| Marca: | Hoan |
| Número do modelo: | HACC151S30V101 |
| Quantidade mínima: | 10 peças |
| Condições de pagamento: | L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union |
O HACC151S30V101 é um capacitor MOS de camada única de 150pF ±10% com classificação de 30V DC, compartilhando o mesmo substrato de silício float-zone, dielétrico de SiO₂ térmico e plataforma de metalização TiW-Au da série HACC. As dimensões do chip são 0,50 mm * 0,50 mm * 0,15 mm na configuração padrão, com proporções retangulares personalizadas disponíveis de até 4:1. O dispositivo é caracterizado para uso em ambientes onde a exposição à umidade, ciclagem térmica e flexibilidade do processo de montagem são considerações primárias de projeto.Aplicações TípicasEm microcircuitos híbridos e módulos multi-chip, a colocação de componentes em chip é frequentemente limitada pela área de fixação de die disponível entre dispositivos ativos, linhas de transmissão e recursos do substrato. Chips de capacitor quadrados padrão podem não se encaixar otimamente nesses espaços, forçando compromissos de layout. A plataforma HACC aborda isso através de geometria configurável:
Ajustando a máscara de fotolitografia para o eletrodo superior e o passo da rua de corte, os chips podem ser fabricados com razões de comprimento para largura de 1:1 a 4:1. O valor da capacitância é definido independentemente pela área do eletrodo superior dentro da pegada do chip disponível. Por exemplo, um chip de 0,30 mm * 0,60 mm (proporção 2:1) pode acomodar a mesma capacitância de 150pF que o chip quadrado padrão de 0,50 mm, encaixando-se em uma tira estreita de fixação de die entre linhas de transmissão paralelas.
Em condições de umidade, uma fina película de água pode condensar em superfícies dielétricas expostas, criando um caminho condutor para a corrente de fuga superficial. Em capacitores cerâmicos, o dielétrico é exposto nas terminações do chip. Na estrutura HACC, o dielétrico de SiO₂ é totalmente sanduichado entre o eletrodo de ouro superior e o substrato de silício, com apenas a fina borda do chip (150 µm) expondo uma seção transversal dielétrica. O aumento da corrente de fuga após 500 horas a 85°C/85% UR com polarização é tipicamente inferior a 2* a linha de base seca — permanecendo abaixo de 20nA a 30V.
500 ciclos
| ΔC < 2%, sem danos mecânicos | Umidade com Polarização | 85°C/85% UR, 30V DC | 500 horas |
| ΔC < 0,5%, fuga < 2* inicial | Armazenamento em Alta Temperatura | Formatos de envio: | Padrão: waffle pack condutor (2 polegadas, 50 ou 100 cavidades). Opcional: gel-pak para coleta automática a vácuo, fita e rolo (transportador de 8mm) para montagem compatível com SMT de alto volume. Todos os formatos são ESD-safe.ΔC < 1%Solda eutética AuSn (80Au/20Sn, pico de 280-320°C, atmosfera de gás formador) fornece a menor resistência térmica e a maior resistência mecânica. Epóxi condutor preenchido com prata (como Epotek H20E, cura a 150°C por 1 hora) é uma alternativa para substratos sensíveis à temperatura — a camada de barreira Pt na metalização do backside impede a formação de intermetálicos prata-ouro durante a cura do epóxi e a operação subsequente em alta temperatura. |
| 25µm Au, puxamento destrutivo | Pós-estresse | >5gf mínimo, modo de quebra de calcanhar | Padrão: waffle pack condutor (2 polegadas, 50 ou 100 cavidades). Opcional: gel-pak para coleta automática a vácuo, fita e rolo (transportador de 8mm) para montagem compatível com SMT de alto volume. Todos os formatos são ESD-safe.Die de 1mm², eutético AuSn |
| Pós-estresse | >2,5kgf | 4. Compatibilidade do Processo de Montagem | Padrão: waffle pack condutor (2 polegadas, 50 ou 100 cavidades). Opcional: gel-pak para coleta automática a vácuo, fita e rolo (transportador de 8mm) para montagem compatível com SMT de alto volume. Todos os formatos são ESD-safe.Métodos de fixação de die:Solda eutética AuSn (80Au/20Sn, pico de 280-320°C, atmosfera de gás formador) fornece a menor resistência térmica e a maior resistência mecânica. Epóxi condutor preenchido com prata (como Epotek H20E, cura a 150°C por 1 hora) é uma alternativa para substratos sensíveis à temperatura — a camada de barreira Pt na metalização do backside impede a formação de intermetálicos prata-ouro durante a cura do epóxi e a operação subsequente em alta temperatura. |
| Wire bonding: | Bonding de bola Au termossônico (fio de 25µm, estágio de 120-150°C, força de 25-35gf, ultrassom de 80-120mW) produz força de puxamento típica >6gf com modo de falha de quebra de calcanhar. Bonding de cunha Al ultrassônico (fio de 25µm ou 33µm Al-1%Si, temperatura ambiente, força de 20-30gf, ultrassom de 100-150mW) está disponível para processos que não toleram estágios aquecidos. Múltiplos fios de bond em um único pad reduzem a indutância proporcionalmente a 1/N. | Formatos de envio: | Padrão: waffle pack condutor (2 polegadas, 50 ou 100 cavidades). Opcional: gel-pak para coleta automática a vácuo, fita e rolo (transportador de 8mm) para montagem compatível com SMT de alto volume. Todos os formatos são ESD-safe.Armazenamento: |
| Vida útil ilimitada em piso a ≤30°C/85% UR (MSL 1). Armazenamento a longo prazo recomendado: gabinete de nitrogênio seco ou saco de barreira de umidade selado a vácuo com dessecante. | Principais Características | Indutância Parasita Próxima de Zero: | Padrão quadrado (0,50 mm), retangular até proporção 4:1. Opção de eletrodo com borda para montagem com epóxi condutor. Opção de backside flutuante para aplicações conectadas em série. Múltiplos valores de capacitância na mesma família de pegada. |
| Excelente Resistência à Umidade: | SiO₂ térmico denso com zero absorção de água em massa. <0,1% de desvio de capacitância após 1000h a 85°C/85% UR. Sem risco de migração de prata. Vida útil ilimitada em piso MSL 1. | Indutância Parasita Próxima de Zero: |
Qualificado através de 1000h HTOL, 500 ciclos de ciclagem de temperatura e 500h de umidade com polarização. Puxamento de bond pós-estresse >5gf e cisalhamento de die >2,5kgf.
| >2000 | Típico | Corrente de Fuga @ 25°C |
| <10nA | 30V DC | Fuga @ 85°C/85% UR, 500h |
| <20nA | Medido a 25°C pós-exposição | |
| +35ppm/°C | -55°C a +125°C | Desvio de Capacitância (85°C/85% UR, 1000h) |
| <0,1% | Polarização DC de 30V durante o teste | Nível de Sensibilidade à Umidade |
| MSL 1 | J-STD-020, vida útil ilimitada em piso | Dielétrico |
| SiO₂ Térmico | — | Dimensões do Chip (Padrão) |
| Si float-zone, >1000 Ω·cm | — | Dimensões do Chip (Padrão) |
| 0,50 * 0,50 * 0,15 mm | ±0,025 mm; AR personalizado disponível | Metalização Superior |
| TiW (100nm) + Au (mínimo de 2,5 µm) | — | Metalização do Backside |
| TiW-Pt-Au, Au mínimo de 1,0 µm | Barreira de Pt para epóxi Ag | Entre em contato com nossa equipe de vendas com suas especificações alvo para uma avaliação de viabilidade, estimativa de prazo de entrega e cotação. |
| -55°C a +125°C | — | Temperatura de Armazenamento |
| -65°C a +150°C | — | RoHS |
| Conforme | EU 2015/863Aplicações Típicas | |
| Unidades de controle eletrônico automotivo (ECU) expostas à ciclagem térmica sob o capô, spray de sal de estrada e umidade de condensação | Nós de sensor IoT industrial em ambientes de fábrica ou agrícolas não condicionados | |
| Dispositivos vestíveis médicos sujeitos a transpiração e umidade corporal | Módulos de RF multi-chip que requerem um conjunto casado de valores de capacitância em uma pegada de chip uniforme para montagem automatizada | Circuitos híbridos onde proporções retangulares de chip permitem layout de substrato eficiente sem área de fixação de die desperdiçada |
| Pedido e Configuração Personalizada | O produto padrão é enviado como chips quadrados de 0,50 mm * 0,50 mm em waffle packs condutores. As seguintes configurações personalizadas estão disponíveis mediante solicitação com quantidades mínimas de pedido tipicamente a partir de 1.000 peças: | |
| Eletrodo com borda (margem): especifique a largura da margem de 25 µm a 75 µm | Backside flutuante (sem metal no backside) | Valores de capacitância não padrão na faixa de 10pF-1000pF na plataforma de 0,50 mm |
| Embalagem gel-pak ou fita e rolo (transportador de 8 mm ou 12 mm) | Entre em contato com nossa equipe de vendas com suas especificações alvo para uma avaliação de viabilidade, estimativa de prazo de entrega e cotação. | |