| Nom De La Marque: | Hoan |
| Numéro De Modèle: | HACC221S15V500 |
| Quantité Minimale De Commande: | 10 pièces |
| Conditions De Paiement: | LC, D/A, D/P, T/T, Western Union |
Le HACC221S15V500 est un condensateur céramique miniature ultra-haute tension à couche unique avec bordure unilatérale (SLC) conçu pour le blocage DC à large bande, le couplage RF et le filtrage de dérivation micro-ondes dans les microcircuits hybrides haute tension fonctionnant dans les bandes Ku, K et Ka. Offrant 220 pF ±10% de capacité avec une tension continue nominale élevée de 50 V DC et >125 V de tension de claquage (250 % nominal), ce condensateur est conditionné dans un boîtier de 15 mil × 15 mil (0,38 mm × 0,38 mm) avec un profil ultra-bas de 0,15 mm (6 mil). Conçu pour un fonctionnement fiable de 0,5 GHz à 40,0 GHz dans les bandes micro-ondes UHF à Ka, le HACC221S15V500 est spécialement conçu pour le découplage de polarisation de drain des amplificateurs de puissance HEMT GaN-on-SiC, les filtres de charge utile de satellites LEO/MEO, les modules T/R de radar à réseau phasé, et l'infrastructure 5G mmWave où une tension de fonctionnement de 50 V avec une marge de claquage >125 V et une SRF millimétrique sont simultanément requises.
Fabriqué avec un diélectrique céramique ultra-stable de classe I COG/NPO (C0G/NP0) optimisé pour une résistance diélectrique élevée (>50 V/μm) et une stabilité de température de classe I, ce condensateur maintient sa capacité dans ±0,3 % sur une plage de -55°C à +125°C. L' inductance série équivalente (ESL) ultra-faible <35 pH) — obtenue grâce à une géométrie d'électrode coaxiale à couche unique — repousse la première auto-résonance série au-delà de 25 GHz, garantissant une dérivation et un blocage DC propres et sans résonance sur toute la bande Ku (12-18 GHz), la bande K (18-27 GHz) et jusqu'à la bande Ka (27-40 GHz) avec montage flip-chip. L' architecture à bordure unilatérale avec une marge isolante en céramique autour de l'électrode supérieure en or empêche la remontée d'époxy conducteur lors de la fixation de la puce. L'électrode supérieure est dotée de TiW-Au avec un minimum de 4,0 μm d'Au pour un câblage robuste. L'électrode inférieure utilise TiW-Pt-Au avec une barrière de diffusion en platine (Pt) complètement insoluble dans la soudure eutectique AuSn, éliminant les défaillances de décapage de l'or lors de l'assemblage par refusion à haute température.
Les condensateurs céramiques multicouches (MLCC) atteignent une capacité élevée en empilant des couches d'électrodes alternées, mais chaque électrode interne ajoute à la fois une résistance ohmique (due à de fines électrodes en nickel) et une inductance parasite (provenant du chemin de courant en serpentin à travers les vias). Le HACC221S15V500 élimine ces deux sources de perte grâce à sa structure coaxiale à couche unique : le courant circule directement du plot de connexion Au supérieur, à travers le diélectrique COG/NPO, jusqu'au plan de masse Au inférieur — un chemin de seulement 0,15 mm.
Dans les réseaux de polarisation de drain des amplificateurs de puissance GaN et la distribution d'alimentation des charges utiles de satellites, le condensateur de blocage DC doit résister non seulement à la tension de fonctionnement nominale (typiquement 28-50 V pour GaN) mais aussi aux transitoires de tension, aux réflexions de désadaptation de charge et aux ondulations d'alimentation — le tout à des températures de jonction élevées approchant 125°C. Le HACC221S15V500 est conçu avec une marge de dérating conservatrice de 2,5×: 50 V nominal, >125 V de claquage, testé à 100 %.
Le HACC221S15V500 atteint une tension nominale de 50 V dans un boîtier de 0,38 × 0,38 × 0,15 mm — une densité de puissance volumique qu'aucun condensateur céramique multicouche ne peut égaler. Ceci est rendu possible par une formulation céramique COG/NPO à haute constante diélectrique propriétaire qui offre simultanément une stabilité de température de classe I, une résistance diélectrique >50 V/μm, et une permittivité suffisante pour atteindre 220 pF dans un boîtier de 15 mil. La géométrie coaxiale à couche unique élimine le besoin d'électrodes internes, de vias et de zones de marge qui consomment du volume sans contribuer à la capacité dans les conceptions MLCC.
| Catégorie de spécifications | Nom du paramètre technique | Valeurs garanties | Conditions de test / mesure |
|---|---|---|---|
| Spécifications électriques | Capacité nominale | 220 pF ±10% | 1 kHz, 1,0 Vrms, 25°C, 0 V de polarisation DC |
| Spécifications électriques | Tension de travail nominale (DC) | 50 V | Tension continue maximale, -55°C à +125°C |
| Spécifications électriques | Tension de tenue diélectrique | >125 V (250 % nominal) | Temps de maintien de 5 secondes, test de production à 100 % |
| Spécifications électriques | Facteur de dissipation (DF) | ≤2,0% | 1 kHz, 1,0 Vrms, 25°C |
| Spécifications électriques | Résistance d'isolement (IR) | ≥104 MΩ | À 50 V DC, 25°C |
| Spécifications électriques | ESR (Résistance série équivalente) | <0,15 Ω @ 1 GHz | Monté sur alumine de 10 mil, câblé |
| Spécifications électriques | ESL (Inductance série équivalente) | <35 pH | Chemin de courant coaxial à couche unique |
| Spécifications électriques | Bande de fréquence recommandée | 0,5 - 40,0 GHz | Blocage DC à large bande et dérivation RF |
| Spécifications électriques | Fréquence d'auto-résonance (SRF) | >25 GHz (câblage), >35 GHz (flip-chip) | Monté sur substrat d'alumine de 10 mil |
| Température | Plage de température de fonctionnement | -55°C à +125°C | Qualité industrielle et défense, paramétrique complète |
| Température | Coefficient de température (TCC) | 0 ±30 ppm/°C | Classe I COG/NPO, -55°C à +125°C |
| Géométrie physique | Dimensions extérieures | 0,38 × 0,38 × 0,15 mm | 15 × 15 × 6 mil, ±25 μm |
| Architecture de conception | Style de condensateur | Bordure unilatérale | Marge en céramique sur l'électrode supérieure |
| Empilement de métallisation | Électrode supérieure | TiW-Au (≥4,0 μm Au) | Plot de câblage ultra-épais, pulvérisé |
| Empilement de métallisation | Électrode inférieure | TiW-Pt-Au (≥2,5 μm Au) | Barrière Pt, pulvérisée |
| Fiabilité | Durée de vie TDDB (projetée) | >10 ans @ 50 V, 125°C | Modèle E JEDEC JESD92 |
| Processus d'assemblage | Adhésion de montage | Époxy / Eutectique AuSn / Ag fritté | H20E, AuSn 80/20, frittage Ag |
| Processus d'assemblage | Connexion d'interconnexion | Câblage fil/ruban Au — ou Flip-Chip | Câblage thermosonique fil Au 18-25 μm |
| Fiabilité et stockage | Conditions de stockage | 20-25°C, 40%-60% HR, armoire N2 | Durée de conservation de 1 an |
| Facteur d'ingénierie | HACC221S15V500 (SLC 15 mil) | SLC 30 mil 220pF 50V | MLCC COG 0402 220pF 50V | MLCC COG 0603 220pF 50V |
|---|---|---|---|---|
| Empreinte | 0,38 × 0,38 mm | 0,76 × 0,76 mm (4× plus grand) | 1,0 × 0,5 mm (3,5× plus grand) | 1,6 × 0,8 mm (8,9× plus grand) |
| ESL | <35 pH | <50 pH | ~300 pH | ~500 pH |
| SRF | >25 GHz | >15 GHz | ~2,5 GHz | ~1,5 GHz |
| ESR @ 1 GHz | <0,15 Ω | <0,2 Ω | ~0,8 Ω | ~0,5 Ω |
| Tension nominale | 50 V (BV >125 V) | 50 V | 50 V | 50 V |
| TCC | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C |
| Méthode d'intégration | Câblage au niveau de la puce | Câblage au niveau de la puce | Soudure CMS sur PCB | Soudure CMS sur PCB |
| ESL d'interconnexion totale | <85 pH (puce + fil de liaison) | <100 pH | >700 pH (condensateur + plots + vias) | >900 pH |
| Bande passante utilisable | DC-40 GHz | DC-30 GHz | DC-2,5 GHz | DC-1,5 GHz |
| Parasites d'assemblage | Minimal (connexion directe) | Minimal | Significatif (plots + vias + piste) | Très significatif |
Le HACC221S15V500 utilise un système de métallisation à couches minces sous vide asymétrique et à haute fiabilité qui est optimisé indépendamment pour les interfaces supérieure (câblage) et inférieure (fixation de puce) :
| Côté électrode | Couche métallique | Matériau | Épaisseur | Fonction métallurgique |
|---|---|---|---|---|
| Électrode supérieure | Couche d'adhérence | TiW | Base pulvérisée | Forme une liaison chimique stable et bloquant l'oxygène avec la céramique COG/NPO, empêchant la délaminage Au-céramique lors des cycles thermiques. Le TiW est choisi par rapport au Ti pur pour sa résistance supérieure à l'oxydation et sa stabilité thermique jusqu'à 400°C. |
| Finition de câblage | Au | ≥4,0 μm | Or pur 99,99 % ultra-épais. L'épaisseur de 4,0 μm fournit un tampon mécanique ductile qui absorbe 40-100 mW d'énergie de liaison ultrasonique sans transmettre de contrainte dommageable au substrat céramique. Essentiel pour un câblage fiable sur des puces de 15 mil où le plot de connexion ne mesure que 80 μm × 80 μm. | |
| Électrode inférieure | Couche d'adhérence | TiW | Base pulvérisée | Adhérence de base symétrique à la surface céramique inférieure. |
| Barrière de diffusion | Pt | Barrière pulvérisée | Barrière de platine — 100 % insoluble dans la soudure AuSn. Pendant la fixation de puce eutectique à 300-320°C, les électrodes Au standard sans Pt sont dissoutes par l'AuSn fondu en quelques secondes. Le Pt est thermodynamiquement immunisé contre ce mécanisme — il ne se dissout pas et ne forme pas d'intermétalliques avec Sn ou Au aux températures de soudure. | |
| Finition de soudure / époxy | Au | ≥2,5 μm | Compatible avec l'époxy conducteur argenté (Epotek H20E), les préformes eutectiques AuSn (80/20) et la fixation de puce Ag fritté pour les applications à haute température (>300°C). |
Il existe un compromis de conception délibéré entre la capacité et la tension nominale sur la plateforme de 15 mil. Le HACC221S15V500 (220 pF / 50 V) utilise une couche diélectrique COG/NPO légèrement plus épaisse par rapport à la variante 330 pF / 25 V, échangeant une certaine densité de capacité contre une résistance diélectrique plus élevée. La capacité varie inversement avec l'épaisseur du diélectrique (C = εε0A / d), tandis que la tension de claquage varie linéairement (VBD = EBD × d). C'est un choix de conception intentionnel : 220 pF est la capacité maximale réalisable à 50 V nominal dans un boîtier de 15 mil en utilisant la formulation COG/NPO actuelle tout en maintenant la marge de claquage de 2,5× (>125 V DWV). Pour les applications nécessitant une capacité plus élevée à basse tension, le HACC331S15V250 de 330 pF / 25 V est disponible dans le même boîtier de 15 mil.
La TDDB est le mécanisme de défaillance à long terme dominant pour les condensateurs céramiques utilisés sous forte polarisation DC et température élevée — exactement les conditions dans la distribution d'alimentation des charges utiles de satellites et les réseaux de polarisation de drain des PA GaN. Contrairement au claquage instantané (tests DWV), qui détecte les défauts grossiers, la TDDB est un phénomène d'usure: sous contrainte de champ électrique soutenue à haute température, les vacances d'oxygène à l'échelle atomique dans le réseau COG/NPO migrent, s'accumulent sur les sites de défauts et forment finalement un filament de percolation conducteur qui court-circuite les électrodes. C'est un processus statistique — les appareils du même lot de plaquettes tomberont en panne à des moments différents selon une distribution Weibull.
Méthodologie de validation : Le diélectrique du HACC221S15V500 est caractérisé par des tests TDDB à tension constante selon la norme JEDEC JESD92. Plusieurs populations de condensateurs sont soumises à des tensions accélérées (75 V, 100 V, 125 V) et des températures (125°C, 150°C, 175°C) jusqu'à la rupture. Les temps de défaillance sont ajustés à une distribution Weibull, et le modèle E (modèle de dégradation thermochimique) est utilisé pour extraire le facteur d'accélération du champ (γ) et l'énergie d'activation thermique (Ea). Ces paramètres sont ensuite utilisés pour projeter la durée de vie dans les conditions d'utilisation (50 V, 125°C). La projection de >10 ans à 50 V/125°C est basée sur zéro défaillance dans des conditions accélérées avec une borne de confiance de 90 %. Des rapports de qualification TDDB complets avec des tracés Weibull, des facteurs d'accélération et des paramètres du modèle E sont disponibles sous NDA.
Pour le fonctionnement en bande Ka (27-40 GHz), l'assemblage flip-chip est fortement recommandé. La raison : à 35 GHz, la réactance inductive d'un fil de liaison de 50 pH est d'environ j11 Ω — comparable à la réactance capacitive du condensateur de 220 pF (-j21 Ω à 35 GHz). Cette inductance supplémentaire abaisse la SRF effective et introduit un déphasage dépendant de la fréquence qui complique l'étalonnage de la formation de faisceaux des réseaux phasés. Le montage flip-chip élimine complètement le fil de liaison, réduisant l'ESL totale à <25 pH and pushing the effective SRF to>