| Nom De La Marque: | Hoan |
| Numéro De Modèle: | HACC-CUSTOM-DV |
| Quantité Minimale De Commande: | 10 pièces |
| Conditions De Paiement: | LC, D/A, D/P, T/T, Western Union |
Le HACC-CUSTOM-DV étend la plage de tension du condensateur MOS à couche unique grâce à une épaisseur diélectrique conçue.Le diélectrique standard SiO2 cultivé thermiquement (50 ‰ 5000 Å) supporte des tensions nominales allant jusqu'à 500 VPour des besoins de tension plus élevés,une architecture diélectrique empilée combinant SiO2 avec des couches SiN ou Al2O3 à haute k contrôlées par contrainte pour atteindre des tensions nominales allant jusqu'à 1000 V tout en maintenant la densité de capacitéLa tension de résistance diélectrique (DWV) est vérifiée à 250 à 300% de la tension nominale sur chaque plaquette, et la durée de vie de la rupture diélectrique dépendante du temps (TDDB) dépasse 10 ans à température nominale maximale.Tolérance d'épaisseur de ± 2% au niveau de la gaufre et ± 1% à l'intérieur du matériau, vérifiée par ellipsométrie spectroscopique sur chaque plaquette.
L'architecture MOS à couche unique sans air élimine les risques de délamination et de décharge partielle associés aux condensateurs céramiques multicouches (CCCM) à gradients de haute tension.Contrairement aux MLCC où les bords des électrodes internes concentrent des champs électriques, la structure planure métal-isolant-semiconducteur du condensateur MOS offre une distribution uniforme du champ sur toute la surface du condensateur un avantage essentiel pour la fiabilité à haute tension.
Le HACC-CUSTOM-DV peut accueillir tout flux d'assemblage en aval avec trois options de livraison, sélectionnables individuellement par lot de production ou mélangées par wafer split:
Les emballages mixtes par exemple, 50% d'une gaufre sous forme de gel-pak et 50% sous forme de gaufre sont pris en charge sans requalification,offrant une flexibilité maximale pour les transitions du prototype à la production ou les flux d'assemblage sur plusieurs sites.
Comme pour tous les produits HACC-CUSTOM, le dopage du substrat est un paramètre de conception: profils N+ ou P+ avec une résistivité de 0,001 à 1000 Ohm·cm,Optimisé pour la tension de rupture cible (BVdss) et le compromis de résistance en sérieLa caractéristique C-V peut être façonnée pour la capacité plate ou le comportement du vecteur à pente contrôlée.
| Paramètre | Valeur |
|---|---|
| Capacité | 5pF ¥ 10 000pF |
| Épaisseur diélectrique | 50 ‰ 5000 Å, SiO2/SiN/Al2O3 |
| Rating de la tension | Unité d'alimentation électrique |
| Résistance diélectrique | 250 à 300% de la valeur nominale, TDDB > 10 ans |
| Résistance du substrat | 0.001 1000 Ω·cm, N+/P+ sur mesure |
| Le TCC | < 30 ppm/°C |
| RSE | < 0,1 Ω à 1 GHz |
| Métallisation supérieure | TiW-Au, pré-dépôt auSn al-métallisé |
| Options de livraison | Le niveau de la gaufre, le gel-pack, le paquet de gaufres |
| Température de fonctionnement | -55°C à +125°C |
Contactez-nous pour connaître vos besoins en tension, vos spécifications diélectriques et votre format de livraison.