| Markenname: | Hoan |
| Modellnummer: | HACC221S15V500 |
| Mindestbestellmenge: | 10 Stück |
| Zahlungsbedingungen: | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union |
Der HACC221S15V500 ist ein Hochspannungs-, ultra-miniaturer Einseitig Randbedeckter Einlagiger Keramikkondensator (SLC) entwickelt für Breitband-DC-Blockierung, RF-Kopplung und Mikrowellen-Bypass-Filterung in Hochspannungs-Hybrid-Mikroschaltungen, die im Ku-, K- und Ka-Band arbeiten. Mit 220 pF ±10% Kapazität mit einer erhöhten Dauerbelastbarkeit von 50 V DC und >125 V Durchbruchspannung (250 % Nennspannung), ist dieser Kondensator in einem 15 mil × 15 mil (0,38 mm × 0,38 mm) Footprint mit einem extrem niedrigen Profil von 0,15 mm (6 mil) untergebracht. Entwickelt für zuverlässigen Betrieb von 0,5 GHz bis 40,0 GHz über UHF bis Ka-Mikrowellenbänder, ist der HACC221S15V500 speziell für GaN-on-SiC HEMT Leistungsverstärker-Drain-Bias-Entkopplung, LEO/MEO Satelliten-Nutzlastfilter, Phased-Array-Radar-T/R-Module und 5G mmWave-Infrastruktur konzipiert, wo 50 V Betriebsspannung mit >125 V Durchbruchreserve und Millimeterwellen-SRF gleichzeitig erforderlich sind minimiert wird.
Hergestellt mit Klasse I COG/NPO (C0G/NP0) ultra-stabilem Keramikdielektrikum optimiert für hohe dielektrische Festigkeit (>50 V/μm) und Klasse I Temperaturstabilität, behält dieser Kondensator seine Kapazität innerhalb von ±0,3 % über -55°C bis +125°C bei. Die extrem niedrige äquivalente Serieninduktivität (ESL <35 pH) — erreicht durch eine einlagige koaxiale Elektrodengeometrie — verschiebt die erste Serienresonanz über 25 GHz, was eine saubere, resonanzfreie Bypass- und DC-Blockierung über das gesamte Ku-Band (12-18 GHz), K-Band (18-27 GHz) und bis in das Ka-Band (27-40 GHz) mit Flip-Chip-Montage gewährleistet. Die einseitig randbedeckte Architektur mit einem keramischen Isolationsrand um die obere Goldelektrode verhindert das Aufsteigen von leitfähigem Epoxidharz während des Die-Attachs. Die obere Elektrode verfügt über TiW-Au mit mindestens 4,0 μm Au für schwere Drahtbondverbindungen. Die untere Elektrode verwendet TiW-Pt-Au mit einer Platin (Pt) Diffusionsbarriere, die in AuSn Eutektiklot vollständig unlöslich ist, wodurch Gold-Scavenging-Fehler während der Hochtemperatur-Reflow-Montage vermieden werden.
Mehrlagige Keramikkondensatoren (MLCCs) erreichen hohe Kapazitäten durch Stapeln abwechselnder Elektrodenschichten, aber jede interne Elektrode fügt sowohl ohmsche Widerstände (aufgrund dünner Nickelelektroden) als auch parasitäre Induktivität (durch den serpentinen Strompfad über Vias) hinzu. Der HACC221S15V500 eliminiert beide Verlustquellen durch seine einlagige Koaxialstruktur: Der Strom fließt direkt vom oberen Au-Bondpad durch das COG/NPO-Dielektrikum zur unteren Au-Massefläche — ein Pfad von nur 0,15 mm minimiert wird.
In GaN-Leistungsverstärker-Drain-Bias-Netzwerken und Satelliten-Nutzlast-Stromverteilung muss der DC-Blockierungskondensator nicht nur der nominalen Betriebsspannung (typischerweise 28-50 V für GaN) standhalten, sondern auch Spannungsspitzen, Lastfehlanpassungsreflexionen und Versorgungsrippeln — alles bei erhöhten Sperrschichttemperaturen nahe 125°C. Der HACC221S15V500 ist mit einer konservativen 2,5-fachen Derating-Reserve ausgelegt: 50 V Nennspannung, >125 V Durchbruch, 100 % getestet.
Der HACC221S15V500 erreicht 50 V Nennspannung in einem 0,38 × 0,38 × 0,15 mm Gehäuse — eine volumetrische Leistungsdichte, die kein mehrlagiger Keramikkondensator erreichen kann. Dies wird durch eine proprietäre Hoch-K COG/NPO-Keramikformulierung ermöglicht, die gleichzeitig Klasse I Temperaturstabilität, >50 V/μm Dielektrikumsfestigkeit und ausreichende Permittivität liefert, um 220 pF in einem 15 mil Footprint zu erreichen. Die einlagige koaxiale Geometrie eliminiert die Notwendigkeit interner Elektroden, Vias und Randbereiche, die Volumen verbrauchen, ohne zur Kapazität in MLCC-Designs beizutragen.
| Spezifikationskategorie | Technischer Parametername | Garantierte Werte | Test-/Messbedingungen |
|---|---|---|---|
| Elektrische Spezifikationen | Nennkapazität | 220 pF ±10% | 1 kHz, 1,0 Veff, 25°C, 0 V DC-Vorspannung |
| Elektrische Spezifikationen | Nennbetriebsspannung (DC) | 50 V | Maximale Dauerbelastbarkeit, -55°C bis +125°C |
| Elektrische Spezifikationen | Dielektrische Spannungsfestigkeit | >125 V (250 % Nennspannung) | 5 Sek. Haltezeit, 100 % Produktionstest |
| Elektrische Spezifikationen | Verlustfaktor (DF) | ≤2,0% | 1 kHz, 1,0 Veff, 25°C |
| Elektrische Spezifikationen | Isolationswiderstand (IR) | ≥104 MΩ | Bei 50 V DC, 25°C |
| Elektrische Spezifikationen | ESR (Äquivalenter Serienwiderstand) | <0,15 Ω @ 1 GHz | Montiert auf 10 mil Aluminiumoxid, drahtgebunden |
| Elektrische Spezifikationen | ESL (Äquivalente Serieninduktivität) | <35 pH | Einlagiger koaxialer Strompfad |
| Elektrische Spezifikationen | Empfohlener Frequenzbereich | 0,5 - 40,0 GHz | Breitband-DC-Blockierung und RF-Bypass |
| Elektrische Spezifikationen | Eigenresonanzfrequenz (SRF) | >25 GHz (Drahtbond), >35 GHz (Flip-Chip) | Montiert auf 10 mil Aluminiumoxid-Substrat |
| Temperatur | Betriebstemperaturbereich | -55°C bis +125°C | Industrie- & Militärgrad, voll parametrisch |
| Temperatur | Temperaturkoeffizient (TCC) | 0 ±30 ppm/°C | COG/NPO Klasse I, -55°C bis +125°C |
| Physikalische Geometrie | Außenmaße | 0,38 × 0,38 × 0,15 mm | 15 × 15 × 6 mil, ±25 μm |
| Konstruktionsarchitektur | Kondensatortyp | Einseitig Randbedeckt | Keramischer Rand auf oberer Elektrode |
| Metallisierungsschicht | Obere Elektrode | TiW-Au (≥4,0 μm Au) | Ultra-dicker Drahtbondpad, gesputtert |
| Metallisierungsschicht | Untere Elektrode | TiW-Pt-Au (≥2,5 μm Au) | Pt-Barriere, gesputtert |
| Zuverlässigkeit | TDDB-Lebensdauer (Prognostiziert) | >10 Jahre @ 50 V, 125°C | JEDEC JESD92 E-Modell |
| Montageprozesse | Montagehaftung | Epoxid / AuSn Eutektikum / Gesintertes Ag | H20E, AuSn 80/20, Ag-Sintern |
| Montageprozesse | Verbindungsanschluss | Au-Draht/Band — oder Flip-Chip | Thermosonisches Bonding 18-25 μm Au-Draht |
| Zuverlässigkeit & Lagerung | Lagerbedingungen | 20-25°C, 40%-60% RH, N2-Schrank | 1 Jahr Haltbarkeit |
| Konstruktionsfaktor | HACC221S15V500 (15 mil SLC) | 30 mil 220pF 50V SLC | 0402 220pF 50V COG MLCC | 0603 220pF 50V COG MLCC |
|---|---|---|---|---|
| Footprint | 0,38 × 0,38 mm | 0,76 × 0,76 mm (4× größer) | 1,0 × 0,5 mm (3,5× größer) | 1,6 × 0,8 mm (8,9× größer) |
| ESL | <35 pH | <50 pH | ~300 pH | ~500 pH |
| SRF | >25 GHz | >15 GHz | ~2,5 GHz | ~1,5 GHz |
| ESR @ 1 GHz | <0,15 Ω | <0,2 Ω | ~0,8 Ω | ~0,5 Ω |
| Spannungsnennwert | 50 V (BV >125 V) | 50 V | 50 V | 50 V |
| TCC | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C |
| Integrationsmethode | Die-Level-Drahtbond | Die-Level-Drahtbond | PCB SMD Lötung | PCB SMD Lötung |
| Gesamt-Interconnect-ESL | <85 pH (Die + Bonddraht) | <100 pH | >700 pH (Kondensator + Pads + Vias) | >900 pH |
| Nutzbare Bandbreite | DC-40 GHz | DC-30 GHz | DC-2,5 GHz | DC-1,5 GHz |
| Montage-Parasiten | Minimal (direkter Bond) | Minimal | Signifikant (Pads + Vias + Leiterbahn) | Sehr signifikant |
Der HACC221S15V500 verwendet ein asymmetrisches, hochzuverlässiges Vakuum-gesputtertes Dünnschicht-Metallisierungssystem, das unabhängig für die obere (Drahtbond) und untere (Die-Attach) Schnittstelle optimiert ist:
| Elektrodenseite | Metallschicht | Material | Dicke | Metallurgische Funktion |
|---|---|---|---|---|
| Obere Elektrode | Haftschicht | TiW | Gesputterte Basis | Bildet eine stabile, sauerstoffblockierende chemische Bindung zum COG/NPO-Keramik, verhindert Au-Keramik-Delamination während thermischer Zyklen. TiW wird gegenüber reinem Ti wegen seiner überlegenen Oxidationsbeständigkeit und thermischen Stabilität bis zu 400°C gewählt. |
| Drahtbond-Finish | Au | ≥4,0 μm | Ultra-dicker 99,99 % reiner Gold. Die 4,0 μm Dicke bietet einen duktilen mechanischen Puffer, der 40-100 mW Ultraschall-Bondenergie absorbiert, ohne schädliche Spannungen auf das Keramiksubstrat zu übertragen. Wesentlich für zuverlässiges Drahtbonden auf 15 mil Dies, wo das Bondpad nur 80 μm × 80 μm groß ist. | |
| Untere Elektrode | Haftschicht | TiW | Gesputterte Basis | Symmetrische Basisbindung zur unteren Keramikoberfläche. |
| Diffusionsbarriere | Pt | Gesputterte Barriere | Platinbarriere — 100 % unlöslich in AuSn-Lot. Während des eutektischen Die-Attachs bei 300-320°C werden Standard-Au-Elektroden ohne Pt innerhalb von Sekunden von geschmolzenem AuSn aufgelöst. Pt ist thermodynamisch immun gegen diesen Mechanismus — es löst sich weder auf noch bildet es bei Löttemperaturen intermetallische Verbindungen mit Sn oder Au. | |
| Lot-/Epoxid-Finish | Au | ≥2,5 μm | Kompatibel mit leitfähigem Silber-Epoxid (Epotek H20E), AuSn (80/20) Eutektikum-Vorformen und gesintertem Ag-Die-Attach für Hochtemperatur- (>300°C) Anwendungen. |
Es gibt einen bewussten Design-Kompromiss zwischen Kapazität und Spannungsnennwert auf der 15 mil Plattform. Der HACC221S15V500 (220 pF / 50 V) verwendet eine etwas dickere COG/NPO-Dielektrikumsschicht im Vergleich zur 330 pF / 25 V Variante, was eine geringere Kapazitätsdichte für höhere dielektrische Festigkeit eintauscht. Die Kapazität skaliert umgekehrt mit der Dielektrikumdicke (C = εε0A / d), während die Durchbruchspannung linear skaliert (VBD = EBD × d). Dies ist eine absichtliche Designentscheidung: 220 pF ist die maximale Kapazität, die bei 50 V Nennspannung in einem 15 mil Footprint erreichbar ist mit der aktuellen COG/NPO-Formulierung unter Beibehaltung der 2,5-fachen Durchbruchreserve (>125 V DWV). Für Anwendungen, die eine höhere Kapazität bei niedrigerer Spannung erfordern, ist der 330 pF / 25 V HACC331S15V250 im gleichen 15 mil Footprint erhältlich.
TDDB ist der dominierende Langzeit-Ausfallmechanismus für Keramikkondensatoren, die bei hoher DC-Vorspannung und erhöhter Temperatur betrieben werden — genau die Bedingungen in der Stromverteilung von Satellitennutzlasten und GaN PA-Drain-Bias-Netzwerken. Im Gegensatz zum sofortigen Durchbruch (DWV-Tests), der grobe Defekte erkennt, ist TDDB ein Verschleißphänomen: Unter anhaltender elektrischer Feldbeanspruchung bei hoher Temperatur wandern atomare Sauerstoffleerstellen im COG/NPO-Gitter, sammeln sich an Defektstellen an und bilden schließlich einen leitfähigen Perkolationsfaden, der die Elektroden kurzschließt. Dies ist ein statistischer Prozess — Geräte aus demselben Wafer-Lot fallen zu unterschiedlichen Zeiten nach einer Weibull-Verteilung aus.
Validierungsmethodik: Das HACC221S15V500-Dielektrikum wird mittels konstanter Spannungs-TDDB-Tests gemäß JEDEC JESD92 charakterisiert. Mehrere Populationen von Kondensatoren werden bei beschleunigten Spannungen (75 V, 100 V, 125 V) und Temperaturen (125°C, 150°C, 175°C) bis zum Durchbruch belastet. Die Ausfallzeiten werden einer Weibull-Verteilung zugeordnet, und das E-Modell (thermochemisches Durchbruchmodell) wird verwendet, um den Feld-Beschleunigungsfaktor (γ) und die thermische Aktivierungsenergie (Ea) zu extrahieren. Diese Parameter werden dann verwendet, um die Lebensdauer unter Einsatzbedingungen (50 V, 125°C) zu projizieren. Die >10-jährige Projektion bei 50 V/125°C basiert auf null Ausfällen unter beschleunigten Bedingungen mit einer 90 %-Konfidenzgrenze. Vollständige TDDB-Qualifizierungsberichte mit Weibull-Diagrammen, Beschleunigungsfaktoren und E-Modell-Parametern sind unter NDA erhältlich.
Für Ka-Band-Betrieb (27-40 GHz) wird die Flip-Chip-Montage dringend empfohlen. Die Begründung: Bei 35 GHz beträgt die induktive Reaktanz eines 50 pH Bonddrahts etwa j11 Ω — vergleichbar mit der kapazitiven Reaktanz des 220 pF Kondensators (-j21 Ω bei 35 GHz). Diese zusätzliche Induktivität verschiebt die effektive SRF nach unten und führt zu einer frequenzabhängigen Phasenverschiebung, die die Kalibrierung von Phased-Array-Beamforming erschwert. Die Flip-Chip-Montage eliminiert den Bonddraht vollständig und reduziert die gesamte ESL auf <25 pH and pushing the effective SRF to>