chip-Kondensatoren, der latente Kurzschlussfehler verursacht.

Oberer Rand – Bondzonendefinition: Der obere Keramikrand schafft eine klar sichtbare Referenzkante für automatische Drahtbondgeräte. Der Bondkeil oder die Ball-Kapillare muss mindestens 25 µm vom Rand der Goldelektrode entfernt landen – der Keramikrand bietet eine eindeutige optische Grenze für das Bildverarbeitungssystem. Zu nah am Elektrodenrand platzierte Bonds bergen das Risiko von Keramik-Mikrorissen; der Rand eliminiert diese Mehrdeutigkeit und ermöglicht ein schnelles Bonden ohne manuelle Inspektion zwischen den Teilen.

Diese symmetrische Struktur bietet auch einen operativen Vorteil: Beide Seiten des Chips sind funktional identisch, was die Ober-/Unterseitenorientierung beim Pick-and-Place überflüssig macht. In einer Produktionslinie, die Millionen von Platzierungen pro Jahr durchführt, führt die Eliminierung eines einzigen Sichtprüfschritts pro Komponente zu messbaren Durchsatzsteigerungen.

Ultrakompakt 0,50*0,50*0,15 mm: Kleine Größe, große Wirkung

Bei0,50*0,50*0,15 mm (20*20*6 mil)belegt der HACC101S10V500 nur 0,25 mm² Trägerfläche – und erreicht damit eine Kapazitätsdichte, die durch die High-K-Keramikformulierung (K≈140 für X7R-Varianten) ermöglicht wird. Dieser Footprint stellt eine Flächenreduzierung um das 4-fache im Vergleich zu Standard-30-mil-SLCs und eine Reduzierung um das 2-fache gegenüber 0402 SMD MLCCs dar. Für HF-Module mit hoher Dichte, bei denen jeder Quadratmikrometer zählt – Phased-Array-Beamformer, Mehrkanal-Transceiver, Filterbänke – führt dieser Dichtevorteil direkt zu mehr Funktionalität pro Modul.

Das0,15 mm (6 mil) extrem niedriges Profilist ebenso bedeutend. Standard-0402-MLCCs sind 0,50 mm hoch; der HACC101S10V500 ist weniger als ein Drittel dieser Höhe. In hermetischen Hybridmodulen mit geringem Deckelspiel, in vertikal gestapelten Multi-Chip-Baugruppen und in dünnen Consumer-Geräten eliminiert dieser Z-Höhenvorteil den Kondensator als höchsten Bauteil auf dem Substrat – und ermöglicht oft eine vollständige Generationsreduzierung der Dicke.

Best Practices für hochertragreiche Montage

  • Chip-Attach: Tragen Sie einen kontrollierten Mikropunkt leitfähigen Silber-Epoxids (Epotek H20E) mit einem pneumatischen Mikrodosierer auf. Härten Sie bei 120°C für 30 Minuten mit einer Aufheizrate unter 10°C/Sek. Der untere Keramikrand enthält überschüssiges Epoxid auf natürliche Weise – keine Notwendigkeit für präzise volumetrische Kontrolle über ±20%.
  • Drahtbonden: 25 µm (1 mil) Au-Draht, thermosonisches Ball- oder Wedge-Bonden bei 120-150°C Stufentemperatur. Der Bondlandepunkt muss ≥25 µm vom Rand der oberen Goldelektrode entfernt sein – der Keramikrand bietet die visuelle Referenz für diesen Abstand. Empfohlene Bondparameter: 15-35gf Kraft, 40-100mW Ultraschall, 10-50ms Dauer.
  • Inspektion: Visuelle Inspektion nach dem Bonden bei 50-facher Vergrößerung. Verwerfen Sie Bonds mit >25% Padverformung, sichtbarer Kraterbildung oder Platzierung innerhalb von 25 µm vom Elektrodenrand. Überprüfen Sie, ob die untere Epoxid-Fillet innerhalb des Keramikrands enthalten ist – kein Epoxid auf den Chipseitenwänden sichtbar.
  • Lagerung: Waffel-Packs oder Gel-Packs in Stickstoff-gespültem Schrank bei 20-25°C, 40-60% RH. 1 Jahr garantierte Haltbarkeit; unbegrenzte Bodenlebensdauer bei ≤30°C/85%RH (MSL 1).

Wichtige Anwendungsbereiche

  • HF-Leistungsverstärkermodule: DC-Blockierung und Versorgungsumschaltung in GaN-on-SiC HEMT-Ausgangsstufen, die bei 28-50V Drainspannung arbeiten. Die 2,5*-Spannungsreserve und das COG/NPO-Dielektrikum bieten zuverlässigen Bypass ohne Kapazitätsabfall unter Volllast.
  • Phased-Array-Antennensysteme: 100pF Zwischenstufenkopplung mit niedrigem ESR und konsistenter Bondzugfestigkeit über Tausende von Bonds pro Array-Panel. Beidseitiger Rand ermöglicht vollautomatische Montage bei maximalem Durchsatz.
  • Optische Transceiver DC-Blöcke (100G/400G QSFP-DD): Extrem niedriges 0,15mm Profil passt in hermetische TOSA/ROSA-Moduldeckel. Geringer DF sorgt für minimale Signalintegritätsverschlechterung bei 25-56Gbaud PAM4-Datenraten.
  • Präzisionsinstrumentierungs-Front-Ends: Nahezu null TCC und VCC erhalten die Kalibriergenauigkeit über die Temperatur, ohne dass Software-Kompensationstabellen erforderlich sind.
  • Automobilradar & V2X-Kommunikation: -55°C bis +125°C volle parametrische Konformität deckt Unterhauben- und außenmontierte Elektronik ab, mit erheblicher Marge über die AEC-Q200 Klasse 1-Anforderungen hinaus.
  • IoT & Edge Computing HF-Module: Kompakte Grundfläche und Drahtbondintegration ermöglichen Chip-Scale-Co-Packaging mit Transceiver-ICs in platzbeschränkten Sensorknoten und Edge-Gateways.

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