| Nom De La Marque: | Hoan |
| Numéro De Modèle: | HACC331S15V160 |
| Quantité Minimale De Commande: | 10 pièces |
| Conditions De Paiement: | LC, D/A, D/P, T/T, Western Union |
Le HACC331S15V160 est un condensateur céramique multicouche à une seule couche (SLC) ultra-miniature, haute fiabilité à une seule couche bordé conçu pour le blocage DC ultra-large bande, le couplage RF et le filtrage de dérivation micro-ondes dans les microcircuits hybrides les plus contraints en espace. Fournissant 330 pF ±10% de capacité avec une tension nominale continue de 25 V DC élevée, ce dispositif est conditionné dans un format incroyablement compact de 15 mil × 15 mil (0,38 mm × 0,38 mm) avec une hauteur de profil ultra-faible de 0,15 mm (6 mil). Conçu pour un fonctionnement fiable de 0,1 GHz à 35,0 GHz sur les bandes micro-ondes UHF, L, S, C, X, Ku, K et Ka, le HACC331S15V160 est optimisé pour le découplage des amplificateurs de puissance GaN, les modules T/R à réseau phasé, les blocs DC de transceivers fibre optique et les convertisseurs montant/descendant de communication satellite où une fiabilité de connexion filaire supérieure sur une puce ultra-miniature est non négociable.
Fabriqué avec un diélectrique céramique ultra-stable de classe I COG/NPO (C0G/NP0), ce condensateur maintient une variation de capacité dans ±0,3% sur toute la plage de température de -55°C à +125°C. L'architecture à une seule couche bordé présente une marge céramique isolante nette autour de l'électrode dorée supérieure qui agit comme un barrage physique — empêchant la remontée d'époxy argenté conducteur ou la migration de soudure de court-circuiter le contact supérieur lors de la fixation de la puce automatisée. L'électrode supérieure utilise une métallisation TiW-Au ultra-épaisse avec une couche d'or minimale de 4,0 μm, fournissant un tampon mécanique exceptionnel pour la connexion filaire en or et la connexion par ruban thermosonique lourde. L'électrode inférieure utilise une pile TiW-Pt-Au où la couche barrière de platine (Pt) empêche le piégeage de l'or et la formation d'intermétalliques lors de la soudure eutectique AuSn à haute température ou du durcissement d'époxy argenté.
Sur un condensateur de puce de 15 mil (0,38 mm), la zone de connexion filaire est généralement de seulement 80 μm × 80 μm. Avec une métallisation standard <1,0-2,5 μm d'or flash, la connexion par coin ou par bille thermosonique peut transmettre de l'énergie ultrasonique à travers la fine couche d'or, fracturant le diélectrique céramique sous-jacent — un mode de défaillance latent connu sous le nom de "bonding-through" ou "cratering" qui échappe souvent au test électrique mais se manifeste par un circuit ouvert après cyclage thermique. Le HACC331S15V160 élimine ce mode de défaillance avec une couche d'or pur (Au) pulvérisée d'une épaisseur minimale de 4,0 μm sur une base d'adhérence TiW. Les avantages d'ingénierie incluent:
À 0,38 × 0,38 × 0,15 mm (15 × 15 × 6 mil), le HACC331S15V160 atteint la même capacité de 330 pF qu'un SLC standard de 30 mil dans un quart de la surface de la carte. Cette amélioration de densité 4× est rendue possible par une formulation céramique propriétaire ultra-mince à haute constante K COG/NPO qui maximise la capacité par unité de surface tout en maintenant la stabilité de température de classe I et la tension nominale de 25 V.
Le HACC331S15V160 est fabriqué avec un diélectrique céramique de classe I COG/NPO (C0G/NP0) — la référence en matière de condensateurs RF stables en température. Le coefficient de température de capacité (TCC) est spécifié comme 0 ±30 ppm/°C de -55°C à +125°C, ce qui signifie que la capacité varie de moins de ±0,3% sur toute la plage de température. En comparaison, les diélectriques de classe II X7R présentent une variation de ±15% sur la même plage — une différence de 50×.
| Catégorie de spécifications | Nom du paramètre technique | Valeurs garanties | Conditions de test / mesure |
|---|---|---|---|
| Spécifications électriques | Capacité nominale | 330 pF ±10% | 1 kHz, 1,0 Vrms, 25°C, polarisation DC 0 V |
| Spécifications électriques | Tension de fonctionnement nominale (DC) | 25 V | Tension continue maximale, -55°C à +125°C |
| Spécifications électriques | Tension de tenue diélectrique (DWV) | 62,5 V (250% nominal) | 5 sec de maintien, test de production à 100% |
| Spécifications électriques | Facteur de dissipation (DF) | ≤2,5% | 1 kHz, 1,0 Vrms, 25°C |
| Spécifications électriques | Résistance d'isolement (IR) | ≥104 MΩ | À tension DC nominale, 25°C |
| Spécifications électriques | Bande de fréquence recommandée | 0,1 - 35,0 GHz | Blocage DC large bande et dérivation RF |
| Spécifications électriques | Fréquence d'auto-résonance (SRF) | >20 GHz | Monté sur alumine de 10 mil, connexion filaire |
| Spécifications électriques | Inductance série équivalente (ESL) | <40 pH | Chemin de courant coaxial monocouche |
| Température | Plage de température de fonctionnement | -55°C à +125°C | Qualité industrielle , conformité paramétrique complète |
| Température | Coefficient de température (TCC) | 0 ±30 ppm/°C | -55°C à +125°C, COG/NPO Classe I |
| Géométrie physique | Dimensions extérieures | 0,38 × 0,38 × 0,15 mm | 15 × 15 × 6 mil, tolérance ±25 μm |
| Architecture de conception | Style de condensateur | À une seule couche bordé | Marge céramique isolante sur la surface supérieure |
| Pile de métallisation | Métallisation de l'électrode supérieure | TiW-Au (≥4,0 μm Au) | Tampon de connexion filaire ultra-épais, pulvérisé |
| Pile de métallisation | Métallisation de l'électrode inférieure | TiW-Pt-Au (≥2,5 μm Au) | Barrière de diffusion Pt, pulvérisée |
| Processus d'assemblage | Adhésion de montage | Époxy conducteur / Eutectique AuSn | Epotek H20E (120°C/30min) ou AuSn (300-320°C) |
| Processus d'assemblage | Connexion d'interconnexion | Connexion filaire / ruban d'or | Connexion thermosonique, fil d'or de 18-25 μm |
| Fiabilité et qualité | Température et humidité de stockage | 20-25°C, 40%-60% HR | Armoire à azote, environnement de salle blanche |
| Fiabilité et qualité | Durée de conservation garantie | 1 an | Dans des conditions de stockage optimales |
| Facteur de comparaison d'ingénierie |
HACC331S15V160 (SLC COG de 15 mil) |
SLC COG de 30 mil | MLCC COG 0402 | Condensateur MIM Si à film mince |
|---|---|---|---|---|
| Empreinte (L × l x) | 0,38 × 0,30 mm | 0,76 × 0,76 mm (4× plus grand) | 1,0 × 0,5 mm (3,5× plus grand) | 0,50 × 0,50 mm |
| Hauteur | 0,15 mm | 0,15 mm | 0,50 mm (3,3× plus haut) | 0,25 mm |
| Capacité | 330 pF / 25 V | 330 pF / 50 V | 330 pF / 50 V | 330 pF / 20 V |
| ESL (typique) | <40 pH | <50 pH | 300-500 pH | <50 pH |
| Fréquence d'auto-résonance | >20 GHz | >15 GHz | 1-3 GHz | >30 GHz |
| TCC | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C | <50 ppm/°C |
| Coefficient de polarisation DC | <10 ppm/V (négligeable) | <10 ppm/V | <10 ppm/V | <50 ppm/V |
| Protection contre la migration d'époxy | Excellent — électrode supérieure bordée | Modéré — dépend de la conception | N/A (soudé SMD) | Aucun (sans bordure) |
| Épaisseur d'or de connexion filaire | 4,0 μm (ultra-épaisse) | 2,5 μm (standard) | N/A | 2,5 μm |
| Niveau d'intégration | Niveau puce (connexion filaire) | Niveau puce | Niveau carte (SMD) | Niveau puce |
| Meilleure application | Hybride mmWave à plus haute densité | Modules hybrides haute tension | RF grand public niveau PCB | Intégration RF sur silicium |
Pour assurer une fiabilité maximale de la connexion filaire sur l'électrode supérieure et une résistance absolue à la migration de soudure sur l'électrode inférieure, le HACC331S15V160 utilise un système de métallisation à film mince pulvérisé asymétrique et haute fiabilité:
| Côté métallisation | Couche métallique | Matériau pulvérisé | Épaisseur de couche standard | Fonction métallurgique et valeur d'ingénierie |
|---|---|---|---|---|
| Contact supérieur | Adhésion et barrière | TiW (Titane-Tungstène) | Base pulvérisée | Fournit une liaison chimique très stable et bloquant l'oxygène au substrat céramique COG/NPO ; empêche la délamination or-céramique sous contrainte de cyclage thermique (-55°C à +125°C). |
| Finition de connexion | Au (Or) | ≥4,0 μm | Couche d'or ductile ultra-épaisse qui absorbe mécaniquement l'énergie de connexion filaire ultrasonique (40-100 mW) et la force de connexion (15-35 gf), éliminant complètement les modes de défaillance "bonding-through"/cratering. 2 à 4 fois plus épaisse que l'or flash standard de l'industrie de 1,0 à 2,5 μm. | |
| Contact inférieur | Adhésion et barrière | TiW (Titane-Tungstène) | Base pulvérisée | Liaison de base symétrique à la surface céramique inférieure ; chimie TiW identique au contact supérieur pour la simplicité du processus. |
| Barrière de diffusion | Pt (Platine) | Barrière pulvérisée | Couche barrière de platine (Pt) haute densité qui est complètement insoluble dans la soudure or-étain (AuSn) fondue. Lors de la fixation de puce eutectique à 300-320°C, les électrodes Au standard sans barrière Pt peuvent être complètement dissoutes ("piégées") par la soudure en quelques secondes, exposant la couche d'adhérence TiW qui s'oxyde immédiatement. La barrière Pt élimine entièrement ce mécanisme de défaillance. | |
| Finition de connexion | Au (Or) | ≥2,5 μm | Finition inférieure soudable et compatible avec l'époxy. Compatible avec l'époxy argenté conducteur (Epotek H20E), les préformes eutectiques AuSn (80/20) et la fixation de puce frittée Ag. |
Pour maximiser l'efficacité du blocage DC large bande et de la dérivation RF tout en prévenant les défaillances mécaniques ou électriques lors de l'assemblage de microcircuits hybrides, les ingénieurs de conception et de processus micro-ondes doivent suivre ces instructions techniques précises :
Sur les condensateurs de puce ultra-miniatures de 15 mil (0,38 mm), le pad de connexion filaire est extrêmement petit — typiquement 80 μm × 80 μm — ce qui concentre l'énergie de connexion ultrasonique dans une très petite zone. Avec une métallisation d'or standard de 1,0 à 2,5 μm, l'impulsion ultrasonique peut traverser la fine couche d'or et fracturer le diélectrique céramique sous-jacent, créant un défaut latent qui passe le test électrique mais échoue après cyclage thermique (un mode de défaillance connu sous le nom de "bonding-through" ou "cratérisation sous-jacente"). La couche d'or minimale de 4,0 μm du HACC331S15V160 offre un tampon mécanique 1,6 à 4 fois plus épais par rapport aux SLC standard de l'industrie, absorbant et distribuant l'énergie ultrasonique sur le volume d'or total plutôt que de la transmettre à l'interface céramique fragile. Le résultat est une fenêtre de processus de connexion large et à faible contrainte qui offre une force de traction constante >3,0 gf sur l'assemblage automatisé à haut volume.
Trois facteurs critiques de performance RF différencient le COG/NPO du X7R : (1) Stabilité de température : la variation du COG/NPO est de ±0,3% de -55°C à +125°C contre ±15% pour le X7R — une amélioration de 50×. Dans un circuit d'alimentation ou un réseau d'adaptation, un décalage de capacité de 15% désaccorderait le circuit de plusieurs centaines de MHz à la bande Ku. (2) Stabilité de polarisation DC : le X7R peut perdre 30 à 80% de sa capacité nominale sous polarisation DC car son diélectrique titanate de baryum est ferroélectrique. Le COG/NPO est parélectrique — la capacité est stable dans <10 ppmV from 0 to rated voltage. (3) Vieillissement : la capacité X7 décroît d'environ 3 à 5% par décade-heure en raison de la relaxation des domaines ferroélectriques. Le COG/NPO ne vieillit pas — un condensateur mesuré aujourd'hui aura la même capacité dans 10 ans. Pour les systèmes de défense et aérospatiaux avec des durées de vie de plusieurs décennies, cela élimine un mécanisme de dérive à long terme critique.
Lors de la fixation de puce eutectique AuSn (80/20) à 300-320°C, la soudure or-étain fondue agit comme un solvant d'or extrêmement agressif. Une électrode Au standard (<2,5 μm) sans couche barrière peut être complètement dissoute par la soudure en 3 à 5 secondes à température de refusion — exposant la couche d'adhérence TiW sous-jacente. Le TiW s'oxyde instantanément au contact de l'air ou de traces d'oxygène, formant une couche d'oxyde de tungstène à haute résistance qui compromet à la fois l'adhérence mécanique et la conductivité électrique. L'électrode inférieure du HACC331S15V160 comprend une couche barrière de platine (Pt) pulvérisée entre la base TiW et la finition Au. Le platine est complètement insoluble dans la soudure AuSn aux températures de refusion eutectique — il ne se dissout pas et ne forme pas d'intermétalliques. La couche Pt agit comme un bloc de diffusion impénétrable, préservant l'interface d'adhérence TiW et assurant une connexion de masse fiable et à faible résistance (<10 mΩ) sur plusieurs cycles de refusion, excursions thermiques et toute la durée de vie de la mission.