| Markenname: | Hoan |
| Modellnummer: | HACC100S10V101 |
| Mindestbestellmenge: | 10 Stück |
| Zahlungsbedingungen: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union |
Die Entwicklung des HF-Moduls verläuft in einem vorhersehbaren Rhythmus: Konzept, Simulation, Prototyp, Test, Iteration.Jeder Tag, an dem Sie auf eine passive Komponente warten, ist ein Tag, an dem Ihr Design auf der Bank bleibt, anstatt vor Ihrem Kunden.. DieHACC100S10V101 a 10pF ±10%, 100V einseitiger einlagiger Keramikkondensator (SLC) wird durch eine reaktionsschnelle Prototyping- und Anpassungsinfrastruktur unterstützt, die Ihren Entwicklungszyklus von Monaten auf Wochen verkürzen soll.
Die HACC100S10V101 dient als Grundkonstruktion innerhalb einer breiteren konfigurierbaren Plattform.Diese Plattform ermöglicht es Ihnen, wichtige Parameter einzustellen und gleichzeitig den gleichen physischen Fußabdruck zu erhalten, Metallisierungssystem und Montageverfahren:
| Konfigurierbarer Parameter | Standards | Optional / benutzerdefiniert | Anmerkungen |
|---|---|---|---|
| Kapazität Toleranz | ± 10% | ± 5% (J-Toleranz) | Eine engere Toleranz verbessert die Genauigkeit des Netzwerks. |
| Dielektrische Art | Klasse I COG/NPO | Klasse II X7R (High-K) | COG/NPO für Null-TCC und Null-VCC; X7R für eine höhere Kapazitätdichte bei entspannten Stabilitätsanforderungen. |
| Kapazitätswert (Plattform) | 10pF | 5pF 500pF Bereich | Die Werte auf der Plattform teilen sich die gleiche Metallisierung und Fußabdruck. |
| Chip-Umriss | 00,50*0,50 mm | Benutzerdefinierte Seitenverhältnisse (Fabrik) | Rechteckige Formfaktoren für eingeschränkte Substrat-Layouts. |
| Rückseite | TiW-Pt-Au | Au-only (für spezielle AuSn), AuSn-Vorbestellung | Vorgelagene AuSn (3-5μm) ermöglichen die flüssigkeitsfreie euteptische Verstärkung ohne zusätzliche Lötvorformen. |
| Test- und Datenpaket | Standard-COC | S-Parameterdaten pro Los, C-V-Kurven, TCC-Grafiken | Vollständige Charakterisierungsberichte für Qualifikationspakete. |
Diese Konfigurationsmöglichkeit wird durch das einlagige Herstellungsprozess MIM (Metal-Insulator-Metal) auf einem hochresistenten Siliziumsubstrat ermöglicht.Im Gegensatz zu MLCCs, bei denen die Änderung der Kapazität die gesamte Multi-Layer-Elektroden-Stack-Konstruktion erfordert, die HACC-Plattform passt die Kapazität ausschließlich durch den Elektrodenbereich auf der Photolithographie-Maske an eine Designänderung, deren Umsetzung auf Waferebene Stunden, nicht Wochen in Anspruch nimmt.
Unser Schnellprototyping-Workflow ist für Geschwindigkeit konzipiert, ohne Qualität oder Rückverfolgbarkeit zu beeinträchtigen:
Bei Standardkatalogwerten (einschließlich des 10pF HACC100S10V101) werden Auswertungsproben innerhalb von 1-2 Wochen aus dem Lager geliefert.
Die modernen Lieferketten für Elektronik müssen mehrere sich überlappende regulatorische Rahmenbedingungen erfüllen, und passive Komponenten sind keine Ausnahme.Der HACC100S10V101 ist mit vollständiger Dokumentation zur Unterstützung der regulatorischen Vorlage Ihres Produkts hergestellt:
Die Konformitätsdokumentation ist nicht nachträglich, sie ist in das Los-Reisende-System integriert.HalogenanteilFür Kunden, die ISO 14001 oder kundenspezifische Qualitätsprüfungen durchlaufen, entfällt dieses Dokumentationspaket die Notwendigkeit unabhängiger Materialprüfungen.
Der HACC100S10V101 verfügt über eineEinseitig begrenzt (Marge)Diese einfache geometrische Eigenschaft bietet drei praktische Herstellungsvorteile:
| Parameter | Wert | Bedingungen |
|---|---|---|
| Kapazität | 10 pF ±10% (optional ±5%) | 1kHz, 1Vrms, 25°C |
| Nennspannung | 100 V Gleichstrom | Dauerbetrieb |
| DWV | > 250 V Gleichspannung (250% Nennwert) | 100%ige Produktionstest |
| ESR | < 0,1 Ω @ 1 GHz | mit einer Breite von nicht mehr als 15 mm |
| Betriebstemperatur | -55°C bis +125°C | Vollparametrisch |
| Dielektrische Optionen | COG/NPO (Klasse I) / X7R (Klasse II) | Anwendungsabhängig |
| Einhaltung der Vorschriften | RoHS, REACH, halogenfrei | Dokumentation pro Los |
Anmerkung zur MIL-STD-883-Konformität:Wire bond pull strength test übersteigt 3,0 g pro MIL-STD-883 Methode 2011.7, überprüft pro Wafer-Lot auf der Probe aus der Mitte und vier Eckenpositionen.
Kontaktieren Sie uns mit Ihren Zielspezifikationen für eine schnelle Machbarkeitsbewertung, Vorlaufzeitschätzung und Angebot.