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Capacitores MOS
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Capacitores MOS resistentes à umidade Perfil personalizado 30V 150 pF Capacitor chip de camada única para sem fio externo

Capacitores MOS resistentes à umidade Perfil personalizado 30V 150 pF Capacitor chip de camada única para sem fio externo

Marca: Hoan
Número do modelo: HACC151S30V101
Quantidade mínima: 10 peças
Condições de pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union
Informações pormenorizadas
Lugar de origem:
Shannxi, China
Certificação:
ISO 9001:2015, RoHS
Capacitância:
150pF ±10%
Classificação de tensão:
30V DC
ESL de chip intrínseco:
<0,05nH
SRF:
>5 GHz (com fio bond de 0,5 mm)
Tipo de montagem:
Fixação de matriz eutética/fio ligável
Destacar:

Capacitores MOS resistentes à humidade

,

Capacitor personalizado de 150 pF

,

Capacitor resistente à humidade de 150 pF

Descrição do produto

Capacitor MOS de Perfil Personalizado HACC151S30V101 150pF 30V Chip de Camada Única Resistente à Umidade para Sem Fio Externo


Capacitor MOS HACC151S30V101 Robusto ao Ambiente: Geometrias Personalizadas e 150pF Imune à Umidade

O HACC151S30V101 é um capacitor MOS de camada única de 150pF ±10% com classificação de 30V DC, compartilhando o mesmo substrato de silício float-zone, dielétrico de SiO₂ térmico e plataforma de metalização TiW-Au da série HACC. As dimensões do chip são 0,50 mm * 0,50 mm * 0,15 mm na configuração padrão, com proporções retangulares personalizadas disponíveis de até 4:1. O dispositivo é caracterizado para uso em ambientes onde a exposição à umidade, ciclagem térmica e flexibilidade do processo de montagem são considerações primárias de projeto.Aplicações TípicasEm microcircuitos híbridos e módulos multi-chip, a colocação de componentes em chip é frequentemente limitada pela área de fixação de die disponível entre dispositivos ativos, linhas de transmissão e recursos do substrato. Chips de capacitor quadrados padrão podem não se encaixar otimamente nesses espaços, forçando compromissos de layout. A plataforma HACC aborda isso através de geometria configurável:

Fatores de forma retangulares:

Ajustando a máscara de fotolitografia para o eletrodo superior e o passo da rua de corte, os chips podem ser fabricados com razões de comprimento para largura de 1:1 a 4:1. O valor da capacitância é definido independentemente pela área do eletrodo superior dentro da pegada do chip disponível. Por exemplo, um chip de 0,30 mm * 0,60 mm (proporção 2:1) pode acomodar a mesma capacitância de 150pF que o chip quadrado padrão de 0,50 mm, encaixando-se em uma tira estreita de fixação de die entre linhas de transmissão paralelas.

  • Opção de eletrodo com borda (margem):Em montagens que usam epóxi condutor preenchido com prata para fixação de die, há o risco de que o epóxi espremido de baixo do chip possa subir pela parede lateral e curto-circuitar o eletrodo superior ao substrato condutor. A variante com borda incorpora uma margem de SiO₂ não metalizada (tipicamente 25-50 µm de largura) ao redor do perímetro do eletrodo de ouro superior. Esta borda de cerâmica serve como uma barragem física, impedindo que qualquer filete de epóxi atinja a área do eletrodo ativo. A contrapartida é uma ligeira redução na área do eletrodo para um determinado tamanho de chip — tipicamente 10-20% dependendo da largura da margem — que é compensada por um aumento proporcional nas dimensões do chip para manter a capacitância alvo.
  • Opção de backside flutuante:Chips padrão têm um backside de ouro totalmente metalizado para fixação condutiva de die ao terra. Para aplicações que requerem um capacitor conectado em série (flutuante) — como blocos DC em série com um caminho de sinal onde nenhum terminal está aterrado — os chips podem ser fornecidos sem metalização no backside. O substrato de silício atua então como um suporte dielétrico de alta resistividade em vez de um terminal elétrico, e ambas as conexões são feitas via wire bonds para pads de eletrodo superior separados.Aplicações TípicasDentro de uma família de pegada de chip fixa, a capacitância pode ser ajustada escalando a área do eletrodo superior. Valores padrão na plataforma de 0,50 mm incluem 10pF, 22pF, 47pF, 100pF, 150pF e 220pF. Isso permite que uma rede de casamento de RF completa ou um conjunto de desacoplamento de bypass seja montado usando chips com dimensões idênticas, simplificando as ferramentas de montagem e a receita do processo.
  • 2. Imunidade à Umidade: Por que o SiO₂ Supera Dielétricos Cerâmicos e Poliméricos em Ambientes ÚmidosComponentes eletrônicos operando em ambientes não controlados enfrentam múltiplos mecanismos de degradação relacionados à umidade. O HACC151S30V101 é inerentemente resistente a todos eles através de seu sistema de materiais:
  • Absorção de água em massa — não aplicável:O SiO₂ térmico é um vidro silicato totalmente denso, sem porosidade, contornos de grão ou microvazios. Moléculas de água (diâmetro cinético ~0,27 nm) não podem penetrar a rede amorfa de SiO₂ a uma taxa praticamente relevante. Em comparação, dielétricos cerâmicos porosos e filmes poliméricos (polipropileno, poliéster, PPS) absorvem quantidades mensuráveis de água, o que aumenta a constante dielétrica efetiva e causa desvio da capacitância para cima. A série HACC mostra <0,1% de desvio de capacitância após 1000 horas a 85°C/85% UR com polarização DC de 30V.

Fuga superficial — minimizada pela geometria:

Em condições de umidade, uma fina película de água pode condensar em superfícies dielétricas expostas, criando um caminho condutor para a corrente de fuga superficial. Em capacitores cerâmicos, o dielétrico é exposto nas terminações do chip. Na estrutura HACC, o dielétrico de SiO₂ é totalmente sanduichado entre o eletrodo de ouro superior e o substrato de silício, com apenas a fina borda do chip (150 µm) expondo uma seção transversal dielétrica. O aumento da corrente de fuga após 500 horas a 85°C/85% UR com polarização é tipicamente inferior a 2* a linha de base seca — permanecendo abaixo de 20nA a 30V.

  • Migração eletroquímica — sem prata no sistema:Capacitores cerâmicos com eletrodos internos de prata-paládio são suscetíveis à migração de íons de prata sob polarização DC em condições de umidade. Íons de prata se dissolvem do eletrodo anódico, migram através da umidade adsorvida e se depositam como dendritos metálicos no cátodo, eventualmente causando um curto-circuito. O sistema de metalização HACC — TiW, Au e Pt — não contém prata. O ouro é eletroquimicamente nobre e não forma íons migratórios sob quaisquer condições práticas de polarização-umidade.Aplicações TípicasDe acordo com J-STD-020, o HACC151S30V101 é classificado como Nível de Sensibilidade à Umidade 1, indicando vida útil ilimitada em piso a ≤30°C/85% UR. Não é necessário armazenamento em embalagem seca, não é necessário assar antes da refusão e não é necessário rastreamento de exposição à umidade — simplificando o gerenciamento de estoque em ambientes de produção.Aplicações TípicasLotes de produção são qualificados através de uma matriz de teste ambiental padronizada. Os seguintes resultados são típicos para a série HACC:Teste
  • CondiçãoDuraçãoAplicações TípicasVida Operacional em Alta Temperatura (HTOL)
  • 125°C, polarização DC de 30V1000 horas
  • ΔC < 1%, fuga < 2* inicialCiclagem de Temperatura

-65°C a +150°C, ar-para-ar

500 ciclos

ΔC < 2%, sem danos mecânicos Umidade com Polarização 85°C/85% UR, 30V DC 500 horas
ΔC < 0,5%, fuga < 2* inicial Armazenamento em Alta Temperatura Formatos de envio: Padrão: waffle pack condutor (2 polegadas, 50 ou 100 cavidades). Opcional: gel-pak para coleta automática a vácuo, fita e rolo (transportador de 8mm) para montagem compatível com SMT de alto volume. Todos os formatos são ESD-safe.ΔC < 1%Solda eutética AuSn (80Au/20Sn, pico de 280-320°C, atmosfera de gás formador) fornece a menor resistência térmica e a maior resistência mecânica. Epóxi condutor preenchido com prata (como Epotek H20E, cura a 150°C por 1 hora) é uma alternativa para substratos sensíveis à temperatura — a camada de barreira Pt na metalização do backside impede a formação de intermetálicos prata-ouro durante a cura do epóxi e a operação subsequente em alta temperatura.
25µm Au, puxamento destrutivo Pós-estresse >5gf mínimo, modo de quebra de calcanhar Padrão: waffle pack condutor (2 polegadas, 50 ou 100 cavidades). Opcional: gel-pak para coleta automática a vácuo, fita e rolo (transportador de 8mm) para montagem compatível com SMT de alto volume. Todos os formatos são ESD-safe.Die de 1mm², eutético AuSn
Pós-estresse >2,5kgf 4. Compatibilidade do Processo de Montagem Padrão: waffle pack condutor (2 polegadas, 50 ou 100 cavidades). Opcional: gel-pak para coleta automática a vácuo, fita e rolo (transportador de 8mm) para montagem compatível com SMT de alto volume. Todos os formatos são ESD-safe.Métodos de fixação de die:Solda eutética AuSn (80Au/20Sn, pico de 280-320°C, atmosfera de gás formador) fornece a menor resistência térmica e a maior resistência mecânica. Epóxi condutor preenchido com prata (como Epotek H20E, cura a 150°C por 1 hora) é uma alternativa para substratos sensíveis à temperatura — a camada de barreira Pt na metalização do backside impede a formação de intermetálicos prata-ouro durante a cura do epóxi e a operação subsequente em alta temperatura.
Wire bonding: Bonding de bola Au termossônico (fio de 25µm, estágio de 120-150°C, força de 25-35gf, ultrassom de 80-120mW) produz força de puxamento típica >6gf com modo de falha de quebra de calcanhar. Bonding de cunha Al ultrassônico (fio de 25µm ou 33µm Al-1%Si, temperatura ambiente, força de 20-30gf, ultrassom de 100-150mW) está disponível para processos que não toleram estágios aquecidos. Múltiplos fios de bond em um único pad reduzem a indutância proporcionalmente a 1/N. Formatos de envio: Padrão: waffle pack condutor (2 polegadas, 50 ou 100 cavidades). Opcional: gel-pak para coleta automática a vácuo, fita e rolo (transportador de 8mm) para montagem compatível com SMT de alto volume. Todos os formatos são ESD-safe.Armazenamento:
Vida útil ilimitada em piso a ≤30°C/85% UR (MSL 1). Armazenamento a longo prazo recomendado: gabinete de nitrogênio seco ou saco de barreira de umidade selado a vácuo com dessecante. Principais Características Indutância Parasita Próxima de Zero: Padrão quadrado (0,50 mm), retangular até proporção 4:1. Opção de eletrodo com borda para montagem com epóxi condutor. Opção de backside flutuante para aplicações conectadas em série. Múltiplos valores de capacitância na mesma família de pegada.
Excelente Resistência à Umidade: SiO₂ térmico denso com zero absorção de água em massa. <0,1% de desvio de capacitância após 1000h a 85°C/85% UR. Sem risco de migração de prata. Vida útil ilimitada em piso MSL 1. Indutância Parasita Próxima de Zero:

Confiabilidade Ambiental Comprovada:

Qualificado através de 1000h HTOL, 500 ciclos de ciclagem de temperatura e 500h de umidade com polarização. Puxamento de bond pós-estresse >5gf e cisalhamento de die >2,5kgf.

  • Montagem Multi-Processo:Compatível com fixação de die eutética AuSn e epóxi condutor de Ag. Suporta wire bonding de bola Au e cunha Al. Disponível em waffle pack, gel-pak ou fita e rolo.
  • Especificações Elétricas (T = 25°C, a menos que indicado o contrário)Parâmetro
  • ValorCondição de Teste
  • Capacitância150pF ±10%

1MHz, 1,0Vrms

  • Tolerâncias Disponíveis±10% (K), ±5% (J)
  • Tensão DC NominalAplicações TípicasContínuoRigidez Dielétrica
  • >100V DCRampa de 1 minuto, 25°CESL Intrínseca do Chip<0,05nH
  • Desempenhado a partir de S-parâmetroSRF (com fio de bond de 0,5 mm)
  • >5GHzTípico

Fator Q @ 1MHz

>2000 Típico Corrente de Fuga @ 25°C
<10nA 30V DC Fuga @ 85°C/85% UR, 500h
<20nA Medido a 25°C pós-exposição
+35ppm/°C -55°C a +125°C Desvio de Capacitância (85°C/85% UR, 1000h)
<0,1% Polarização DC de 30V durante o teste Nível de Sensibilidade à Umidade
MSL 1 J-STD-020, vida útil ilimitada em piso Dielétrico
SiO₂ Térmico Dimensões do Chip (Padrão)
Si float-zone, >1000 Ω·cm Dimensões do Chip (Padrão)
0,50 * 0,50 * 0,15 mm ±0,025 mm; AR personalizado disponível Metalização Superior
TiW (100nm) + Au (mínimo de 2,5 µm) Metalização do Backside
TiW-Pt-Au, Au mínimo de 1,0 µm Barreira de Pt para epóxi Ag Entre em contato com nossa equipe de vendas com suas especificações alvo para uma avaliação de viabilidade, estimativa de prazo de entrega e cotação.
-55°C a +125°C Temperatura de Armazenamento
-65°C a +150°C RoHS
Conforme EU 2015/863Aplicações Típicas
Unidades de controle eletrônico automotivo (ECU) expostas à ciclagem térmica sob o capô, spray de sal de estrada e umidade de condensação Nós de sensor IoT industrial em ambientes de fábrica ou agrícolas não condicionados
Dispositivos vestíveis médicos sujeitos a transpiração e umidade corporal Módulos de RF multi-chip que requerem um conjunto casado de valores de capacitância em uma pegada de chip uniforme para montagem automatizada Circuitos híbridos onde proporções retangulares de chip permitem layout de substrato eficiente sem área de fixação de die desperdiçada
Pedido e Configuração Personalizada O produto padrão é enviado como chips quadrados de 0,50 mm * 0,50 mm em waffle packs condutores. As seguintes configurações personalizadas estão disponíveis mediante solicitação com quantidades mínimas de pedido tipicamente a partir de 1.000 peças:
Eletrodo com borda (margem): especifique a largura da margem de 25 µm a 75 µm Backside flutuante (sem metal no backside) Valores de capacitância não padrão na faixa de 10pF-1000pF na plataforma de 0,50 mm
Embalagem gel-pak ou fita e rolo (transportador de 8 mm ou 12 mm) Entre em contato com nossa equipe de vendas com suas especificações alvo para uma avaliação de viabilidade, estimativa de prazo de entrega e cotação.