Detalles de los productos

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Condensador de una sola capa
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470pF 20V MOS condensador SiO2 condensador dieléctrico de baja fuga para circuitos de RF

470pF 20V MOS condensador SiO2 condensador dieléctrico de baja fuga para circuitos de RF

Nombre De La Marca: Hoan
Número De Modelo: HACC471S20V500
Cantidad Mínima De Pedido: 10 piezas
Condiciones De Pago: T/T, L/C, PayPal, Western Union
Información detallada
Lugar de origen:
Shaanxi, China
Certificación:
ISO 9001:2015
Capacidad:
470pF
Clasificación de voltaje:
20 V de corriente continua
Coeficiente de temperatura (VCC):
< 50 ppm/V
Temperatura de funcionamiento:
-55°C a +125°C
Tamaño de chip:
0,5x0,5mm
sustrato:
Silicio de alta resistividad
Resaltar:

Capacitador MOS de 470pF

,

Condensador MOS de 20 V

,

SiO2 condensador dieléctrico de baja fuga

Descripción de producto

HACC471S20V500 470pF 20V condensador MOS SiO2 Dielectrico para circuitos de RF

HACC471S20V500 470pF condensador MIM MOS de una sola capa de 20 V

ElSe aplicará el procedimiento de ensayo de la norma de calidad.es una precisiónCapacitador MOS de una sola capa de 470pF 20V MIM (Metal-Isolador-Metal)Fabricado con un sustrato de silicio de alta resistividad (> 1000 Ω·cm).Dieléctrico de SiO2y2Metalización de oro de 0,5 μm, este dispositivo está diseñado para aplicaciones de circuito integrado de RF, microondas y ondas milimétricas que exigen una estabilidad paramétrica excepcional, parásitos mínimos y reproducibilidad de grado de fundición.
con una densidad de capacitancia de aproximadamente1.88 fF/μm2en un compacto500 μm * 500 μmEn el caso de las matrices, el HACC471S20V500 logra la uniformidad de la capacitancia a nivel de oblea conσ < 2%, lo que lo hace ideal para topologías de circuitos diferenciales y sistemas de matriz en fase donde la coincidencia de canal a canal es crítica.

Principales especificaciones eléctricas

Parámetro Valor Condiciones
Capacidad 470 pF 1MHz, 0V de inclinación de la corriente continua, 25°C
Capacidad Tolerancia ± 5% (estándar), ± 2% (bajo petición) Nivel de la oblea
Voltagem nominal 20 V de corriente continua Funcionamiento continuo
Tensión de ruptura Las demás:(por ejemplo, 75 V) tensión nominal de 3* a 3,75*
Corriente de fuga El valor de las emisiones(por lo general 0,5nA) A 20 V de corriente continua, a 25 °C
Densidad de corriente de fuga El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero En tensión nominal
Factor Q > 200(tipo 280) 1MHz
Factor Q En el caso de las entidades de crédito 1 GHz
La resistencia de serie equivalente (ESR) < 0,5 Ω 1MHz
Inductancia de serie (ESL) pH < 50 Estructura de una sola capa
VCC (coeficiente de tensión) Se aplican las siguientes medidas:(por lo general 30 ppm/V) Desviación de 0-20V de corriente continua
TCC (coeficiente de temperatura) Se aplican las siguientes medidas:(por lo general 20 ppm/°C) -55°C a +125°C
Densidad de capacidad - 1,88 fF/μm2 Dieléctrico de SiO2
espesor dieléctrico ~ 20 nm SiO2 cultivado térmicamente
Temperatura de funcionamiento -55°C a +125°C Cumplimiento total de los parámetros

Características clave

  • Excelente uniformidad y estabilidad:Distribución de la capacitancia a nivel de obleas con σ < 2% en obleas de 200 mm, lo que permite un emparejamiento de impedancia consistente en módulos frontales de RF multicanal.Performance paramétrica estable verificada desde -55°C hasta +125°C con < 0Desviación de capacidad del 0,5% durante 1000 horas de ensayo HTOL a 125 °C.
  • Voltado de ruptura muy bajo y muy bajo:El dieléctrico de SiO2 producido térmicamente proporciona una corriente de fuga inferior a 1nA a un sesgo nominal de 20 V (equivalente a una densidad de corriente < 0,5 pA/μm2).proporcionando un margen de seguridad > 3* para un funcionamiento robusto en redes de sesgo de amplificadores de potencia y aplicaciones de bloqueo de CC.
  • Baja CCV y CCT:El coeficiente de voltaje inferior a 50 ppm/V y el coeficiente de temperatura inferior a 30 ppm/°C mantienen la precisión de la capacitancia a través de los sesgos y las variaciones de temperatura.filtros analógicos de precisión, y redes de tanques VCO donde la estabilidad de la capacidad determina directamente el rendimiento del sistema.

Tecnología y procesos

El HACC471S20V500 se fabrica con unaproceso de condensador MIM de una sola capaLas características clave del proceso incluyen:

  • 2Metalización de oro de 0,5 μm- baja resistencia de la lámina para una pérdida ohmica mínima, compatible con la unión de alambre de cuña y de esfera (estándar de alambre de oro de 25 μm)
  • Dieléctrico SiO2 producido térmicamente(~ 20 nm)
  • Substrato de silicio de alta resistencia(> 1000 Ω · cm) minimiza el acoplamiento del sustrato y las pérdidas de corriente de remolino a frecuencias de microondas
  • Estructura MIM de una sola capaInductividad de serie cercana a cero (< 50pH), eliminando la autorresonancia por debajo de 20 GHz
  • Opción de metalización en la parte posterior¥ disponible con Au o AuSn de metal de la parte trasera para el conductor de epoxi o eutectic die adjunta

Aplicaciones

  • Compatibilidad de la impedancia de RF:La precisión de 470pF con tolerancia ajustada permite redes de L-match, Pi-match y T-match precisas en módulos de amplificador de potencia, LNA y antenas de 100MHz a 6GHz.
  • Bloqueo de CC / acoplamiento AC:Las fugas ultrabajas y la avería de 60V+ lo hacen adecuado para el bloqueo de CC en redes T-bias y acoplamiento interetapa donde la integridad del aislamiento de CC es crítica.
  • Circuitos de muestra y retención:La baja CCV (< 50 ppm/V) y la baja absorción dieléctrica aseguran una caída de voltaje mínima y un error de pedestal en los extremos delanteros de los ADC de alta velocidad.
  • Resonadores de tanques de VCO:La baja TCC (<30ppm/°C) combinada con una alta Q (>200 a 1MHz) minimiza el ruido de fase y la deriva de frecuencia en osciladores controlados por voltaje.
  • Los filtros de la bomba de carga:La baja fuga preserva la precisión de la carga en filtros de bucle PLL y circuitos de condensadores conmutados.
  • Imágenes médicas:Adecuado para el ajuste del transductor de ultrasonido y el emparejamiento de la bobina del receptor de resonancia magnética donde la estabilidad paramétrica sobre la temperatura es esencial.

Calidad y fiabilidad

  • Prueba al 100% en el nivel de la oblea:Cada matriz probada para la capacitancia, la corriente de fuga a tensión nominal y la tensión de ruptura
  • Caracterización Q y ESR a nivel de muestra:Por oblea, por lote
  • Calificación de fiabilidad:HTOL (1000h @ 125°C, sesgo de 20V), HAST (96h @ 130°C/85%RH), TC (-55°C a +125°C, 500 ciclos)
  • Fabricación:Instalación certificada ISO 9001:2015, sala limpia de clase 100, trazabilidad completa del lote
  • Supervisión del RCP:Capacidad, fugas y voltaje de ruptura rastreados con control estadístico del proceso
  • Documentación:Certificado de conformidad y mapa de la oblea incluidos con cada envío

Información sobre la matriz y el embalaje

Parámetro Especificación
Tamaño de la matriz Se aplicarán las siguientes medidas:
El espesor de la matriz 250 μm ± 25 μm (estándar), 150 μm bajo petición
Metalización superior 2.5 μm Au, almohadilla de unión ≥ 80 μm * 80 μm
Metalización en el reverso Ninguno (estándar), Au o AuSn disponible
La pasivación Si3N4, sólo aberturas de almohadillas
Entrega de la muerta Envases de waffles o de cinta y rollo (bajo petición)
Muerte buena conocida (KGD) Disponible, consulte las especificaciones de la fábrica

Preguntas frecuentes

¿Cuál es la diferencia entre un condensador MIM y un condensador MOS?

A. NoCondensador MIM (Metal-Isolador-Metal)Utiliza una capa dieléctrica enclavada entre dos placas metálicas, ofreciendo una linealidad casi ideal con muy bajos VCC y TCC.Condensadores de MOS (óxido metálico-semiconductor)utiliza el sustrato semiconductor como una placa, que introduce una capacidad de capa de agotamiento en serie que varía con el voltaje de sesgo.Estructura del MIM, no un condensador MOS tradicional, que ofrece una linealidad y estabilidad superiores en comparación con los condensadores de acumulación / inversión MOS.La designación "MOS" refleja su compatibilidad con los procesos CMOS estándar de back-end de línea en obleas de silicio.

¿Cómo se compara el HACC471S20V500 con los condensadores MLCC de cerámica para aplicaciones de RF?

En comparación con los MLCC cerámicos de capacidad similar, el HACC471S20V500 ofrece: (1)ESL cerca de ceroLa "tecnología" de la "tecnología de la información" consiste en la obtención de información sobre las características de las tecnologías de la información y de la información, incluidas las características de las tecnologías de la información.TCC superiorLos componentes de los equipos de ensayo y de los equipos de ensayo y de ensayo de los equipos de ensayo y de los equipos de ensayo de los equipos de ensayo y de los equipos de ensayo de los equipos de ensayo y de los equipos de ensayo de los equipos de ensayo y de los equipos de ensayo de los equipos de ensayo y de los equipos de ensayo de los equipos de ensayo.efecto piezoeléctrico ceroNo se producirá ruido microfónico (4)Integración a nivel de la matrizpermitir interconexiones más cortas y una reducción de los parásitos en los módulos híbridos o multi-chip.

¿Está disponible el HACC471S20V500 como matriz conocida como buena (KGD)?

Sí, las opciones de KGD están disponibles con exámenes adicionales que incluyen: combustión prolongada, prueba eléctrica a 3 temperaturas (-55°C, +25°C, +125°C) e inspección visual según MIL-STD-883.Por favor, póngase en contacto con nuestro equipo de ventas para KGD especificaciones y precios.

¿Qué parámetros de unión de alambre se recomiendan?

Parámetros recomendados para el alambre de oro de 25 μm (1 mil): unión de cuña a una temperatura de 120-150 °C, fuerza de unión de 20-30 g, potencia ultrasónica de 60-80 mW; o unión de bola a 150 °C, fuerza de unión de 15-25 g,Potencia ultrasónica de 40 a 60 mW. La almohadilla de unión es de 2,5 μm Au, la apertura mínima de la almohadilla es de 80 μm * 80 μm.

¿Se puede utilizar el HACC471S20V500 por encima de 20 GHz?

Sí. Con una inductancia en serie inferior a 50pH, la frecuencia de auto-resonancia (SRF) está muy por encima de 30GHz. La estructura de una sola capa asegura un funcionamiento libre de resonancia a través de la banda Ka.Para aplicaciones de ondas milimétricas superiores a 30 GHz, se recomienda una simulación EM 3D completa utilizando nuestro modelo de parámetros S (disponible bajo petición) para tener en cuenta el montaje de parásitos.

Información sobre los pedidos

El HACC471S20V500 está disponible en volúmenes de producción con un tiempo de entrega estándar de 2-4 semanas.y los tamaños de las matrices están disponibles bajo peticiónContacte con nuestro equipo de ventas con su especificación de destino para una propuesta de diseño personalizado.
Para solicitar muestras, una hoja de datos o un presupuesto, póngase en contacto con nosotros hoy mismo.