dettagli dei prodotti

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Condensatori MOS
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Capacitante a strato di legame di filo a passo di alta capacità per multi-gigabit

Capacitante a strato di legame di filo a passo di alta capacità per multi-gigabit

Marchio: Hoan
Numero di modello: HACC-CUSTOM-ES
MOQ: 10 pezzi
Termini di pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shanxi, Cina
Certificazione:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Densità della trappola dell'interfaccia:
1e10 cm^-2 eV^-1
Tipo di pacchetto:
Forma di morire
Tipo di substrato:
Silicio di tipo P
Corrente di perdita:
1 Na
Tensione di rottura:
10 v
Gamma di frequenza:
Da 1kHz a 1MHz
Larghezza del portone:
10 µm
Intervallo di temperatura:
Da -40°C a 125°C
Concentrazione di drogaggio del substrato:
1e15 cm^-3
Capacità:
1 PF
Lunghezza del cancello:
1 μm
spessore dell'ossido:
10nm
Tensione operativa:
0 - 5 V
Materiale delle porte:
Polisiliconico
Materiale dielettrico:
Biossido di silicio (SiO2)
Evidenziare:

Capacitore a legame di filo a passo di capacità fine

,

Condensatore ad alta capacità di sintonizzazione di precisione

,

Capacitore di sintonizzazione di filo di precisione

Descrizione di prodotto

Condensatore MOS personalizzato a bassissima ESR, multi-gigabit, con passo di capacità fine e superficie ottimizzata per wire bond


HACC-CUSTOM-ES: Condensatore MOS a bassissima ESR per SERDES multi-gigabit con passo di capacità fine e superficie ottimizzata per wire bond

Ultra-bassa ESR ingegnerizzata per collegamenti multi-gigabit

I condensatori di blocco DC SERDES (Serializer/Deserializer) multi-gigabit richiedono requisiti stringenti di resistenza serie equivalente (ESR). A 10 Gbps e oltre, anche 0,1 Ohm di ESR contribuiscono alla perdita di inserzione, alla chiusura dell'occhio e al jitter deterministico. L'HACC-CUSTOM-ES raggiunge un'ESR <0,05 Ohm a 10 GHz e <0,02 Ohm a 40 GHz attraverso tre ottimizzazioni di progettazione simultanee:

  • Elettrodo superiore in oro spesso 3-5 µm: La ridotta resistenza di foglio minimizza il contributo dell'effetto pelle alle frequenze a microonde, mantenendo una bassa ESR su tutta la larghezza di banda Nyquist multi-gigabit.
  • Layout dell'elettrodo multi-finger: I percorsi di corrente paralleli distribuiscono la corrente RF, eliminando l'affollamento di corrente ai bordi dell'elettrodo — il principale meccanismo di guasto dell'ESR nei progetti a singolo finger.
  • Substrato a bassa resistività (Si N+, <0,01 Ohm·cm): Minimizza la resistenza serie nella regione del semiconduttore, garantendo che il substrato non sia il collo di bottiglia dell'ESR.

L'ESR è verificata per banda di frequenza: <0,05 Ohm da 1-10 GHz, <0,1 Ohm da 10-20 GHz e <0,15 Ohm da 20-40 GHz — fornendo ai progettisti margini ESR garantiti per la loro specifica velocità dati SERDES.

Passo di capacità ultra-fine e regolazione di valore di precisione

La regolazione dei collegamenti seriali ad alta velocità richiede valori di capacità precisi — non solo all'interno di una banda di tolleranza, ma al valore esatto ottimizzato tramite simulazione. L'HACC-CUSTOM-ES offre un passo di capacità di incremento minimo di 1 pF con risoluzione laser-trimmabile fino a 0,1 pF, raggiungendo ±2% del valore target. Disponibile in una serie a passo fine (1p, 2p, 3p, 5p, 7p, 10p, 15p, 22p, 33p, 47p, 68p, 100p) da 0,5 pF a 1000 pF. Ogni die viene sottoposto a misurazione della capacità in situ con feedback laser a ciclo chiuso e la verifica dei parametri S post-trim conferma il valore della capacità nell'ambiente RF effettivo — non solo alla frequenza del misuratore LCR di 1 MHz.

Metallizzazione superficiale ottimizzata per wire bond

L'affidabilità del wire bond negli assemblaggi ad alta velocità è determinata dalla qualità della metallizzazione superiore. L'HACC-CUSTOM-ES presenta una metallizzazione superficiale in oro spessa 3 µm con <50 nm Ra di rugosità superficiale e struttura a grani controllata — raggiungendo una resistenza allo strappo superiore a 3,0 g sia su diametri di filo da 25 µm che da 18 µm, compatibile con entrambi i processi di saldatura a cuneo e a sfera. La superficie controllata minimizza la variabilità della deformazione del legame e garantisce un'impedenza di contatto elettrico costante su tutti i legami in un modulo multi-die.

Specifiche chiave

Parametro Valore
ESR a 10 GHz <0,05 Ohm
ESR a 40 GHz <0,02 Ohm
Passo di capacità Minimo 1 pF, risoluzione laser trim 0,1 pF
Intervallo di capacità Serie a passo fine da 0,5 pF–1000 pF
Elettrodo superiore TiW-Au spesso 3–5 µm
Rugosità superficiale <50 nm Ra Au
Resistenza allo strappo del wire bond >3,0 g (filo da 25 µm e 18 µm)
Fattore Q ≥50 a 10 GHz, ≥30 a 40 GHz
SRF >20 GHz tipico
Temperatura operativa -55°C a +125°C

Applicazioni

  • Blocco DC SERDES PAM4/NRZ — ESR <0,05 Ohm per margine occhio 56/112 Gbps, distribuzione uniforme della corrente multi-finger
  • Filtraggio di bias dell'amplificatore a transimpedenza (TIA) — precisione laser trim 0,1 pF, parametri S verificati post-trim per un posizionamento esatto del polo del filtro
  • Interposer per moduli fotonici ad alta velocità — ottimizzato per wire bond Au da 3 µm, compatibile con eutettico AuSn, superficie Ra 50 nm per un'impedenza di legame costante
  • Reti di bias DSP ottici coerenti — serie a passo fine da 1 pF da 0,5 pF–1000 pF, regolazione di valore di precisione a ±2% per un peso esatto della capacità del tap DSP

Contattateci con i vostri requisiti di ESR, valore di capacità e wire bond. I condensatori MOS personalizzati a bassissima ESR con regolazione a passo di precisione vengono spediti in 5–7 giorni lavorativi.